DNS SK-2000 BVPEU

Установка нанесения и проявления фоторезиста

• Установка нанесения и проявления фоторезиста для производственных процессов в полупроводниковой промышленности, производстве SiC / Si устройств питания, MEMS, LED, датчиков TSV и BSI…
• Диаметр пластин: 200 мм
• В составе установки:

– Coat/Develop Track: Размер 3970 мм х 2360 мм х 2780 мм, Вес 6500 кг

– Chemical Cabinet: Размер 780 мм х 1500 мм х 1950 мм, Вес 750 кг

– Canister Cabinet: Размер 500 мм х 1000 мм х 1100 мм, Вес 80 кг

– Controller Cabinet: Размер 780 мм х 1500 мм х 1950 мм, Вес 930 кг

– Handling Unit Controller: Размер 600 мм х 700 мм х 1800 мм, Вес 400 кг

– Power Supply Box: Размер 450 мм х 1050 мм х 1800 мм, Вес 315 кг

– Interface Box (IFB): Размер 655 мм х 1360 мм х 1980 мм, Вес 330 кг

– Source Bottle Cabinet: Размер 450 мм х 780 мм х 1160 мм, Вес 130 кг

– PTI Exh. Controller: Размер 462 мм х 254 мм х 439 мм, Вес 18 кг

– PTI Exh. Controller: Размер 462 мм х 254 мм х 439 мм, Вес 18 кг

– PTI Exh. Controller: Размер 462 мм х 254 мм х 439 мм, Вес 18 кг

– PTI Exh. Controller: Размер 462 мм х 254 мм х 439 мм, Вес 18 кг

– line PC: Вес 1 кг

• Автоматическая система с роботом
• Наличие SMIF интерфейса: Нет
• Энергоносители: 106кВА, азот UHP, сжатый воздух, вакуум, деионизованная вода, стоки…
• Вытяжная вентиляция: кислотная, щелочная, органическая, общеобменная
• Размещение на фундаменте: Coat/Develop Track
• Размеры (Д х Ш х В)