Shanghai Micro Electronics Equipment (Group) Co., Ltd. (SMEE)

Серия SSX600 (SSA600/20, SSC600/10, SSB600/10)

  • Установки проекционной сканирующей литографии для массового производства
  • Назначение: для проекционной иммерсионной глубокой УФ-литографии (DUV-литографии) с пошаговым сканированием для интегральных схем с топологическими размерами 90 нм (SSA600/20), 110 нм (SSC600/10) и 280 нм (SSB600/10)
  • Подложки: пластины ø8”, ø12”
  • Источники излучения: SSA600/20 – аргонфторидный (ArF) эксимерный лазер с длиной волны 193 нм; SSC600/10 – криптонфторидный (KrF) эксимерный лазер; SSB600/10 – i-линия спектра ртутной лампы
  • Проекционный объектив с четырехкратным уменьшением
  • Технология самоадаптивной фокусировки и выравнивания
  • Высокоскоростной и высокоточный столика-подложкодержатель с 6 степенями свободы

Серия SSB500 (SSB500, SSB520, SSB545)

  • Установки проекционной шаговой литографии (проекционные степперы) для массового производства
  • Назначение: для проекционной литографии в процессах производства микросхем и корпусов микросхем с современной упаковкой, 3D-TSV, MEMS/NEMS, OLED-TFT и т. д., в т. ч. для изготовления золотых выступов (Gold Bump) и выступов припоя (для процессов Flip Chip); с дополнительным модулем обратного выравнивания – для изготовления медных столбиков (Copper) и слоев перераспределения (RDL) упаковки на уровне пластины (WLP)
  • Подложки: пластины ø200 мм, ø300 мм
  • Источники излучения: ghi-линии спектра ртутной лампы
  • Шаговый двигатель: SSB500/20M
  • Увеличение объектива (коэффициент уменьшения): 1:1
  • Сверхбольшое поле зрения: 44 мм × 44 мм
  • Размер сетки: 6”
  • Возможны процессы двусторонней фотолитографии
  • Разрешение: 2 мкм
  • Точность наложения: ≤0,4 мкм
  • Точность двустороннего наложения: ≤1,0 мкм
  • Глубина экспонирования сверхтолстого фоторезиста: ≥100 мкм
  • Поддерживает экспонирование деформированных листов и склеенных листов
  • Конфигурации задней центровки с инфракрасным портом поддерживают прямое измерение в видимом свете
  • Прецизионный блок высокоточного контроля температуры
  • Большой вертикальный ход столика для поддержания многослойного экспонирования пластин

Серия SSB300 (SSB300, SSB320, SSB380)

  • Установки проекционной шаговой литографии (проекционные степперы) для массового производства
  • Назначение: для проекционной одно- или двусторонней литографии в процессах производства микро/мини светодиодов, силовых устройств, МЭМС и для других процессов изготовления чипов
  • Подложки: пластины ø2”, ø4”, ø6”
  • Источники излучения: i-линия спектра ртутной лампы
  • Большое поле обзора: 53,5×33 мм (для SSB320 и SSB380)
  • Разрешение (зависит от проекционных объективов): 0,8 мкм для SSB300; 2 мкм – для SSB320; 1,5 мкм – для SSB380
  • Высокоточная система выравнивания: MVS
  • Высокоточная система позиционирования предметного столика
  • Поддержка процесса LED PAD/PSS
  • Проекционный объектив с низким уровнем искажений
  • Дополнительная переменная щель для разделения маски на несколько областей
  • Опционно: система выравнивания с подсветкой инфракрасным или видимым светом литографии

Серия SSB200 (SSB225/10, SSB225/20, SSB245/10, SSB245/20, SSB260/10Т, SSB260/20Т)

  • Установка для проекционной литографии серии малых масок SSB200 для массового производства и НИОКР
  • Назначение: для проекционной литографии в процессах производства TFT-дисплеев 2,5-6 поколений AMOLED и ЖК-экранов
  • Размер подложки: (370×470) мм и (500×500) мм – для SSB225/10, SSB225/20; (730×920) мм – для SSB245/10, SSB245/20; (1300×1500) мм и (1500×1850) мм – для SSB260/10Т, SSB260/20Т
  • Источники излучения: i-линия спектра ртутной лампы
  • Разрешение: 1,5 мкм – для SSB225/20, SSB245/20, SSB260/20Т; 2 мкм – для SSB225/10, SSB245/10, SSB260/10Т
  • Точность наложения: 0,5 мкм – для SSB225/20, SSB245/20, SSB260/20Т; 0,6 мкм – для SSB225/10, SSB245/10, SSB260/10Т
  • Источники света с различными длинами волн для адаптации к различным условиям процесса экспонирования
  • Библиотека масок
  • Интеллектуальные функции калибровки и диагностики
  • Использование стандартной 6-дюймовой маски
  • Изображения с 2-кратным увеличением
  • Операционная система: UNIX