Недорогая полностью автоматизированная компактная настольная установка плазменной очистки базового уровня для НИОКР, мелкосерийного производства, университетов; подложки до (4″x 5,5″)
Один горизонтальный электрод — 4,5″ x 6″; зазор — 2,5″
Генератор: 400Вт, 50кГц с плавным регулированием мощности
Регулировка газового потока: два ротаметра (0÷25) см3/мин с прецезионными игольчатыми клапанами, возможность использования двух газов одновременно
Система управления на базе ноутбука обеспечивает полностью автоматическое управление процессом; библиотека режимов технологических процессов; протоколирование данных/отклонений, аварийных ситуаций и многостадийных технологических маршрутов
Система управления включает компьютеризированные газовые клапаны для сверхточного и повторяемого контроля за уровнем потока газа, цифровые РРГ
Рабочая камера: 5,5″ x 7″ х 3,5″, материал – алюминий 6061-T6
Электроэнергия: 120В, 15А, 60Гц либо 220В, 14А, 50Гц