ООО «СТАЛИС»

КС-01   Установка химической обработки полупроводниковых пластин

  • Применение: для групповой химической обработки полупроводниковых пластин в различных невзрывоопасных реагентах с последующей промывкой в деионизованной воде
  • Пластины: ø50 мм, ø76 мм, ø100 мм и ø150 мм
  • Количество ванн: фторопластовые (для обработки в химреактивах) – 3 шт., стоп-ванна – 1 шт., полипропиленовые (для отмывки в деионизованной воде) – 2 шт.
  • Внутренние размеры фторопластовых ванн (зависят от заказа): для пластин ø(50÷150)мм – 215 х 290 х 225 мм; для пластин ø(50÷100)мм – 195 х 235 х 160 мм
  • Комплектность фторопластовой ванны: нагреватель химреактивов – 220В на (500÷750)Вт; термопреобразователь (непрерывное измерение температуры рабочей среды); эжекторная трубка (для слива химреактивов из ванны); микропроцессорный измеритель–регулятор типа ТРМ 1А-Щ2.ТС.Р. КУВФ.920380.01ПС. (контроль и регулировка по заданным параметрам)
  • Микропроцессорный таймер обратного отсчёта FS-1 (индицирует время до окончания процесса, позволяет задавать число циклов обработки от 1 до 9, время обработки, время подачи предварительного сигнала об окончании процесса)
  • Стоп-ванна с душем: программа быстрого наполнения-сброса воды; количество циклов обработки задается реле времени FS-1 от 1 до 9
  • Расход деионизованной воды в «Стоп-ванне» и ваннах финишной отмывки регулируется ротаметрами: (100÷1200) л/ч
  • Контроль качества отмывки пластин в деионизованной воде (по удельному электрическому сопротивлению) и температуры воды производится микропроцессорным кондуктометром «Сириус-2» (АВПА.466452.001РЭ)
  • Производительность одной ванны: пластины до ø100 мм (в 2-х кассетах ЩЦМ8.212.312-01) – 50 шт., пластины ø150 мм (в 1-й кассете) – 25 шт.
  • Рабочий регулируемый диапазон температуры реагентов во фторопластовой ванне: (30÷120) °C
  • Дискретность задания температуры реагента: 0,1°С
  • Точность поддержания температуры реагентов в регулируемом диапазоне: ±2 °C
  • Время нагрева реагентов от 20 °C до 120 °C (или 5 литров воды от 20 °C до 95 °C): ≤60 мин
  • Диапазон времени (дискретность регулировки – 1с) операций во фторопластовых ваннах: 1с ÷ 99 мин 59 с. По окончании срабатывает световая сигнализация
  • Диапазон длительности циклов операций заполнения-слива в «Стоп-ванне»: (1÷99) сек
  • Количество циклов заполнения-слива: 1÷9
  • Система двойной очистки воздуха, подаваемого в установку: предварительная очистка – фильтр ФяГ, окончательная – фильтр ФяС (класс очистки Н14 –(99.95÷99.995)% частиц 0.3 мкм)
  • Сжатый воздух: не ниже 12-го класса (ГОСТ17433-80), (0,7±0,05) МПа, ≥10 м3/ч
  • Деионизованная вода: марка А (ОСТ 11 029 003-80), (0,25 ±0,05) МПа, ≥1,0 м3/ч
  • Питьевая вода: не ниже 10-го класса (ГОСТ 17216-71), (0,3 ±0,05) МПа, ≥0,8 м3/ч
  • Вытяжная кислотная вентиляция: ≥ 1500 м3/ч
  • Электроэнергия: 380 В ±10%, 3ф, 50 Гц ±2,5%, 3 кВт
  • Габаритные размеры: 1870 x 1170 x 2420 мм
  • Вес: 600 кг
  • Опционно: изменение габаритных размеров, количества ванн и других параметров установки

КС-01М   Установка жидкостной химической обработки пластин кремния

  • Применение: для групповой химической обработки полупроводниковых пластин кремния в смеси Каро (H2SO4+H2O2) и перекисно-аммиачной смеси (NH4OH+H2O2+H2O) с последующей промывкой в деионизованной воде
  • Пластины: ø50 мм, ø76 мм, ø100 мм
  • Режим работы: автономно или в составе технохимической линии
  • Количество ванн: фторопластовые (для обработки в химреактивах) – 2 шт., стоп-ванна – 2 шт., полипропиленовые (для отмывки в деионизованной воде) – 1 шт.
  • Фторопластовые ванны сгруппированы с душевой «стоп – ванной»; закрываются общей полипропиленовой крышкой, приводящейся в движение пневматическим цилиндром
  • Закачка реагентов в ванны химической обработки: с помощью насосов
  • Внутренние размеры: фторопластовых ванн – 210 х 290 х 225мм; внутренние размеры полипропиленовых ванн – 150 х 290 х 210 мм
  • Комплектность фторопластовой ванны: нагреватель химреактивов – 1,5 кВт (через разделительный понижающий трансформатор); эжекторная трубка (для слива химреактивов из ванны); микропроцессорный измеритель–регулятор типа «Овен» ТРМ1 (контроль, поддержание и регулировка температуры рабочей среды по заданным параметрам)
  • Управляющий контроллер обеспечивает контроль: времени химической обработки и промывки в душевой «стоп — ванне»; количество проведенных технологических циклов; время «жизни» химических растворов; отладочный режим (пошаговое выполнение отдельных операций технологического цикла); контроль операций слива реагентов и промывки ванн (проводится автоматически).  Все параметры химической обработки и промывки отображаются на светодиодном дисплее и мнемосхеме установки. Предусмотрена световая и звуковая сигнализация окончания технологического процесса химической обработки пластин.
  • Стоп-ванна с душами и завесой  из осушенного газообразного азота: расход воды регулируется вентилем, контролируется ротаметром
  • Ванна для финишной промывки в деионизованной воде с крышкой и завесой  из осушенного газообразного азота: расход воды регулируется вентилем, контролируется ротаметром; контроль качества отмывки пластин в деионизованной воде (по удельному электрическому сопротивлению) и температуры воды производится двухканальным кондуктометром «Сириус-2» АВПА.466452.001РЭ (второй канал – для организации рецикла)
  • Производительность одной ванны: пластины ø100 мм (в 2-х кассетах) – 50 шт.
  • Рабочий регулируемый диапазон температуры реагентов во фторопластовой ванне: (30÷160) °C
  • Точность поддержания температуры реагентов в регулируемом диапазоне: ±1°C
  • Время нагрева реагентов от 20 °C до 120 °C: ≤60 мин
  • Дискретность задания температуры реагента: 0,1°С
  • Диапазон времени (дискретность регулировки: 1с) операций в блоке ванн хим. обработки: до 9 мин 59 с
  • Диапазон длительности циклов заполнения-слива в «Стоп-ванне»: от 1 до 99 с, времени последующей промывки – от 0 до 9 мин 59 с
  • Количество циклов заполнения-слива: 1÷9
  • Система очистки воздуха, подаваемого в установку: фильтр ФяС -Э14С 16
  • Откидные шторки из прозрачного оргстекла
  • Сжатый воздух: не ниже 12-го класса (ГОСТ17433-80), (0,7±0,05) МПа, ≥10 м3/ч
  • Азот газообразный: 1-го класса чистоты, точка росы «-65» °С (ОСТ11 050.003-83), (0.25 ±0.05) МПа, ≥1 м3/ч
  • Деионизованная вода: марка А (ОСТ 11 029 003-80), (0,25 ±0,05) МПа, ≥1,0 м3/ч
  • Вытяжная кислотная вентиляция: ≥ 1500 м3/ч
  • Электроэнергия: 380 В ±10%, 3ф, 50 Гц ±2,5%, 3 кВт
  • Габаритные размеры: 2000 x 1100 x 2010 мм
  • Вес: 350 кг
  • Опционно: изменение габаритных размеров, количества ванн и других параметров установки  

КС-01.1   Установка химической обработки пластин

  • Применение: для групповой химической обработки полупроводниковых, гибридных пластин в различных невзрывоопасных реагентах с последующей промывкой в деионизованной воде
  • Пластины: ø50 мм, ø76 мм, ø100 мм
  • Вариант использования: автономно или в составе технохимической линии обработки пластин
  • Количество ванн: фторопластовые (для обработки в химреактивах) с крышками – 3 шт., промывочная фторопластовая ванна (для промывки в горячей проточной деионизованной воде) с проточным нагревателем — регулятором (устанавливается сзади установки в виде отдельного блока) – 1 шт., полипропиленовые (для финишной промывки в деионизованной воде) – 2 шт.
  • Внутренние размеры фторопластовых ванн: 220 х 190 х 150 мм
  • Комплектность фторопластовой ванны: нагреватель химреактивов – 220В на (500÷750)Вт через разделительные понижающие трансформаторы; эжектор (для откачки реагентов из объема ванны); микропроцессорный измеритель-терморегулятор типа «Овен» ТРМ1 (контроль и регулировка по заданным параметрам)
  • Крышка с охлаждением проточной водой: у 2-ой ванны
  • Барботирования жидкости осушенным газообразным азотом: в 3-ей ванне
  • Микропроцессорный таймер обратного отсчёта (индицирует время до окончания процесса, позволяет задавать число циклов обработки от 1 до 9)
  • Расход деионизованной воды в ваннах выставляется вентилем и контролируется с помощью ротаметра
  • Контроль качества отмывки пластин в деионизованной воде (по удельному электрическому сопротивлению) производится микропроцессорным кондуктометром «Сириус-2» (АВПА.466452.001РЭ). Измерительные датчики установлены в сливные магистрали ванн.
  • Производительность одной ванны: пластины до ø100 мм (в 2-х кассетах) – 50 шт.
  • Рабочий регулируемый диапазон температуры реагентов во фторопластовой ванне: (30÷120) °C
  • Дискретность задания температуры реагента: 0,1°С
  • Точность поддержания температуры реагентов в регулируемом диапазоне: ±2 °C
  • Время нагрева реагентов от 20 °C до 120 °C (или 5 литров воды от 20 °C до 95 °C): ≤60 мин
  • Диапазон времени (дискретность регулировки: 1с) операций во фторопластовых ваннах: 1с ÷ 99 мин 59 с
  • Система двойной очистки воздуха, подаваемого в установку с дискретной регулировкой скорости ламинарного потока: предварительная очистка – фильтр ФяГ, окончательная – фильтр ФяС
  • Рабочая зона с откидными шторками из прозрачного оргстекла
  • Электронные системы установки размещены на задней части корпуса
  • Азот газообразный: 1-го класса чистоты, точка росы «-65»°С (ОСТ11 050.003-83), (0.25 ±0.05) МПа, ≥1 м3/ч
  • Деионизованная вода: марка А (ОСТ 11 029 003-80), (0,25 ±0,05) МПа, ≥1,0 м3/ч
  • Питьевая вода: не ниже 10-го класса (ГОСТ 17216-71), (0,3 ±0,05) МПа, ≥0,8 м3/ч
  • Вытяжная кислотная вентиляция: ≥ 1500 м3/ч
  • Электроэнергия: 380В ±10%, 3ф, 50Гц ±2,5%, 3 кВт
  • Габаритные размеры: 1870 x 1170 x 2420 мм
  • Вес: 600 кг
  • Опционно: изменение конфигурации

КС-01.9М   Установка жидкостной химической обработки пластин

  • Применение: для групповой химической обработки полупроводниковых, гибридных пластин в различных невзрывоопасных реагентах при комнатной температуре с последующей промывкой в холодной деионизованной воде
  • Пластины: ø50 мм, ø76 мм, ø100 мм
  • Режим работы: автономно или в составе технохимической линии
  • Количество ванн: фторопластовые (для обработки в химреактивах) – 3 шт., стоп-ванна – 1 шт., полипропиленовые (для отмывки в деионизованной воде) – 2 шт.
  • Фторопластовые ванны закрываются крышками
  • Закачка реагентов в ванны химической обработки: с помощью насосов
  • Внутренние размеры: фторопластовых ванн – 220 х 190 х 150 мм
  • Комплектность фторопластовой ванны: крышка; эжектор (для откачки реагентов из объема ванны)
  • Время технологического процесса контролируется с помощью таймера обратного отсчета
  • Полипропиленовая стоп-ванна многократного быстрого наполнения через патрубок, расположенный на дне ванны и форсунки рассеивателя и сброса воды из ванны.  Режимы отмывки (время, количество циклов сброса — наполнения) задаются на блоке управления «стоп-ванной». Расход деионизованной воды выставляется вентилем, контролируется ротаметром.
  • Ванна с крышкой и завесой  из осушенного газообразного азота для финишной промывки в деионизованной воде: расход воды регулируется вентилем, контролируется ротаметром; контроль качества отмывки пластин в деионизованной воде (по удельному электрическому сопротивлению) производится двухканальным кондуктометром «Сириус-2» АВПА.466452.001РЭ (второй канал – для организации рецикла)
  • Производительность одной ванны: пластины ø100 мм (в 2-х кассетах) – 50 шт.
  • Диапазон времени (дискретность регулировки: 1с) операций в ванне хим. обработки: от 1с до 99 мин 59 с
  • Диапазон длительности технологических циклов заполнения-слива в «Стоп-ванне»: от 1 до 99 с
  • Количество циклов заполнения-слива: 1÷9
  • Система двойной очистки воздуха, подаваемого в установку с дискретной регулировкой скорости ламинарного потока: предварительная очистка – фильтр ФяГ, окончательная — фильтр ФяС
  • Откидные шторки (со специальными прорезями) из прозрачного оргстекла
  • Электронные системы установки размещены на задней части корпуса
  • Сжатый воздух: не ниже 12-го класса (ГОСТ17433-80), (0,6±0,05) МПа
  • Азот газообразный: 1-го класса чистоты (ОСТ11 050.003-83), (0.2 ±0.05) МПа
  • Деионизованная вода: марка А (ОСТ 11 029 003-80), (0,25 ±0,05) МПа, ≥1,0 м3/ч
  • Питьевая вода: не хуже 10 класса (ГОСТ 17216-71), (0,3±0,05)МПа, ≥0,8 м3/ч
  • Вытяжная кислотная вентиляция: ≥ 1500 м3/ч
  • Электроэнергия: 380В ±10%, 3ф, 50Гц ±2,5%, 1кВт
  • Габаритные размеры: 1880 x 1200 x 2100 мм
  • Вес: 450 кг
  • Опционно: изменение конфигурации

КС-02   Установка химической обработки пластин

  • Применение: для групповой кассетной химической обработки полупроводниковых, гибридных пластин в различных невзрывоопасных реагентах с последующей промывкой в теплой и холодной деионизованной воде
  • Пластины: ø50 мм, ø76 мм, ø100 мм и ø150 мм
  • Режим работы: автономно или в составе технохимической линии
  • Количество ванн: фторопластовые для обработки в химреактивах – 3 шт. (одна ванна А – для пластин до 150 мм, две ванны Б – для пластин до 100 мм), фторопластовая ванна для промывки пластин в горячей (проточный нагреватель-регулятор устанавливается сзади установки в виде отдельного блока) проточной деионизованной воде – 1 шт., полипропиленовые 2х-каскадные (один из каскадов закрывается крышкой – в этой зоне возможна подача азота газообразного) для отмывки в деионизованной воде – 2 шт.
  • Внутренние размеры фторопластовых ванн (зависят от заказа): ванна А для пластин ø(50÷150) мм – 215 х 290 х 225 мм; для пластин ø(50÷100) мм – 195 х 235 х 160 мм 
  • Комплектность фторопластовой ванны: нагреватель химреактивов – 220В на (500÷750) Вт через разделительные понижающие трансформаторы; эжектор (для откачки реагентов из объема ванны); микропроцессорный измеритель–регулятор типа ТРМ 1А-Щ2.ТС.Р. КУВФ.920380.01ПС. (контроль и регулировка по заданным параметрам); крышка ванны
  • Микропроцессорный таймер обратного отсчёта (индицирует время до окончания процесса)
  • Расход деионизованной воды в ваннах финишной отмывки выставляется вентилем и контролируется с помощью ротаметра: (100÷1200) л/ч
  • Контроль качества отмывки пластин в деионизованной воде (по удельному электрическому сопротивлению) производится микропроцессорным двухканальным кондуктометром «Сириус-2» (АВПА.466452.001РЭ). Измерительные датчики прибора установлены в сливные магистрали ванн
  • Производительность одной ванны: пластины до ø100 мм (в 2-х кассетах ЩЦМ8.212.312-01) – 50 шт., пластины ø150 мм (в 1-й кассете) – 25 шт.
  • Рабочий регулируемый диапазон температуры реагентов во фторопластовой ванне: (30÷120) °C
  • Дискретность задания температуры реагента: 0,1 °С
  • Точность поддержания температуры реагентов в регулируемом диапазоне: ±2 °C
  • Время нагрева реагентов от 20 °C до 120 °C (или 5 литров воды от 20 °C до 95 °C): ≤60 мин
  • Диапазон времени (дискретность регулировки: 1с) операций во фторопластовых ваннах: 1с ÷ 99 мин 59 с
  • Комплектуется блоком обеспыливания воздуха с фильтром ФяГ с возможностью дискретной регулировки скорости ламинарного потока. Рабочая зона закрывается откидными шторками из прозрачного оргстекла
  • Электронные системы установки размещены на задней части корпуса
  • Азот газообразный: 1-го класса чистоты, точка росы «-65»°С (ОСТ11 050.003-83), (0.25 ±0.05) МПа, ≥1 м3/ч
  • Деионизованная вода: марка А (ОСТ 11 029 003-80), (0,25 ±0,05) МПа, ≥1,0 м3/ч
  • Питьевая вода: не ниже 10-го класса (ГОСТ 17216-71), (0,3 ±0,05) МПа, ≥0,8 м3/ч
  • Вытяжная кислотная вентиляция: ≥ 1500 м3/ч
  • Электроэнергия: 380В ±10%, 3ф, 50Гц ±2,5%, 4 кВт
  • Габаритные размеры: 1870 x 950 x 1580 мм
  • Вес: 300 кг
  • Опционно: изменение конфигурации

КС-02.9М   Установка жидкостной химической обработки пластин

  • Применение: для групповой кассетной химической обработки полупроводниковых пластин кремния в смеси Каро (H2SO4+H2O2) для удаления различных органических примесей или загрязнений с последующей промывкой в деионизованной воде
  • Пластины: ø50 мм, ø76 мм, ø100 мм
  • Режим работы: автономно или в составе технохимической линии
  • Количество ванн: фторопластовые (для обработки в химреактивах) – 1 шт., стоп-ванна полипропиленовая – 1 шт., промывочные полипропиленовые (для отмывки в деиони-зованной воде) – 2 шт.
  • Комплектность фторопластовой ванны: нагреватель химреактивов – 1,0 кВт (через разделительный понижающий трансформатор); эжектором (для откачки химических реагентов из объема ванны); откидывающаяся крышка на специальных кронштейнах;  микропроцессорный измеритель-регулятор типа «Овен» ТРМ1 (контроль, поддержание и регулировка температуры рабочей среды по заданным параметрам), время технологического процесса контролируется с помощью таймера обратного отсчета
  • Варианты заполнения ванны химреактивами: вручную из цеховой тары или с помощью насосов (предусмотрены специальные фторопластовые патрубки)
  • Промывка пластин в «стоп-ванне» – многократное быстрое наполнение и сброс воды. Наполнение – через патрубок на дне ванны и форсунки рассеивателя вдоль передней и задней стенок ванны. Задание режимов (время, количество циклов сброса-наполнения) – на блоке управления «стоп-ванной». Расход воды выставляется вентилем, контролируется ротаметром. Комплектуется крышкой
  • 1-я ванна для финишной промывки в деионизованной воде с барботированием газообразным азотом (подается через форсунки на дне ванны); 2-я – с крышкой и азотной завесой. Подача и регулировка азота – ротаметром расхода азота. Расход воды регулируется вентилем, контролируется ротаметром. Контроль качества отмывки пластин в деионизованной воде (по удельному электрическому сопротивлению) производится двухканальным кондуктометром «Сириус-2» АВПА.466452.001РЭ (второй канал – для организации рецикла). Слив отработанной деионизованной воды – отдельно от «стоп – ванны» для организации повторного использования воды
  • Производительность одной ванны: пластины ø100 мм (в 2-х кассетах) – 50 шт.
  • Рабочий регулируемый диапазон температуры реагентов во фторопластовой ванне: (25÷160) °C
  • Точность поддержания температуры реагентов в регулируемом диапазоне: ±2 °C
  • Время нагрева реагентов от 20 °C до 160 °C: ≤60 мин
  • Дискретность задания температуры реагента: 0,1°С
  • Диапазон времени (дискретность регулировки:1 с) операций во фторопластовых ваннах: 1с ÷ 99 мин 59 с
  • Диапазон длительности (дискретность задания:1с) технологических циклов в «Стоп-ванне»: от 1 до 99 с
  • Количество циклов заполнения-слива: 1÷9
  • Система двойной очистки воздуха, подаваемого в установку с дискретной регулировкой скорости ламинарного потока: предварительная очистка – фильтр ФяГ, окончательная – фильтр ФяС
  • Откидные шторки из прозрачного оргстекла
  • Электронные системы установки размещены на задней части корпуса
  • Сжатый воздух: не ниже 12-го класса (ГОСТ17433-80), (0,7 ±0,05) МПа, ≥10 м3/ч
  • Азот газообразный: 1-го класса чистоты (ОСТ11 050.003-83), (0.2 ±0.05) МПа
  • Деионизованная вода: марка А (ОСТ 11 029 003-80), (0,25 ±0,05) МПа, ≥1,0 м3/ч
  • Питьевая вода: не ниже 10-го класса (ГОСТ 17216-71), (0,3 ±0,05) МПа, ≥0,8 м3/ч
  • Вытяжная кислотная вентиляция: ≥ 1500 м3/ч
  • Электроэнергия: 380В ±10%, 3ф, 50Гц ±2,5%, 2 кВт
  • Габаритные размеры: 1260 x 1220 x 2010 мм
  • Вес: 350 кг
  • Опционно: изменение конфигурации  

КС-03   Установка травления полупроводниковых пластин

  • Применение: для групповой кассетной химической обработки полупроводниковых пластин в различных невзрывоопасных реагентах с последующей промывкой в теплой и холодной деионизованной воде
  • Пластины: ø50 мм, ø76 мм, ø100 мм, ø150 мм или 150х150 мм
  • Режим работы: автономно или в составе технохимической линии
  • Количество полипропиленовых ванн – 4 шт. (ванна №1 с нагревателем – для химичес-кого травления пластин;  ванна №2 – для быстрой промывки пластин в воде от реагента; ванны №3, 4 – для промывки пластин в деионизованной воде с барботированием)
  • Параметры ванны №1: размер – 735х535х390 мм (300 до отверстий вытяжной венти-ляции); рабочий регулируемый диапазон температуры реагентов – (30÷85)°C, дискретность задания температуры реагента: 0,1°С; точность поддержания температуры реагентов в регулируемом диапазоне – ±2 °С, время нагрева реагента от 20 °C до 85 °C (или 110 литров воды от температуры 20±5 °C до 85 °C) – ≤60 мин; диапазон времени (дискретность задания: 1 мин) технологических операций в ванне травления – (1÷99)мин; нагреватель – 12 кВт, микропроцессорный измеритель–регулятор типа Овен» ТРМ1 (контроль и регулировка по заданным параметрам); ванны №2: размер ванны –540х250х270 мм (250 от решетки, закрепленной на дне ванны); ванны №3,4: размер – 690х250х270 мм (250 от решетки), контроль качества отмывки пластин в деионизован-ной воде (по удельному электрическому сопротивлению) производится микропроцессорным двухканальным кондуктометром «Сириус-2» (АВПА.466452.001РЭ), расход деионизованной воды в ваннах финишной отмывки регулируется соответствующим ротаметром в диапазоне 100-1200 л/ч; возможность барботирования газообразным осушенным азотом; отдельный слив отработанной деионизованной воды для организации повторного использования воды
  • Загрузка: ванны №1 –  кассет с пластинами 150х150 мм — 6 штук (600 пластин, загрузка по две пластины в паз), кассет с пластинами 125х125 мм – 8 штук; ванны №2 – 2 кассеты с пластинами; ванны №3,4 – 3 кассеты с пластинами
  • Микропроцессорный таймер обратного отсчёта индицирует время до окончания процесса.
  • Два пневматических цилиндра для дискретных перемещений специального поддона в ванне 1 в вертикальной плоскости для перемешивания раствора и встряхивания пластин
  • Электронные системы установки размещены на задней части корпуса
  • Сжатый воздух: не ниже 12-го класса (ГОСТ17433-80), (0, 7±0,05) МПа, ≥10 м3/ч
  • Азот газообразный: 1 класса чистоты, точка росы «-65»°С (ОСТ11 050.003-83), (0.25 ±0.05) МПа, ≥1 м3/ч
  • Деионизованная вода: марка А (ОСТ 11 029 003-80), (0,25 ±0,05) МПа, ≥1,0 м3/ч
  • Питьевая вода: не ниже 10-го класса (ГОСТ 17216-71), (0,3 ±0,05) МПа, ≥0,8 м3/ч
  • Вытяжная кислотная вентиляция: ≥ 1500 м3/ч
  • Электроэнергия: 380В ±10%, 3ф, 50Гц ±2,5%
  • Габаритные размеры: 1670 x 1000 x 1800 мм
  • Вес: 300 кг
  • Опционно: изменение конфигурации  

КС-03.1   Установка травления полупроводниковых пластин

  • Применение: для групповой кассетной химической обработки полупроводниковых пластин в различных невзрывоопасных реагентах с последующей промывкой в теплой и холодной деионизованной воде
  • Пластины: до ø156 мм
  • Режим работы: автономно или в составе технохимической линии
  • Количество полипропиленовых ванн: 3 шт. (ванна №1 с нагревателями – для химического травления пластин;  ванна №2 – для быстрой промывки пластин в воде от реагента; ванна №3 – для промывки пластин в деионизованной воде с барботирова-нием)
  • Параметры ванны №1: размер – 725х620х360 мм (280 до отверстий вытяжной венти-ляции) – 125 л; рабочий регулируемый диапазон температуры реагентов – (30÷85)°C, дискретность задания температуры реагента: 0,1°С; точность поддержания температуры реагентов в регулируемом диапазоне – ±2 °С, время нагрева реагента от 20°C до 85°C (или 110 литров воды от температуры 20 ±5 °C до 85 °C) – ≤60 мин; диапазон времени (дискретность задания: 1мин) технологических операций в ванне травления – (1÷99) мин; нагреватели – 3 х 4 кВт, микропроцессорный измеритель-регулятор типа Овен» ТРМ1 (контроль и регулировка по заданным параметрам), откидная крышка; ванны №2: размер ванны – 290х620х270 мм (200 от решетки, закрепленной на дне ванны, до слива), возможность подачи подогретой деионизованной воды от внешнего проточного нагревателя; ванны №3: однокаскадная, размер – 725х620х270 мм (200 от решетки), расход деионизованной воды в ванне финишной отмывки регулируется соответствующим ротаметром в диапазоне 100-1200 л/ч; диапазон задания времени (с дискретностью задания: 1 с) процесса промывки – до 99 мин 59 с, возможность барботи-рования газообразным осушенным азотом; отдельный слив отработанной деионизованной воды для организации повторного использования воды
  • Загрузка: ванны №1 –  кассет с пластинами 150х150 мм – 6 штук (600 пластин, загрузка по две пластины в паз), кассет с пластинами 125х125 мм – 8 штук; ванны №2 – 2 кассеты с пластинами; ванна №3 – 6 кассет с пластинами
  • Микропроцессорный таймер обратного отсчёта индицирует время до окончания процесса.
  • Два пневматических цилиндра для дискретных перемещений специального поддона в ванне 1 в вертикальной плоскости для перемешивания раствора и встряхивания пластин
  • Электронные системы установки размещены на задней части корпуса
  • Сжатый воздух: не ниже 12-го класса (ГОСТ17433-80), (0,7 ±0,05) МПа, ≥10 м3/ч
  • Азот газообразный: 1-го класса чистоты, точка росы «-65»°С (ОСТ11 050.003-83), (0.25 ±0.05) МПа, ≥1 м3/ч
  • Деионизованная вода: марка А (ОСТ 11 029 003-80), (0,25 ±0,05) МПа, ≥1,0 м3/ч
  • Вытяжная кислотная вентиляция: ≥ 1500 м3/ч
  • Электроэнергия: 380В ±10%, 3ф, 50Гц ±2,5%, 15 кВт
  • Габаритные размеры: 2000 x 1060 x 1880 мм
  • Вес: 400 кг
  • Опционно: изменение конфигурации  

КС-03.1 — Установка текстурирования полупроводниковых кремниевых пластин

  • Применение: для групповой кассетной химической обработки полупроводниковых пластин в различных невзрывоопасных реагентах с последующей промывкой в теплой и холодной деионизованной воде
  • Пластины: до ø156 мм
  • Режим работы: автономно или в составе технохимической линии
  • Количество полипропиленовых ванн: 5 шт. (ванна №1 с нагревателем – для химической обработки пластин и охлаждаемой металлической крышкой;  ванна №2 без нагревателя – для химической обработки пластин; ванна №3 – для быстрой промывки пластин в воде от реагента; ванны №4, 5 – однокаскадные, для промывки пластин в деионизованной воде с барботированием)
  • Параметры ванны №1: размер – 725х620х360 мм (280 до отверстий вытяжной вентиляции) – 125 л.; рабочий регулируемый диапазон температуры реагентов – (30÷90)°C, дискретность задания температуры реагента: 0,1°С; точность поддержания температуры реагентов в регулируемом диапазоне – ±2 °С, время нагрева реагента от 20°C до 85°C (или 110 литров воды от температуры 20 ±5°C до 85°C) – ≤60 мин; диапазон времени (дискретность задания: 1мин) технологических операций в ванне травления – (1÷99) мин; нагреватели – 3 х 4 кВт, терморегулятор типа ТРМ10А-Щ2.ТС.К КУВФ.920380.01ПС (контроль и регулировка по заданным параметрам); ванны №2: – объем 15 л.; ванны №3: размер – 290х620х270 мм (200 от решетки, закрепленной на дне ванны), с проточным внешним водонагревателем; ванны №4,5: размер – 725х620х270 мм (200 от решетки до слива), расход деионизованной воды в ваннах финишной отмывки регулируется соответствующим ротаметром в диапазоне 100-1200 л/ч; возможность барботирования газообразным осушенным азотом; отдельный слив отработанной деионизованной воды для организации повторного использования воды
  • Загрузка: ванны №1 –  кассет с пластинами 125х125 мм – 12 штук; ванны №2 – 2 кассеты с пластинами 125х125 мм; ванна №3 – 2 кассеты с пластинами;  ванны №4,5 – 6 кассет с пластинами
  • Микропроцессорный таймер обратного отсчёта индицирует время до окончания процесса
  • Два пневматических цилиндра для дискретных перемещений специального поддона в ванне 1 в вертикальной плоскости для перемешивания раствора и встряхивания пластин, управление от таймера-программатора FS-4
  • Электронные системы установки размещены на задней части корпуса
  • Сжатый воздух: не ниже 12-го класса (ГОСТ17433-80), (0,7 ±0,05) МПа, ≥10 м3/ч
  • Азот газообразный: 1-го класса чистоты, точка росы «-65»°С (ОСТ11 050.003-83), (0.25 ±0.05) МПа, ≥1 м3/ч
  • Деионизованная вода: марка А (ОСТ 11 029 003-80), (0,25 ±0,05) МПа, ≥1,0 м3/ч
  • Питьевая вода: не ниже 10-го класса (ГОСТ 17216-71), (0,3 ±0,05) МПа
  • Вытяжная кислотная вентиляция: ≥ 1500 м3/ч
  • Электроэнергия: 380В ±10%, 3ф, 50Гц ±2,5%, 12 кВт
  • Габаритные размеры: 2000 x 1060 x 1880 мм
  • Вес: 400 кг
  • Опционно: изменение конфигурации

КС-03.7   Установка травления полупроводниковых пластин

  • Применение: для групповой кассетной химической обработки полупроводниковых пластин в различных невзрывоопасных реагентах с последующей промывкой в теплой и холодной деионизованной воде
  • Пластины: до ø156 мм или до 156х156 мм
  • Режим работы: автономно или в составе технохимической линии
  • Количество полипропиленовых ванн: 3 шт. (ванна №1 с нагревателями – для химического травления пластин с нагревом;  ванна №2 – для химической обработки пластин без нагрева;  ванна №3 – трехкаскадная, для промывки пластин в деионизованной воде с барботированием)
  • Параметры ванны №1: размер – 610х420х270 мм – 70л; рабочий регулируемый диапазон температуры реагентов – (30÷85)°C, дискретность задания температуры реагента: 0,1°С; точность поддержания температуры реагентов в регулируемом диапазоне – ±2°С, время нагрева реагента от 20°C до 85°C (или 70 литров воды от температуры 20 ±5°C до 85 °C) – ≤60 мин; диапазон времени (дискретность задания: 1мин) технологических операций в ванне травления – (1÷99) мин; от 10 до 90 циклов обработки с дискретностью задания 10 циклов; нагреватели через разделительные понижающие трансформаторы – 3 х 2 кВт; микропроцессорный измеритель-регулятор типа Овен» ТРМ1 (контроль и регулировка по заданным параметрам), откидная крышка; ванны №2: размер ванны-440х420х270 мм – 50 л, откидная крышка;  ванны №3: трехкаскадная, расход деионизованной воды в ванне устанавливается вручную вентилем и контролируется ротаметром в диапазоне 100-1200 л/ч; диапазон задания времени (с дискретностью задания: 1 с) процесса промывки – до 99 мин 59 с, возможность барботирования газообразным осушенным азотом второго и третьего каскадов ванны
  • Загрузка: ванны №1 –  кассет с пластинами 156х156 мм – 2 штуки, кассет с пластинами 125х125 мм – 4 штуки; ванны №2 – 1 кассета с пластинами 156х156 мм или 2 кассеты с пластинами 125х125 мм
  • Микропроцессорный таймер обратного отсчёта индицирует время до окончания процесса.
  • Электронные системы размещены в верхнем отсеке установки
  • Азот газообразный: 1-го класса чистоты, точка росы «-65»°С (ОСТ11 050.003-83), (0.25 ±0.05) МПа, ≥1 м3/ч
  • Деионизованная вода: марка А (ОСТ 11 029 003-80), (0,25±0,05) МПа, ≥1,0м3/ч
  • Вытяжная кислотная вентиляция: ≥ 1500 м3/ч
  • Электроэнергия: 380В ±10%, 3ф, 50Гц ±2,5%
  • Габаритные размеры: 1950 x 1000 x 1900 мм
  • Вес: 400 кг
  • Опционно: изменение конфигурации

КС-17.2   Установка жидкостной химической обработки пластин в органических реагентах

  • Применение: для групповой химической обработки и травления полупроводниковых пластин в различных невзрывоопасных реагентах с последующей промывкой в холодной деионизованной воде
  • Пластины: ø50 мм, ø76 мм, ø100 мм
  • Режим работы: автономно или в составе технохимической линии
  • Обработка пластин: в разогретых реагентах в малом объеме установленной на нагреватель кварцевой емкости
  • Количество нагреваемых плит (электроконфорок) – 2 шт.
  • Мощность нагревательной плиты – 1кВт
  • Рабочий регулируемый диапазон температуры плиты – (25÷250)°C
  • Дискретность задания температуры плиты: 0,1°С
  • Точность поддержания температуры плиты в регулируемом диапазоне – ±2°С
  • Терморегулятор типа «Овен» ТРМ1А-Щ2.ТП.С. для задания и контроля температуры каждой плиты
  • Диапазон задания длительности технологических операций (дискретность регулировки : 1с) на каждой плите: от 1с до 99 мин 59 с
  • Количество ванн: полипропиленовая (для отмывки в деионизованной воде) – 1 шт.
  • Подача воды: через рассеиватель над ванной
  • Время технологического процесса контролируется с помощью таймера обратного отсчета
  • Столешница и боковая облицовка из нержавеющей стали
  • Система двойной очистки воздуха, подаваемого в установку с дискретной регулировкой скорости ламинарного потока: предварительная очистка – фильтр ФяГ, окончательная – фильтр ФяС
  • Откидной защитный экран из прозрачного оргстекла
  • Электронные системы установки размещены в верхнем отсеке
  • Сжатый воздух: не ниже 12-го класса (ГОСТ17433-80), (0,7 ±0,05) МПа, ≥10 м3/ч
  • Деионизованная вода: марка А (ОСТ 11 029 003-80), (0,25 ±0,05) МПа, ≥1,0 м3/ч
  • Вытяжная вентиляция: ≥ 1500 м3/ч
  • Электроэнергия: 220В ±10%, 1ф, 50Гц ±2,5%, 2,5 кВт
  • Габаритные размеры: 1260 x 870 x 2100 мм
  • Вес: 350 кг
  • Опционно: изменение конфигурации

КС-17.3    Установка жидкостной химической обработки пластин

  • Применение: для групповой химической обработки и травления полупроводниковых пластин в различных невзрывоопасных реагентах с последующей промывкой в холодной деионизованной воде
  • Пластины: ø50 мм, ø76 мм, ø100 мм
  • Режим работы: автономно или в составе технохимической линии
  • Обработка пластин: в разогретых реагентах в малом объеме установленной на нагреватель кварцевой емкости
  • Количество нагреваемых плит (электроконфорок) – 2 шт.
  • Мощность нагревательной плиты – 1кВт
  • Рабочий регулируемый диапазон температуры плиты – (25÷250)°C
  • Дискретность задания температуры плиты: 0,1°С
  • Точность поддержания температуры плиты в регулируемом диапазоне – ±2°С
  • Терморегулятор типа «Овен» ТРМ1А-Щ2.ТП.С. для задания и контроля температуры каждой плиты
  • Диапазон задания длительности технологических операций (дискретность регулировки –1с) на каждой плите: от 1с до 99 мин 59 с
  • Количество ванн: полипропиленовая (для отмывки в деионизованной воде) – 1 шт.
  • Подача воды: через рассеиватель над ванной
  • Время технологического процесса контролируется с помощью таймера обратного отсчета
  • Столешница – фторопластовая плита
  • Система двойной очистки воздуха, подаваемого в установку с дискретной регулировкой скорости ламинарного потока: предварительная очистка – фильтр ФяГ, окончательная – фильтр ФяС
  • Откидные шторки из прозрачного оргстекла
  • Электронные системы установки размещены в верхнем отсеке
  • Сжатый воздух: не ниже 12-го класса (ГОСТ17433-80), (0,7 ±0,05) МПа, ≥10 м3/ч
  • Деионизованная вода: марка А (ОСТ 11 029 003-80), (0,25 ±0,05) МПа, ≥1,0 м3/ч
  • Вытяжная вентиляция: ≥ 1500 м3/ч
  • Электроэнергия: 220В ±10%, 1ф, 50Гц ±2,5%, 2,5 кВт
  • Габаритные размеры: 1260 x 870 x 2100 мм
  • Вес: 300 кг
  • Опционно: изменение конфигурации

КС-21   Установка химической обработки и травления полупроводниковых пластин

  • Применение: для групповой кассетной химической обработки полупроводниковых пластин в различных невзрывоопасных реагентах с последующей промывкой в теплой и холодной деионизованной воде
  • Пластины: ø50 мм, ø76 мм, ø100 мм
  • Режим работы: автономно или в составе технохимической линии
  • Количество ванн: фторопластовые для обработки в химреактивах – 3 шт., полипропиленовые 2х-каскадные (в первом каскаде вода подается снизу – в этой зоне возможна подача азота газообразного для барботирования) для отмывки в деионизованной воде – 2 шт.
  • Внутренние размеры фторопластовых ванн (зависят от заказа): для пластин ø(50÷100) мм – 190 х 235 х 170 мм 
  • Комплектность фторопластовой ванны: нагреватель химреактивов – 220В на 1кВт через разделительный понижающий трансформатор; водяной эжектор (для откачки реагентов из объема ванны); терморегулятор типа «Овен» ТРМ1А-Щ2.ТС.С. КУВФ.920380.01ПС. (контроль и регулировка температуры по заданным параметрам); крышка ванны
  • Микропроцессорный таймер обратного отсчёта (индицирует время до окончания технологического процесса)
  • Расход деионизованной воды в ваннах финишной отмывки выставляется вентилем и контролируется с помощью ротаметра
  • Производительность одной ванны: пластины ø(50÷76) мм (в 2-х кассетах) – 50 шт.
  • Рабочий регулируемый диапазон температуры реагентов во фторопластовой ванне: (30÷100)°C
  • Дискретность задания температуры реагента: 0,1°С
  • Точность поддержания температуры реагентов в регулируемом диапазоне: ±2°C
  • Время нагрева реагентов от 20 °C до 100 °C: ≤60 мин
  • Диапазон времени (дискретность регулировки: 1с) операций во фторопластовых ваннах: 1с ÷ 99 мин 59 с
  • Комплектуется блоком обеспыливания воздуха с фильтром ФяГ с возможностью дискретной регулировки скорости ламинарного потока. Рабочая зона закрывается откидными шторками из прозрачного оргстекла
  • Электронные системы установки размещены на задней части корпуса
  • Сжатый воздух: не ниже 12-го класса (ГОСТ17433-80), (0,7 ±0,05) МПа, ≥10 м3/ч
  • Азот газообразный: 1-го класса чистоты, точка росы «-65»°С (ОСТ11 050.003-83), (0,25 ±0,05) МПа, ≥1 м3/ч
  • Деионизованная вода: марка А (ОСТ 11 029 003-80), (0,25 ±0,05) МПа, ≥1,0 м3/ч
  • Питьевая вода: не ниже 10-го класса (ГОСТ 17216-71), (0,3 ±0,05) МПа, ≥0,8 м3/ч
  • Вытяжная кислотная вентиляция: ≥ 1500 м3/ч
  • Электроэнергия: 380В ±10%, 3ф, 50Гц ±2,5%, 3,5 кВт
  • Габаритные размеры: 1880 x 1000 x 2010 мм
  • Вес: 300 кг
  • Опционно: изменение конфигурации

КС-24   Установка жидкостной химической обработки и травления пластин

  • Применение: для групповой кассетной химической обработки и травления полупроводниковых кремниевых пластин в различных невзрывоопасных реагентах с последующей промывкой в холодной деионизованной воде
  • Пластины: ø50 мм, ø76 мм, ø100 мм
  • Режим работы: автономно или в составе технохимической линии
  • Наличие электроплитки для обработки пластин в разогретых реагентах в малом объеме  кварцевой емкости: измеряемый диапазон температуры плиты (ø145 мм) электроплитки – (25÷250)°C, дискретность задания: 0,1°C, точность поддержания – ±5 °C
  • Время технологического процесса задается и контролируется с помощью таймера обратного отсчета    
  • Температура нагревательного элемента поддерживается и контролируется с помощью терморегулятора «Овен» ТРМ1  
  • Количество ванн: фторопластовые (для обработки в химреактивах) – 2 шт. (1-я – без нагревателя, 2-я – с нагревателем), душевая стоп-ванна полипропиленовая – 1 шт.
  • Комплектность фторопластовой ванны: объем – 6 л; нагреватель химреактивов для 2-ой ванны – 1,0 кВт (через разделительный понижающий трансформатор); водяной эжектор (для откачки химических реагентов из объема ванны); откидывающаяся крышка;  терморегулятор типа «Овен» ТРМ1 (контроль, поддержание и регулировка температуры рабочей среды по заданным параметрам), время технологического процесса контролируется с помощью таймера обратного отсчета
  • Промывка пластин в «стоп-ванне»: объем – 6 л; многократное быстрое наполнение и сброс воды. Наполнение – через патрубок на дне ванны и форсунки рассеивателя вдоль передней и задней стенок ванны. Задание режимов (время, количество циклов сброса – наполнения) – на блоке управления «стоп-ванной». Расход воды выставляется вентилем, контролируется ротаметром. Комплектуется крышкой
  • Производительность одной ванны: пластины ø(50÷76) мм (в 1-й кассете) – 25 шт.
  • Рабочий регулируемый диапазон температуры реагентов во фторопластовой ванне: (25÷120)°C
  • Точность поддержания температуры реагентов в регулируемом диапазоне: ±2 °C
  • Дискретность задания температуры реагента: 0,1°С
  • Диапазон времени (дискретность регулировки – 1с) операций во фторопластовых ваннах: 1с ÷ 99мин.59с
  • Диапазон длительности (дискретность задания – 1с) технологических циклов в «Стоп-ванне»: (1÷99) с
  • Количество циклов заполнения-слива: 1÷9
  • Система двойной очистки воздуха, подаваемого в установку с дискретной регулировкой скорости ламинарного потока: предварительная очистка – фильтр ФяГ, окончательная – фильтр ФяС
  • Откидные шторки из прозрачного оргстекла
  • Защитный фартук – из нержавеющей стали
  • Электронные системы установки размещены на задней части корпуса
  • Сжатый воздух: не ниже 12-го класса (ГОСТ17433-80), (0,7 ±0,05) МПа, ≥10 м3/ч
  • Деионизованная вода: марка А (ОСТ 11 029 003-80), (0,25 ±0,05) МПа, ≥1,0 м3/ч
  • Питьевая вода: не ниже 10-го класса (ГОСТ 17216-71), (0,3 ±0,05) МПа, ≥0,8 м3/ч
  • Вытяжная кислотная вентиляция: ≥ 1500 м3/ч
  • Электроэнергия: 380В ±10%, 3ф, 50Гц ±2,5%, 2,5 кВт
  • Габаритные размеры: 1280 x 900 x 2050 мм
  • Вес: 400 кг
  • Опционно: изменение конфигурации

КС-25   Установка жидкостной химической обработки и травления пластин

  • Применение: для групповой кассетной химической обработки и травления полупроводниковых кремниевых пластин в различных невзрывоопасных реагентах с последующей промывкой в холодной деионизованной воде
  • Пластины: ø50 мм, ø76 мм, ø100 мм
  • Режим работы: автономно или в составе технохимической линии
  • Количество электроплиток: 2 шт.
  • Назначение электроплиток: для обработки пластин в разогретых реагентах в малом объеме  кварцевой емкости: мощность электроплитки – 1кВт, измеряемый диапазон температуры плиты (ø145 мм) электроплитки – (25÷250)°C, дискретность задания: 0,1°C, точность поддержания – ±5 °C
  • Время технологического процесса задается и контролируется с помощью таймера обратного отсчета.
  • Температура нагревательного элемента каждой плиты поддерживается и контролируется с помощью терморегулятора «Овен» ТРМ1  
  • Количество ванн: душевая стоп-ванна полипропиленовая – 1 шт.; ванна для финишной промывки пластин полипропиленовая – 1 шт.
  • Промывка пластин в «стоп-ванне»: объем – 6 л; многократное быстрое наполнение и сброс воды. Наполнение – через патрубок на дне ванны и форсунки рассеивателя вдоль передней и задней стенок ванны. Задание режимов (время, количество циклов сброса — наполнения) – на блоке управления «стоп-ванной». Расход воды выставляется вентилем, контролируется ротаметром. Комплектуется крышкой
  • Однокаскадная ванна для финишной промывки: объем – 6 л. Расход воды выставляется вентилем, контролируется ротаметром. Датчики кондуктометра «Сириус-2» АВПА.466452.001РЭ – в линиях подачи и слива воды для сравнения показателей удельного сопротивления чистой и отработанной воды
  • Производительность одной ванны: пластины ø(50÷76) мм (в 1-й кассете) – 25 шт.
  • Диапазон времени (дискретность регулировки: 1с) технологического процесса химической обработки: 1с ÷ 99 мин 59 с
  • Диапазон длительности  (дискретность задания: 1с) технологических циклов в «Стоп-ванне»: (1÷99) с
  • Количество циклов заполнения-слива: 1÷9
  • Система двойной очистки воздуха, подаваемого в установку с дискретной регулировкой скорости ламинарного потока: предварительная очистка – фильтр ФяГ, окончательная – фильтр ФяС
  • Откидные шторки из прозрачного оргстекла
  • Защитный фартук – из нержавеющей стали
  • Электронные системы установки размещены на задней части корпуса
  • Сжатый воздух: не ниже 12-го класса (ГОСТ17433-80), (0,7 ±0,05) МПа, ≥10 м3/ч
  • Деионизованная вода: марка А (ОСТ 11 029 003-80), (0,25 ±0,05) МПа, ≥1,0 м3/ч
  • Вытяжная кислотная вентиляция: ≥ 1500 м3/ч
  • Электроэнергия: 380В ±10%, 3ф, 50Гц ±2,5%, 2,5 кВт
  • Габаритные размеры: 1280 x 900 x 2000 мм
  • Вес: 350 кг
  • Опционно: изменение конфигурации

КС-28    Установка жидкостной химической обработки пластин в органических растворителях

  • Применение: для групповой кассетной химической обработки пластин в органических невзрывоопасных реагентах с последующей промывкой в холодной деионизованной воде
  • Пластины: 48×60 мм
  • Режим работы: автономно или в составе технохимической линии
  • Количество ванн: из нержавеющей стали (для обработки в химреактивах) – 2 шт., промывочная полипропиленовая ванна – 1 шт.
  • Комплектность ванны из нержавеющей стали: внутренние размеры (в зависимости от заказа) – 180х70х135 мм; крышка из нержавеющей стали;  время технологического процесса и подсчет количества проведенных технологических циклов контролируется с помощью таймера обратного отсчета
  • Промывка пластин в промывочной ванне: расход воды выставляется вентилем, контролируется ротаметром
  • Диапазон времени (дискретность регулировки: 1с) операций в ваннах из нержавеющей стали: 1с ÷ 99 мин 59 с
  • Откидные шторки из прозрачного оргстекла
  • Зоны возможного контакта с органическими растворителями и короб вытяжной вентиляции – из листовой нержавеющей стали
  • Электронные системы установки размещены на задней части корпуса
  • Сжатый воздух: не ниже 12-го класса (ГОСТ17433-80), (0,7 ±0,05) МПа
  • Деионизованная вода: марка А (ОСТ 11 029 003-80), (0,25 ±0,05) МПа, ≥1,0 м3/ч
  • Вытяжная кислотная вентиляция: ≥ 1500 м3/ч
  • Электроэнергия: 220В ±10%, 3ф, 50Гц ±2,5%, 0,3 кВт
  • Габаритные размеры: 1240 x 860 x 1800 мм
  • Вес: 130 кг
  • Опционно: изменение конфигурации

КС-32    Установка жидкостной химической обработки пластин

  • Применение: для групповой кассетной химической обработки и травления полупроводниковых пластин в различных невзрывоопасных реагентах с последующей промывкой в теплой и холодной деионизованной воде
  • Пластины: ø50 мм, ø76 мм, ø100 мм
  • Режим работы: автономно или в составе технохимической линии
  • Количество ванн: фторопластовые (для обработки в химреактивах) – 1 шт., полипропиленовая ванна (для промывки  в горячей проточной воде) – 1 шт.; душевая полипропиленовая стоп-ванна – 1 шт., однокаскадные полипропиленовые ванны (для финишной промывки в деионизованной воде) – 2 шт.
  • Комплектность фторопластовой ванны: объем – 6 л; нагреватель химреактивов – 1,0 кВт (через разделительный понижающий трансформатор); эжектор (для откачки химических реагентов из объема ванны); крышка на ванну;  терморегулятор типа «Овен» ТРМ1 (контроль, поддержание и регулировка температуры рабочей среды по заданным параметрам), время технологического процесса контролируется с помощью таймера обратного отсчета
  • Комплектность полипропиленовой ванны для промывки  в горячей проточной воде: устанавливаемый сзади установки проточный нагреватель-регулятор
  • Промывка пластин в душевой «стоп-ванне» – многократное быстрое наполнение и сброс воды. Наполнение – через патрубок на дне ванны и форсунки рассеивателя вдоль передней и задней стенок ванны. Время технологического цикла отмывки задается и контролируется с помощью таймера обратного отсчета. Расход воды выставляется вентилем, контролируется ротаметром. Комплектуется крышкой
  • Однокаскадная ванна для финишной промывки в деионизованной воде с крышкой и азотной завесой. Подача и регулировка азота – ротаметром расхода азота. Расход воды регулируется вентилем, контролируется ротаметром. Контроль качества отмывки пластин в деионизованной воде (по удельному электрическому сопротивлению) производится двухканальным кондуктометром «Сириус-2» АВПА.466452.001РЭ (второй канал – для организации рецикла). Слив отработанной деионизованной воды – отдельно от «стоп-ванны» для организации повторного использования воды
  • Производительность одной ванны: пластины ø100 мм (в 2-х кассетах) – 50 шт.
  • Рабочий регулируемый диапазон температуры реагентов во фторопластовой ванне: (20÷150)°C
  • Точность поддержания температуры реагентов в регулируемом диапазоне: ±2 °C
  • Время нагрева реагентов от 20 °C до 150 °C: ≤60 мин
  • Дискретность задания температуры реагента: 0,1°С
  • Диапазон времени (дискретность регулировки: 1с) операций во фторопластовых ваннах: 1с ÷ 99 мин 59 с
  • Диапазон длительности (дискретность задания: 1с) технологических циклов в «Стоп-ванне»: от 1 до 99 с
  • Количество циклов заполнения-слива: 1÷9
  • Система двойной очистки воздуха, подаваемого в установку с дискретной регулировкой скорости ламинарного потока: предварительная очистка — фильтр ФяГ, окончательная — фильтр ФяС
  • Откидные шторки из прозрачного оргстекла
  • Электронные системы установки размещены в коробе на передней части корпуса
  • Сжатый воздух: не ниже 12-го класса (ГОСТ17433-80), (0,5 ±0,1) МПа
  • Азот газообразный: 1 класса чистоты (ОСТ11 050.003-83), (0.2 ±0.05) МПа
  • Деионизованная вода: марка А (ОСТ 11 029 003-80), (0,25 ±0,05) МПа, ≥1,0 м3/ч
  • Питьевая вода: не ниже 10-го класса (ГОСТ 17216-71), (0,3 ±0,05) МПа, ≥0,8 м3/ч
  • Вытяжная кислотная вентиляция: ≥ 1500 м3/ч
  • Электроэнергия: 380В ±10%, 3ф, 50Гц ±2,5%, 1,5 кВт
  • Габаритные размеры: 1880 x 1300 x 2050 мм
  • Вес: 350 кг
  • Опционно: изменение конфигурации

КС-33   Установка жидкостной химической обработки пластин

  • Применение: для групповой кассетной химической обработки и травления полупроводниковых пластин в различных невзрывоопасных реагентах с последующей промывкой в теплой и холодной деионизованной воде
  • Пластины: ø50 мм, ø76 мм, ø100 мм
  • Режим работы: автономно или в составе технохимической линии
  • Количество ванн: фторопластовые (для обработки в химреактивах) – 4 шт., полипропиленовая стоп-ванна – 1 шт., промывочная полипропиленовая ванна (для финишной промывки в деионизованной воде) – 1 шт.
  • Комплектность фторопластовой ванны: объем – 6 л; эжектор (для откачки химических реагентов из объема ванны); крышка на ванну;  время технологического процесса контролируется с помощью таймера обратного отсчета
  • Промывка пластин в душевой «стоп-ванне» – многократное быстрое наполнение и сброс воды. Наполнение — через патрубок на дне ванны и форсунки рассеивателя вдоль передней и задней стенок ванны. Задание режимов отмывки в «стоп-ванне» (время, количество циклов сброса-наполнения) – блоком управления «стоп-ванной». Комплектуется крышкой
  • Ванна для финишной промывки в деионизованной воде с крышкой и азотной завесой. Расход воды регулируется вентилем, контролируется ротаметром. Контроль качества отмывки пластин в деионизованной воде (по удельному электрическому сопротивлению) производится двухканальным кондуктометром «Сириус-2» АВПА.466452.001РЭ (второй канал – для организации рецикла). Слив отработанной деионизованной воды – отдельно от «стоп-ванны» для организации повторного использования воды
  • Производительность одной ванны: пластины ø100 мм (в 2-х кассетах) – 50 шт.
  • Диапазон времени (дискретность регулировки: 1с) операций во фторопластовых ваннах: 1с ÷ 99 мин 59 с
  • Диапазон длительности (дискретность задания: 1с) технологических циклов в «Стоп-ванне»: от 1 до 99 с
  • Количество циклов заполнения-слива: 1÷9
  • Система двойной очистки воздуха, подаваемого в установку с дискретной регулировкой скорости ламинарного потока: предварительная очистка – фильтр ФяГ, окончательная – фильтр ФяС
  • Откидные шторки из прозрачного оргстекла
  • Электронные системы установки размещены в коробе на передней части корпуса
  • Сжатый воздух: не ниже 12-го класса (ГОСТ17433-80), (0,5 ±0,1) МПа
  • Азот газообразный: 1-го класса чистоты (ОСТ11 050.003-83), (0.2 ±0.05) МПа
  • Деионизованная вода: марка А (ОСТ 11 029 003-80), (0,25 ±0,05) МПа, ≥1,0 м3/ч
  • Питьевая вода: не ниже 10-го класса (ГОСТ 17216-71), (0,3 ±0,05) МПа, ≥0,8 м3/ч
  • Вытяжная кислотная вентиляция: ≥ 1500 м3/ч
  • Электроэнергия: 220В ±10%, 1ф, 50Гц ±2,5%, 0,5 кВт
  • Габаритные размеры: 1880 x 1300 x 2050 мм
  • Вес: 350 кг
  • Опционно: изменение конфигурации

КС-01(Г)   Установка химической очистки пластин (гальваника)

  • Применение: для групповой электрохимической обработки пластин в различных невзрывоопасных реагентах с последующей промывкой в холодной деионизованной воде
  • Пластины: ø50 мм, ø76 мм, ø100 мм и ø150 мм
  • Режим работы: автономно или в составе технохимической линии
  • Количество полипропиленовых ванн: для обработки в соляной кислоте (объем 2,5 л) – 1 шт., для сбора электролита (объем по 2,5 л) – 2 шт., для промывки в деионизованной воде (объем по 2,2 л) – 3 шт.; для электрохимической обработки пластин в невзрывоопасных реагентах (объем по 12 л; возможность установки нагревателей 1кВт, 24В, датчиков контроля температуры) – 2 шт.
  • Комплектность ванны электрохимической обработки: нагреватель химреактивов мощностью 1 кВт (от понижающего разделительного трансформатора); датчик контроля температуры реагента
  • Контроллер установки обеспечивает автоматический режим процесса нанесения гальванического покрытия. Параметры (время, температура, плотность тока, площадь и т.д.) задаются с пленочной клавиатуры и отображаются на жидкокристаллическом и светодиодных дисплеях
  • Расход деионизованной воды в ваннах отмывки регулируется вентилем
  • Рабочий регулируемый диапазон температуры реагентов в ванне электрохимической обработки пластин: до 70°C. Дискретность задания температуры реагента: 1°С. Точность поддержания температуры реагентов в регулируемом диапазоне: ±3 °C
  • Источник тока и управляющий контроллер: 1шт. (работает попеременно с первой или второй электрохимической ванной). Технологические параметры задаются раздельно для каждой гальванической ванны
  • Режимы обработки пластин в электрохимической ванне: 1 – постоянного тока, 2 –реверсивный (чередуются импульсы положительной и отрицательной полярности)
  • Длительность импульсов положительной и отрицательной полярности: (10÷60000) мс. Дискретность задания длительности импульсов – 10 мс
  • Диапазон задания плотности тока: (0,001÷0.2) мА/мм2. Дискретность задания плотности тока – 0,001 мА/мм2.
  • Диапазон задания площади обрабатываемых пластин: (1÷60000) мм2. Дискретность задания площади – 1 мм2.
  • Рабочий диапазон амплитуды тока: (20÷9990) мА. Дискретность задания – 10 мА.
  • Диапазон времени (дискретность регулировки: 1с) операций в электрохимической ванне: 1с ÷ 99 мин 59 с
  • Фильтровальные станции для очистки реагента для каждой электрохимической ванны
  • Механизм с пневматическим цилиндром для перемешивания электролита и удаления пузырьков газа с поверхности изделия (регулируемое перемещение оснастки в вертикальной плоскости)
  • Система двойной очистки воздуха, подаваемого в установку с дискретной регулировкой скорости ламинарного потока: предварительная очистка – фильтр ФяГ, окончательная – фильтр ФяС
  • Откидные шторки из прозрачного оргстекла
  • Ручной душик
  • Электроника размещена в верхнем отсеке корпуса и на откидной передней панели
  • Сжатый воздух: не ниже 12-го класса (ГОСТ17433-80), (0,7 ±0,05) МПа, ≥10 м3/ч
  • Деионизованная вода: марка А (ОСТ 11 029 003-80), (0,25 ±0,05) МПа, ≥1,0 м3/ч
  • Вытяжная кислотная вентиляция: ≥ 1500 м3/ч
  • Электроэнергия: 380В ±10%, 3ф, 50Гц ±2,5%, 3 кВт
  • Габаритные размеры: 1880 x 1000 x 2100 мм
  • Вес: 250 кг
  • Опционно: изготовление установки другой конфигурации

КСГ1   Установка гальваническая

  • Применение: для гальванической обработки подложек в невзрывоопасных реагентах с последующей промывкой в холодной деионизованной воде
  • Подложки: до 48 x 60 мм
  • Загрузка: до 4 шт
  • Режим работы: автономно или в составе линии нанесения гальванических покрытий
  • Количество полипропиленовых ванн: для операции декапирования (объем по 4 л) – 3 шт., для промывки в деионизованной воде (объем по 4,7 л) – 3 шт.; ванны для гальванической обработки подложек в невзрывоопасных реагентах (объем по 12 л; возможность установки нагревателей 1кВт, 24В, датчиков контроля температуры реагента) – 2 шт.
  • Контроллер установки обеспечивает автоматический режим процесса нанесения гальванического покрытия. Параметры (время, температура, плотность тока, площадь и т.д.) задаются с пленочной клавиатуры и отображаются на жидкокристаллическом и светодиодных дисплеях
  • Расход деионизованной воды в ваннах отмывки регулируется вентилем и контролируется по ротаметру
  • Рабочий регулируемый диапазон температуры электролита в гальванической ванне: до 70°C. Дискретность задания температуры реагента: 1°С. Точность поддержания температуры реагентов в регулируемом диапазоне: ±2 °C
  • Одновременная, независимая работа двух гальванических ванн
  • Режимы обработки пластин в гальванической ванне: 1 – постоянного тока, 2 –реверсивный (чередуются импульсы положительной и отрицательной полярности)
  • Длительность импульсов положительной и отрицательной полярности: (10÷60000) мс. Дискретность задания длительности импульсов – 10 мс
  • Диапазон задания плотности тока: (0,001÷0.2) мА/мм2. Дискретность задания плотности тока – 0,001 мА/мм2
  • Диапазон задания площади обрабатываемых пластин: (1÷60000) мм2. Дискретность задания площади: 1 мм2
  • Рабочий диапазон амплитуды тока: (1÷2999) мА. Дискретность задания – 1 мА
  • Диапазон времени (дискретность регулировки: 1с) операций в гальванической ванне: 1с ÷ 99 мин 59 с
  • Время технологического процесса в ваннах декапирования и промывочных –  по таймеру обратного отсчета; световая сигнализация окончания процесса
  • Фильтровальные станции для очистки реагента для каждой электрохимической ванны
  • Система очистки воздуха, подаваемого в установку с дискретной регулировкой скорости ламинарного потока: фильтр ФяС
  • Откидные шторки из прозрачного оргстекла
  • Ручной душ на гибком шланге
  • Электроника размещена в верхнем отсеке корпуса и на откидной передней панели
  • Азот газообразный: 1-го класса чистоты (ОСТ11 050.003-83), (0.2 ±0.05) МПа
  • Деионизованная вода: марка А (ОСТ 11 029 003-80), (0,25 ±0,05) МПа, ≥1,0 м3/ч
  • Питьевая вода: не ниже 10-го класса (ГОСТ 17216-71), (0,3 ±0,05)МПа, ≥0,8м3/ч
  • Вытяжная кислотная вентиляция: ≥ 1500 м3/ч
  • Электроэнергия: 380В ±10%, 3ф, 50Гц ±2,5%, 3 кВт
  • Габаритные размеры: 1880 x 1000 x 2035 мм
  • Вес: 250 кг
  • Опционно: изготовление установки другой конфигурации

КСГ2   Установка гальваническая

  • Применение: для гальванической обработки подложек в невзрывоопасных реагентах с последующей промывкой в холодной деионизованной воде
  • Подложки: до 48 x 60 мм
  • Загрузка: до 4 шт.
  • Режим работы: автономно или в составе линии нанесения гальванических покрытий
  • Количество полипропиленовых ванн: технологические, для операции декапирования (объем по 4 л) – 2 шт., для промывки в деионизованной воде (объем по 4,7 л) – 2 шт.; ванны для гальванической обработки подложек в невзрывоопасных реагентах (объем по 6 л; возможность установки нагревателей 1кВт, 24В, датчиков контроля температуры) – 2 шт.
  • Контроллер установки обеспечивает автоматический режим процесса нанесения гальванического покрытия. Параметры (время, температура, плотность тока, площадь и т.д.) задаются с пленочной клавиатуры и отображаются на жидкокристаллическом и светодиодных дисплеях.
  • Расход деионизованной воды в ваннах отмывки регулируется вентилем и контролируется по ротаметру на каждой промывочной ванне
  • Рабочий регулируемый диапазон температуры электролита в гальванической ванне: до 70°C. Дискретность задания температуры реагента: 1°С. Точность поддержания температуры реагентов в регулируемом диапазоне: ±2 °C
  • Одновременная, независимая работа двух гальванических ванн
  • Режимы обработки пластин в гальванической ванне: 1 – постоянного тока, 2 –реверсивный (чередуются импульсы положительной и отрицательной полярности).
  • Длительность импульсов положительной и отрицательной полярности: (10÷60000) мс. Дискретность задания длительности импульсов – 1мс.
  • Диапазон задания плотности тока: (0,001÷0.2) мА/мм2. Дискретность задания плотности тока – 0,001 мА/мм2
  • Диапазон задания площади обрабатываемых пластин: (1÷60000) мм2. Дискретность задания площади – 1 мм2
  • Рабочий диапазон амплитуды тока: (1÷2999) мА. Дискретность задания – 1 мА
  • Диапазон времени (дискретность регулировки: 1с) операций в гальванической ванне: 1с ÷ 99 мин 59 с
  • Время технологического процесса в ваннах декапирования и промывочных –  по таймеру обратного отсчета; световая сигнализация окончания процесса
  • Фильтровальные станции для очистки реагента для каждой гальванической ванны
  • Модуль центрифуги для сушки обрабатываемых пластин. Скорость вращения регулируется дискретно. Время задается и контролируется таймером FS-4.3. Возможность ручной остановки вращения 
  • Система очистки воздуха, подаваемого в установку с дискретной регулировкой скорости ламинарного потока: фильтр ФяС
  • Откидные шторки из прозрачного оргстекла
  • Ручной душ на гибком шланге
  • Электроника размещена в верхнем отсеке корпуса и на откидной передней панели
  • Азот газообразный: 1-го класса чистоты (ОСТ11 050.003-83), (0.2 ±0.05) МПа
  • Деионизованная вода: марка А (ОСТ 11 029 003-80), (0,25 ±0,05) МПа, ≥1,0 м3/ч
  • Вытяжная кислотная вентиляция: ≥ 1500 м3/ч
  • Электроэнергия: 380В ±10%, 3ф, 50Гц ±2,5%, 3 кВт
  • Габаритные размеры: 1880 x 1000 x 2035 мм
  • Вес: 250 кг
  • Опционно: изготовление установки другой конфигурации

Двухсекционная установка гальванического осаждения

  • Установка гальванической обработки пластин
  • Применение: для кассетной гальванической обработки пластин в различных невзрывоопасных реагентах с последующей промывкой в холодной деионизованной воде
  • Пластины: ø50 мм, ø76 мм, ø100 мм
  • Режим работы: автономно или в составе технохимической линии
  • Количество полипропиленовых ванн: для промывки в деионизованной воде (объем по 2,2 л) – 2 шт.; для нанесения гальванических покрытий (объем по 12 л; возможность установки нагревателей 1кВт, 24В, датчиков контроля температуры) – 2 шт.
  • Контроллер установки обеспечивает автоматический режим процесса нанесения гальванического покрытия. Параметры (время, температура, плотность тока, площадь и т.д.) задаются с пленочной клавиатуры и отображаются на жидкокристаллическом и светодиодных дисплеях
  • Расход деионизованной воды в ваннах отмывки регулируется вентилем
  • Рабочий регулируемый диапазон температуры реагентов в ванне гальванической обработки пластин: до 70 °C. Дискретность задания температуры реагента: 1°С. Точность поддержания температуры реагентов в регулируемом диапазоне: ±2 °C
  • Источник тока и управляющий контроллер: 1шт. (работает попеременно с первой или второй электрохимической ванной). Технологические параметры задаются раздельно для каждой гальванической ванны
  • Режимы обработки пластин в электрохимической ванне: 1 – постоянного тока, 2 –реверсивный (чередуются импульсы положительной и отрицательной полярности)
  • Длительность импульсов положительной и отрицательной полярности: (1÷60000)мс. Дискретность задания длительности импульсов – 1мс
  • Диапазон задания плотности тока: (0,001÷0.2) мА/мм2. Дискретность задания плотности тока – 0,001 мА/мм2
  • Диапазон задания площади обрабатываемых пластин: (1÷60000) мм2. Дискретность задания площади: 1 мм2
  • Рабочий диапазон амплитуды тока: (1÷2999) мА. Дискретность задания: 1 мА
  • Диапазон времени (дискретность регулировки: 1с) операций в электрохимической ванне: 1с ÷ 99 мин 59 с
  • Механизм с пневматическим цилиндром для перемешивания электролита и удаления пузырьков газа с поверхности изделия (регулируемое перемещение оснастки в вертикальной плоскости)
  • Система очистки воздуха, подаваемого в установку с дискретной регулировкой скорости ламинарного потока: фильтр ФяС
  • Откидные шторки из прозрачного оргстекла
  • Электроника размещена в верхнем отсеке корпуса и на откидной передней панели
  • Сжатый воздух: не ниже 12-го класса (ГОСТ17433-80), (0,7 ±0,05) МПа, ≥10 м3/ч
  • Деионизованная вода: марка А (ОСТ 11 029 003-80), (0,25 ±0,05) МПа, ≥1,0 м3/ч
  • Вытяжная кислотная вентиляция: ≥ 1500 м3/ч
  • Электроэнергия: 380В ±10%, 3ф, 50Гц ±2,5%, 3 кВт
  • Габаритные размеры: 1280 x 1000 x 2035 мм
  • Вес: 250 кг
  • Опционно: изготовление установки другой конфигурации

Трехсекционная установка гальванического осаждения

  • Установка гальванической обработки пластин
  • Применение: для кассетной гальванической обработки пластин в различных невзрывоопасных реагентах с последующей промывкой в холодной деионизованной воде
  • Пластины: ø50 мм, ø76 мм, ø100 мм
  • Режим работы: автономно или в составе технохимической линии
  • Количество ванн: фторопластовые для нанесения гальванических покрытий (объем по 12 л; возможность установки нагревателей 1кВт, 24В, датчиков контроля температуры) – 2 шт., полипропиленовые для промывки в деионизованной воде (объем по 2,2 л) – 3 шт., полипропиленовая ванна декапирования (объем 2,5 л) – 1 шт.
  • Контроллер установки обеспечивает автоматический режим процесса нанесения гальванического покрытия. Параметры (время, температура, плотность тока, площадь и т.д.) задаются с пленочной клавиатуры и отображаются на жидкокристаллическом и светодиодных дисплеях.
  • Расход деионизованной воды в ваннах отмывки регулируется вентилем
  • Рабочий регулируемый диапазон температуры реагентов в ванне гальванической обработки пластин: до 70 °C. Дискретность задания температуры реагента: 1°С. Точность поддержания температуры реагентов в регулируемом диапазоне: ±2 °C
  • Источник тока и управляющий контроллер: 1шт. (работает попеременно с первой или второй электрохимической ванной). Технологические параметры задаются раздельно для каждой гальванической ванны.
  • Режимы обработки пластин в гальванической ванне: 1 – постоянного тока, 2 –реверсивный (чередуются импульсы положительной и отрицательной полярности).
  • Длительность импульсов положительной и отрицательной полярности: (1÷60000) мс. Дискретность задания длительности импульсов: 1мс
  • Диапазон задания плотности тока: (0,001÷0.2) мА/мм2. Дискретность задания плотности тока: 0,001 мА/мм2
  • Диапазон задания площади обрабатываемых пластин: (1÷60000) мм2. Дискретность задания площади: 1 мм2
  • Рабочий диапазон амплитуды тока: (1÷2999) мА. Дискретность задания: 1 мА
  • Диапазон времени (дискретность регулировки: 1с) операций в гальванической ванне: 1с ÷ 99 мин 59 с
  • Электромеханическая мешалка электролита: рабочие детали – из фторопласта; герметично закрытые кожухом двигатель с редуктором – на полипропиленовом основании, двигатель запитан через разделительный понижающий трансформатор и заземлен
  • Модуль центрифуги для сушки обрабатываемых пластин. Скорость вращения регулируется дискретно (6 положений). Время задается и контролируется таймером FS-4.3. Возможность ручной остановки вращения 
  • Система очистки воздуха, подаваемого в установку с дискретной регулировкой скорости ламинарного потока: фильтр ФяС
  • Откидные шторки из прозрачного оргстекла
  • Электроника размещена в верхнем отсеке корпуса и на откидной передней панели
  • Сжатый воздух: не ниже 12-го класса (ГОСТ17433-80), (0,7 ±0,05) МПа, ≥10 м3/ч
  • Деионизованная вода: марка А (ОСТ 11 029 003-80), (0,25 ±0,05) МПа, ≥1,0 м3/ч
  • Вытяжная кислотная вентиляция: ≥ 1500 м3/ч
  • Электроэнергия: 380В ±10%, 3ф, 50Гц ±2,5%, 3 кВт
  • Габаритные размеры: 1880 x 1000 x 2035 мм
  • Вес: 250 кг
  • Опционно: изготовление установки другой конфигурации

Установки получения проявителя и травителя

  • Установка получения безметального проявителя и селективного травителя
  • Применение: для получения безметального проявителя и селективного травителя, применяемых в производстве интегральных микросхем с нанометровыми топологическими нормами
  • Состав установок: модуль для приготовления раствора с накопительным баком; модуль для тары с исходным сырьем (два модуля для установки приготовления селективного травителя); модуль для тары для готового продукта
  • Состав модулей: полипропиленовый корпус на регулируемых опорах;  герметичные поддоны для сбора пролитой жидкости; прозрачные дверцы с перчаточными портами и фильтрами для воздуха из окружающей атмосферы; водяные пистолеты для подачи деионизованной воды; датчики разряжения воздуха внутри модуля. Модули для тары с исходным сырьем и модуль для тары для готового продукта оборудованы роликами для загрузки тары (200 литровая бочка). Модули приготовления раствора установок получения безметального проявителя и селективного травителя оснащены специальной, продуваемой азотом  камерой для отбора проб жидкостей.
  • Электронные блоки модулей герметично защищены и находятся в атмосфере чистого осушенного воздуха
  • Режим работы: полуавтоматический – ввод объемов реактивов и корректирующих порций для получения готовых продуктов выполняет оператор с пульта управления на основании текущих данных
  • Прибор для измерения электропроводности типа Lignilina CM44x для оценки концентрации химиката в готовом растворе
  • Микронасос для подачи ПАВ
  • Подача сверхчистого азота для азотной подушки над поверхностью рабочих жидкостей
  • Точность концентрации готового продукта – 0,0005 моль/литр, содержание примесей элементов – ≤1 ppb при температуре окружающего воздуха (20÷25) °C
  • Специальный дозатор для NH4F
  • Производительность установок: до 600 л/смену
  • Точность дозирования деионизованной воды: ≤10 мл
  • Точность дозирования ТМАГ, NH4F, HF: ≤1мл (при минимальном объеме дозы – 10 мл)
  • Точность дозирования ПАВ: ≤0,15 мкл (при минимальном объеме дозы – 0,15 мкл)
  • Габаритные размеры: модуль для приготовления раствора – 2000 x 800 x 2000 мм; модуль для готового продукта и модуль для тары с исходным сырьем – 950 x 800 x 2000 мм
  • Опционно: изготовление установки другой конфигурации

Линия выращивания золото-никелевых контактов

  • Применение: для формирования столбиковых микровыводов на основе химического никеля и иммерсионного золота
  • Стадии формирования контактов: обезжиривание, активирование (травление), цинкатная обработка, химическое никелирование, иммерсионное осаждение золота
  • Состав линии выращивания золото-никелевых контактов: установка травления; установки цинкатной обработки; установка химического никелирования; установка иммерсионного золочения; ламинарные обеспыленные боксы; установка отмывки и сушки пластин ротационным способом; шкафы хранения химических реактивов (в техзоне) с мембранными химически стойкими пневматическими насосами
  • Пластины: до ø200 мм
  • Обработка: в кассетах
  • Ламинарный поток обеспыленного воздуха в рабочей зоне
  • Режим заполнения ванн: ручной или автоматический
  • Автоматическое поддержание уровня реагента в ваннах с защитой от переполнения реагентом в случае возникновения аварийной ситуации
  • Низковольтные нагреватели во фторопластовой оболочке для ванн химического осаждения никеля и золота
  • ПИД регуляторы для поддержания необходимой температуры реагента
  • Непрерывная рециркуляция и фильтрация реагента во всех ваннах, кроме ванн травления, для однородности состава и температуры раствора во всем объеме ванны
  • Измерители pH раствора и насосы-дозаторы подачи корректирующих растворов для ванн химического осаждения никеля и золота
  • Душевые стоп-ванны для промывки (многократное наполнение-сброс деионизованной воды) пластин после химической обработки
  • Финишная отмывка и сушка полупроводниковых пластин в установке отмывки и сушки пластин ротационным способом
  • Опционно: изготовление установки другой конфигурации

Установка обработки в кислотах (травление) линии выращивания золото-никелевых контактов

  • Установка обработки в кислотах (травление)
  • Применение: для групповой кассетной химической обработки полупроводниковых пластин в различных невзрывоопасных реагентах с последующей промывкой в деионизованной воде
  • Работает совместно со шкафом для хранения и дозированной подачи кислоты (HNO3) и раствора для цинкатной обработки 
  • Пластины: до ø200 мм
  • Режим работы: автономно или в составе линии выращивания золото-никелевых контактов
  • Количество ванн: фторопластовая (с крышкой) для обработки в химреактивах – 1 шт., полипропиленовая душевая стоп-ванна (с крышкой) для отмывки в деионизованной воде – 1 шт.
  • Внутренние размеры: фторопластовой ванны – 340 х 325 х 552 мм, объем реагента, заливаемого до рабочего уровня (370) мм – 41 л; полипропиленовой душевой стоп-ванны – 260 х 260 х 500 мм, объем деионизованной воды до уровня перелива – 18 л
  • Производительность ванны: пластины до ø200 мм (в 1-й кассете) – 25 шт.
  • Диапазон времени (дискретность регулировки: 1с) операций во фторопластовой ванне: 1с ÷ 99 мин 59 с
  • Длительность процесса контролируется таймером ФС-1.1
  • Диапазон длительности (дискретность задания: 1с) технологических циклов в «Стоп-ванне»: от 1 до 99 с
  • Количество циклов заполнения-слива: 1÷9
  • Технологические параметры процесса отмывки (время слива/наполнения ванны, количество циклов слив/наполнение) задаются и контролируются таймером ФС-2
  • Комплектуется блоком обеспыливания воздуха с фильтром ФяС
  • Сжатый воздух: не ниже 12-го класса (ГОСТ17433-80), (0,6 ±0,01) МПа, ≥1,2 м3/ч
  • Деионизованная вода: марка А (ОСТ 11 029 003-80), (0,25 ±0,05) МПа, ≥1,0 м3/ч
  • Вытяжная кислотная вентиляция: ≥ 800 м3/ч
  • Электроэнергия: 220В ±10%, 1ф, 50Гц ±2,5%, 0,6 кВт
  • Габаритные размеры: 1280 x 1000 x 2050 мм
  • Вес: 250 кг

Установка цинкатной обработки тип 1 линии выращивания золото-никелевых контактов

  • Установка цинкатной обработки тип 1
  • Применение: для групповой кассетной химической обработки полупроводниковых пластин в различных невзрывоопасных реагентах с последующей промывкой в деионизованной воде
  • Работает совместно со шкафом для хранения и дозированной подачи кислоты (HNO3) и раствора для цинкатной обработки 
  • Пластины: до ø200 мм
  • Режим работы: автономно или в составе линии выращивания золото-никелевых контактов
  • Количество ванн: фторопластовая (с крышкой) для обработки в химреактивах – 2 шт., полипропиленовая душевая стоп-ванна (с крышкой) для отмывки в деионизованной воде – 1 шт.
  • Внутренние размеры: фторопластовой ванны – 340 х 325 х 552 мм, объем реагента, заливаемого до рабочего уровня (370) мм – 41 л; полипропиленовой душевой стоп-ванны – 260 х 260 х 500 мм, объем деионизованной воды до уровня перелива – 18 л
  • Производительность ванны: пластины до ø200 мм (в 1-й кассете) – 25 шт.
  • Контроль и индикация технологических параметров, система поддержания уровня реагентов индивидуальны для каждой фторопластовой ванны
  • Фильтровальная установка МС15-51794 для рециркуляции реагента в ванне для цинкатной обработки с его фильтрацией
  • Измеритель-регулятор ТРМ1-Щ2.У.С для контроля температуры в ванне
  • Диапазон времени (дискретность регулировки: 1с) операций во фторопластовой ванне: 1с ÷ 99 мин 59 с
  • Длительность процесса контролируется таймером ФС-1.1
  • Диапазон длительности (дискретность задания: 1с) технологических циклов в «Стоп-ванне»: от 1 до 99 с
  • Количество циклов заполнения-слива: 1÷9
  • Технологические параметры процесса отмывки (время слива/наполнения ванны, количество циклов слив/наполнение) задаются и контролируются таймером ФС-2
  • Комплектуется блоком обеспыливания воздуха с фильтром ФяС
  • Сжатый воздух: не ниже 12-го класса (ГОСТ17433-80), (0,6 ±0,01) МПа, ≥1,2 м3/ч
  • Деионизованная вода: марка А (ОСТ 11 029 003-80), (0,25 ±0,05) МПа, ≥1,0 м3/ч
  • Вытяжная кислотная вентиляция: ≥ 800 м3/ч
  • Электроэнергия: 220В ±10%, 1ф, 50Гц ±2,5%, 0,6 кВт
  • Габаритные размеры: 1880 x 1000 x 2050 мм
  • Вес: 350 кг

Установка цинкатной обработки тип 2 линии выращивания золото-никелевых контактов

  • Установка цинкатной обработки тип 2
  • Применение: для групповой кассетной химической обработки полупроводниковых пластин в различных невзрывоопасных реагентах с последующей промывкой в деионизованной воде
  • Работает совместно со шкафом для хранения и дозированной подачи кислоты (HNO3) и раствора для цинкатной обработки 
  • Пластины: до ø200 мм
  • Режим работы: автономно или в составе линии выращивания золото-никелевых контактов
  • Количество ванн: фторопластовая (с крышкой) для обработки в химреактивах – 1 шт., полипропиленовая душевая стоп-ванна (с крышкой) для отмывки в деионизованной воде – 2 шт.
  • Внутренние размеры: фторопластовой ванны – 340 х 325 х 552 мм, объем реагента, заливаемого до рабочего уровня (370) мм – 41л; полипропиленовой душевой стоп-ванны – 260 х 260 х 500 мм, объем деионизованной воды до уровня перелива – 18 л
  • Производительность ванны: пластины до ø200 мм (в 1-й кассете) – 25 шт.
  • Фильтровальная установка МС15-51794 для рециркуляции реагента в ванне для цинкатной обработки с его фильтрацией
  • Измеритель-регулятор ТРМ1-Щ2.У.С для контроля температуры в ванне
  • Диапазон времени (дискретность регулировки: 1с) операций во фторопластовой ванне: 1с ÷ 99 мин 59 с
  • Длительность процесса контролируется таймером ФС-1.1
  • Диапазон длительности (дискретность задания: 1с) технологических циклов в «Стоп-ванне»: от 1 до 99 с
  • Количество циклов заполнения-слива: 1÷9
  • Технологические параметры процесса отмывки (время слива/наполнения ванны, количество циклов слив/наполнение) задаются и контролируются таймером ФС-2
  • Комплектуется блоком обеспыливания воздуха с фильтром ФяС
  • Сжатый воздух: не ниже 12-го класса (ГОСТ17433-80), (0,6 ±0,01) МПа, ≥1,2 м3/ч
  • Деионизованная вода: марка А (ОСТ 11 029 003-80), (0,25 ±0,05) МПа, ≥2,0 м3/ч
  • Вытяжная кислотная вентиляция: ≥ 800 м3/ч
  • Электроэнергия: 220В ±10%, 1ф, 50Гц ±2,5%, 0,6 кВт
  • Габаритные размеры: 1880 x 1000 x 2050 мм
  • Вес: 350 кг

Установка химического никелирования линии выращивания золото-никелевых контактов

  • Установка химического никелирования
  • Применение: для групповой кассетной химической обработки полупроводниковых пластин в различных невзрывоопасных реагентах с последующей промывкой в деионизованной воде
  • Работает совместно со шкафом для хранения и дозированной подачи кислоты раствора для химического никелирования 
  • Пластины: до ø200 мм
  • Режим работы: автономно или в составе линии выращивания золото-никелевых контактов
  • Количество ванн: фторопластовая (с крышкой) для обработки в химреактивах – 2 шт., полипропиленовая душевая стоп-ванна (с крышкой) для отмывки в деионизованной воде – 2 шт.
  • Комплектность ванны химического никелирования: три нагревателя химреактивов мощностью по 1 кВт (от понижающего разделительного трансформатора); датчик контроля температуры реагента
  • Измеритель-регулятор ТРМ210-Щ2.КР для контроля и поддержания температуры в ванне с точностью ±1°С
  • Максимальная допустимая температура в фторопластовой ванне: 100 °C
  • Внутренние размеры: фторопластовой ванны – 340 х 325 х 552 мм, объем реагента, заливаемого до рабочего уровня (370) мм – 41 л; полипропиленовой душевой стоп-ванны – 260 х 260 х 500 мм, объем деионизованной воды до уровня перелива – 18 л     
  • Производительность ванны: пластины до ø200 мм (в 1-й кассете) – 25 шт.
  • Контроль и индикация технологических параметров, система поддержания уровня реагентов индивидуальны для каждой фторопластовой ванны
  • Время нагрева реагентов от 20 °C до 90 °C: ≤80 мин
  • Фильтровальная установка МС15-52460 для рециркуляции реагента в ванне для химического никелирования с его фильтрацией (1 мкм)
  • Мультипараметрический трансмиттер М300 с датчиками pH InPro4501VP для фторопластовых ванн
  • Диапазон времени (дискретность регулировки: 1с) операций во фторопластовой ванне: 1с ÷ 9 ч 59 мин 59 с
  • Длительность процесса контролируется таймером ФС-1.1М
  • Диапазон длительности (дискретность задания: 1с) технологических циклов в «Стоп-ванне»: от 1 до 99 с
  • Количество циклов заполнения-слива: 1÷9
  • Технологические параметры процесса отмывки (время слива/наполнения ванны, количество циклов слив/наполнение) задаются и контролируются таймером ФС-2
  • Комплектуется блоком обеспыливания воздуха с фильтром ФяС
  • Сжатый воздух: не ниже 12-го класса (ГОСТ17433-80), (0,6 ±0,01) МПа, ≥1,2 м3/ч
  • Деионизованная вода: марка А (ОСТ 11 029 003-80), (0,25 ±0,05) МПа, ≥2,0 м3/ч
  • Вытяжная кислотная вентиляция: ≥ 800 м3/ч
  • Электроэнергия: 380В ±10%, 3ф, 50Гц ±2,5%, 8 кВт
  • Габаритные размеры: 1880 x 1000 x 2050 мм
  • Вес: 450 кг

Установка химического золочения линии выращивания золото-никелевых контактов

  • Установка химического золочения
  • Применение: для групповой кассетной химической обработки полупроводниковых пластин в различных невзрывоопасных реагентах с последующей промывкой в деионизованной воде
  • Работает совместно со шкафом для хранения и дозированной подачи кислоты раствора для химического золочения 
  • Пластины: до ø200 мм
  • Режим работы: автономно или в составе линии выращивания золото-никелевых контактов
  • Количество ванн: фторопластовая (с крышкой) для обработки в химреактивах – 1 шт., полипропиленовая ванна улавливания (с крышкой) для отмывки в деионизованной воде – 2 шт.
  • Комплектность ванны химического золочения: три нагревателя химреактивов мощностью по 1 кВт (от понижающего разделительного трансформатора); датчик контроля температуры реагента
  • Измеритель-регулятор ТРМ210-Щ2.КР для контроля и поддержания температуры в ванне с точностью ±1°С
  • Максимальная допустимая температура во фторопластовой ванне: 100 °C
  • Внутренние размеры: фторопластовой ванны – 340 х 325 х 552 мм, объем реагента, заливаемого до рабочего уровня (370) мм – 41л; полипропиленовой ванны улавливания – 260 х 260 х 500 мм, объем деионизованной воды до уровня перелива – 18 л     
  • Производительность ванны: пластины до ø200 мм (в 1-й кассете) – 25 шт.
  • Время нагрева реагентов от 20 °C до 90 °C: ≤80 мин
  • Фильтровальная установка МС15-52460 для рециркуляции реагента в ванне для химического золочения с его фильтрацией (1 мкм)
  • Мультипараметрический трансмиттер М300 с датчиками pH InPro4501VP для фторопластовой ванны
  • Слив из фторопластовой ванны: в кислотно-щелочную канализацию или в технологическую тару
  • Диапазон времени (дискретность регулировки: 1с) операций во фторопластовой ванне: 1с ÷ 9 ч 59 мин 59 с
  • Длительность процесса контролируется таймером ФС-1.1М
  • Слив из ванн улавливания: в технологическую тару
  • Комплектуется блоком обеспыливания воздуха с фильтром ФяС
  • Сжатый воздух: не ниже 12-го класса (ГОСТ17433-80), (0,6 ±0,01) МПа, ≥12 м3/ч
  • Деионизованная вода: марка А (ОСТ 11 029 003-80), (0,25 ±0,05) МПа, ≥0,5 м3/ч
  • Вытяжная кислотная вентиляция: ≥ 800 м3/ч
  • Электроэнергия: 380В ±10%, 3ф, 50Гц ±2,5%, 4 кВт
  • Габаритные размеры: 1880 x 1000 x 2050 мм
  • Вес: 350 кг

Лада-Рельеф

  • Установка нанесения, проявления и сушки фоторезиста
  • Применение: для нанесения (проявления)  фоторезиста методом центрифугирования с последующей сушкой на кондуктивной плите
  • Пластины: ø76 мм, ø100 мм, ø125 мм
  • Режим работы: автоматический
  • Загрузка: кассетная
  • Производительность кинематическая: ≥ 200 пл/ч
  • Время непрерывной работы в автоматическом режиме: ≥16 ч
  • Температура контактных нагревателей: (40÷250) ºC с точностью поддержания в диапазоне (40÷80) °C – ±3 ºC, в диапазоне (81÷250) ºC – ±1 ºC
  • Время выхода установки на рабочий режим: ≤30 мин
  • Максимальный диапазон задания времени технологических операций: (0,1÷99,9) с
  • Диапазон задания времени технологических операций: (             0,1÷99,9) с
  • Частота вращения центрифуги: (500÷9999) мин-1 с дискретностью задания – 1-1
  • Точность поддержания вращения центрифуги: в диапазоне (500÷1990) мин-1 – ±20 мин-1; в диапазоне (2000÷9900) мин-1 – ±1 %
  • Диапазон задания ускорения: (0÷50000) мин-1/с, дискретность задания ускорения –

   1000 мин-1/с и точностью поддержания ускорения ±10 %

  • Минимальное время выхода центрифуги на режим 9900 об/мин со столиком ø100 мм: ≤0,25 с
  • Комплектуется установкой обеспыливания «Лада-2М М3.387.053»
  • Управляющий контроллер с ЖК дисплеем и клавиатурой
  • Азот газообразный: 1 сорт (ГОСТ9293-74), точка росы (-60) ºС, (0,2÷0,25) МПа, ≤0,001 м3/с
  • Вакуум: ≤2,63×104 Па
  • Вытяжная вентиляция: ≥ 0,14 м3/с
  • Электроэнергия: 220 В, 1 ф, 50 Гц, 1,5 кВт
  • Габаритные размеры на базе установки Лада – 125 с модулем сушки: 1840×630×1200 мм
  • Вес: 330 кг