DNS SK-2000 BVPEU
Установка нанесения и проявления фоторезиста
- Установка нанесения и проявления фоторезиста для производственных процессов в полупроводниковой промышленности, производстве SiC / Si устройств питания, MEMS, LED, датчиков TSV и BSI…
- Диаметр пластин: 200 мм
- В составе установки:
– Coat/Develop Track: Размер 3970 мм х 2360 мм х 2780 мм, Вес 6500 кг
– Chemical Cabinet: Размер 780 мм х 1500 мм х 1950 мм, Вес 750 кг
– Canister Cabinet: Размер 500 мм х 1000 мм х 1100 мм, Вес 80 кг
– Controller Cabinet: Размер 780 мм х 1500 мм х 1950 мм, Вес 930 кг
– Handling Unit Controller: Размер 600 мм х 700 мм х 1800 мм, Вес 400 кг
– Power Supply Box: Размер 450 мм х 1050 мм х 1800 мм, Вес 315 кг
– Interface Box (IFB): Размер 655 мм х 1360 мм х 1980 мм, Вес 330 кг
– Source Bottle Cabinet: Размер 450 мм х 780 мм х 1160 мм, Вес 130 кг
– PTI Exh. Controller: Размер 462 мм х 254 мм х 439 мм, Вес 18 кг
– PTI Exh. Controller: Размер 462 мм х 254 мм х 439 мм, Вес 18 кг
– PTI Exh. Controller: Размер 462 мм х 254 мм х 439 мм, Вес 18 кг
– PTI Exh. Controller: Размер 462 мм х 254 мм х 439 мм, Вес 18 кг
– line PC: Вес 1 кг
- Автоматическая система с роботом
- Наличие SMIF интерфейса: Нет
- Энергоносители: 106кВА, азот UHP, сжатый воздух, вакуум, деионизованная вода, стоки…
- Вытяжная вентиляция: кислотная, щелочная, органическая, общеобменная
- Размещение на фундаменте: Coat/Develop Track
- Размеры (Д х Ш х В)
