4PICO Litho B.V.

MicroMaster

  • Настольная установка безмасковой лазерной литографии для НИОКР
  • УФ-диодный GaN лазер 405 нм, опционально 375 нм. Встроенный 650 нм красный лазер, управляемый системой автофокусировки
  • Размера пятна: 800 нм, опционально 1500 нм, 2500 нм
  • Для УФ-резистов
  • Размер подложек: 5″ или 5″ x 5″ (мин. 5 x 5 мм, макс. 125 x 125 мм)
  • Максимальная область экспонирования 110 х 110 мм2
  • Различные толщины подложек
  • Движения по осям X, Y и опционально по Z (ход 12 мм для разных толщин подложек)
  • Повторяемость <40нм
  • Разрешение 2 нм
  • Максимальная скорость сканирования до 200 мм/сек
  • Максимальное ускорение сканирования 10000 мм/сек2
  • Минимальный размер структурного элемента < 0,3 мкм
  • Равномерность интенсивности <0,5%
  • Автофокус: равномерность <1%
  • Скорость экспонирования 1 мм2/мин
  • Размер адресной сетки: 40нм в направлении развертки и 100нм в направлении шага
  • Векторный и растровый режимы экспозиции
  • Режим трехмерной экспозиции
  • Наличие системы прецизионного позиционирования подложки
  • Точность окончательного выравнивания: < < 0,5 мкм
  • В комплект поставки входит настольный ПК с программным обеспечением контроллера
  • Поддержка форматов: GDSII, CIF, DXF, Bitmaps, TIFF, Parametric
  • Электричество 220-240 В, 50 Гц, макс. 1кВт
  • Возможность подключения к прецизионной системе поддержания микроклимата, диаметр 100мм.
  • Рекомендуемые параметры микроклимата для помещения 21 ± 1 ОС, класс 5 ИСО
  • Опция:  вакуумный насос
  • Размер установки (ШхГхВ) 580 х 600 х 708 мм, масса 260 кг

PicoMaster 100

  • Настольная установка безмасковой лазерной литографии для НИОКР
  • УФ-диодный GaN лазер 405 нм, опционально 375 нм. Встроенный 650 нм красный лазер, управляемый системой автофокусировки
  • Стандартный лазерный источник 405 нм предоставляет пользователю 3 размера пятна, которые можно задать: 280 нм, 490 нм и 880 нм.
  • Для УФ-резистов
  • Размер подложек: 4″ или 4″ x 4″ (мин. 5 x 5 мм, макс. 125 x 125 мм)
  • Различные толщины подложек
  • Движения по осям X, Y и опционально по Z (ход 12 мм для разных толщин подложек)
  • Повторяемость <40нм
  • Разрешение 2 нм
  • Максимальная скорость сканирования до 300 мм/сек
  • Максимальное ускорение сканирования 10000 мм/сек2
  • Минимальный размер структурного элемента < 0,3 мкм
  • Равномерность интенсивности <0,5%
  • Автофокус: равномерность <1%
  • Скорость экспонирования 1 мм2/мин
  • Размер адресной сетки: 40нм в направлении развертки и 100нм в направлении шага
  • Векторный и растровый режимы экспозиции
  • Режим трехмерной экспозиции
  • Наличие системы прецизионного позиционирования подложки
  • Точность окончательного выравнивания: < < 0,5 мкм
  • В комплект поставки входит настольный ПК с программным обеспечением контроллера
  • Поддержка форматов: GDSII, CIF, DXF, Bitmaps, TIFF, Parametric
  • Электричество 220-240 В, 50 Гц, макс. 1кВт
  • Возможность подключения к прецизионной системе поддержания микроклимата, диаметр 100мм.
  • Рекомендуемые параметры микроклимата для помещения 21 ± 1 ОС, класс 5 ИСО
  • Опция:  вакуумный насос
  • Размер установки (ШхГхВ) 600 х 600 х 750 мм, масса 260 кг

PicoMaster 150

  • Установка безмасковой лазерной литографии для НИОКР
  • УФ-диодный GaN лазер 405 нм, опционально 375 нм. Встроенный 650 нм красный лазер, управляемый системой автофокусировки
  • Размера пятна: 300 нм, опционально 600 нм, 900 нм
  • Для УФ-резистов
  • Размер подложек: 6″ или 6″ x 6″ (мин. 5 x 5 мм, макс. 160 x 160 мм)
  • Максимальная область экспонирования 150 х 150 мм2
  • Различные толщины подложек
  • Движения по осям X, Y и опционально по Z (ход 12 мм для разных толщин подложек)
  • Повторяемость <20нм
  • Разрешение 2 нм
  • Максимальная скорость сканирования до 200 мм/сек
  • Максимальное ускорение сканирования 15000 мм/сек2
  • Минимальный размер структурного элемента < 0,3 мкм
  • Равномерность интенсивности <0,5%
  • Автофокус: равномерность <1%
  • Скорость экспонирования 1 мм2/мин
  • Размер адресной сетки: 20нм в направлении развертки и 100нм в направлении шага
  • Векторный и растровый режимы экспозиции
  • Режим трехмерной экспозиции
  • Наличие системы прецизионного позиционирования подложки
  • Точность окончательного выравнивания: < < 0,5 мкм
  • В комплект поставки входит настольный ПК с программным обеспечением контроллера
  • Поддержка форматов: GDSII, CIF, DXF, Bitmaps, TIFF, Parametric
  • Электричество 220-240 В, 50 Гц, макс. 1кВт
  • Сжатый воздух от 5 до 7 bar, класс 3 по ISO 8573-1:2010
  • Возможность подключения к прецизионной системе поддержания микроклимата, диаметр 150мм.
  • Рекомендуемые параметры микроклимата для помещения 21 ± 1 ОС, класс 5 ИСО
  • Опция: голографические библиотеки, вакуумный насос
  • Размер установки (ШхГхВ) 860/1260 х 1297 х 2065 мм, масса 700 кг

PicoMaster 200

  • Установка безмасковой лазерной литографии для НИОКР
  • УФ-диодный GaN лазер 405 нм, опционально 375 нм. Встроенный 650 нм красный лазер, управляемый системой автофокусировки
  • Автоматический селектор размера пятна: 300 нм, 600 нм, 900 нм
  • Для УФ-резистов
  • Размер подложек: 8″ или 8″ x 8″ (мин. 5 x 5 мм, макс. 220 x 220 мм)
  • Различные толщины подложек
  • Движения по осям X, Y и опционально по Z (ход 12 мм для разных толщин подложек)
  • Повторяемость <20нм
  • Разрешение 2 нм
  • Максимальная скорость сканирования до 450 мм/сек
  • Максимальное ускорение сканирования 15000 мм/сек2
  • Минимальный размер структурного элемента < 0,3 мкм
  • Равномерность интенсивности <0,5%
  • Автофокус: равномерность <1%
  • Скорость экспонирования 1 мм2/мин
  • Размер адресной сетки: 40нм в направлении развертки и 100нм в направлении шага
  • Векторный и растровый режимы экспозиции
  • Режим трехмерной экспозиции
  • Наличие системы прецизионного позиционирования подложки
  • Точность окончательного выравнивания: < < 0,5 мкм
  • В комплект поставки входит настольный ПК с программным обеспечением контроллера
  • Поддержка форматов: GDSII, Oasis, CIF, gerber, Bitmaps, TIFF, Parametric
  • Электричество 220-240 В, 50 Гц, макс. 1кВт
  • Сжатый воздух от 5 до 7 bar
  • Возможность подключения к прецизионной системе поддержания микроклимата, диаметр 150мм.
  • Рекомендуемые параметры микроклимата для помещения 21 ± 1 ОС, класс 5 ИСО
  • Опция: голографические библиотеки, вакуумный насос
  • Размер установки (ШхГхВ) 900/1260 х 1297 х 2065 мм, масса 700 кг