ЭМ-5189-02

  • Сканирующий лазерный генератор
  • Предназначен для изготовления металлизированных фотошаблонов при производстве СБИС и других изделий электронной техники, а также для формирования топологии на полупроводниковых подложках, обеспечивая совмещение с предыдущими слоями (безмасковая оптическая литография)
  • Размер минимального элемента 600нм
  • Время экспонирования области 100х100мм 60мин
  • Размер поля экспонирования 215х215мм
  • Совмещаемость слоев 70нм
  • Неровность края элементов топологии 40нм
  • Дискретность адресной сетки 1.25нм
  • Потребляемая мощность 5кВт

к списку