АО «НИИТОП»

Комплекс технохимии

Комплект оборудования для технохимической обработки подложек
Применение: для групповой кассетной химической обработки поликоровых пластин / подложек в производстве микрополосковых плат
Состав комплекса: линия химического осаждения золота; линия подготовки поверхности меди перед нанесением фоторезиста на проводниковые слои и перед золочением; линия травления резистивных слоев; линия химической подготовки подложек перед напылением резистивных и проводниковых слоев; линия предварительной химической подготовки подложек перед напылением
Подложки: 24х15 мм, 30х24 мм, 20х48 мм, 48х30 мм, 60х48 мм
Емкость фторопластовых кассет с вертикальным расположением подложек: 24х15 – 80 шт., 30х24 – 30 шт., 20х48 – 20 шт., 48х30 – 30 шт., 60х48 – 20 шт.
Количество фторопластовых кассет с вертикальным расположением подложек: по 10 шт. каждого типоразмера
Емкость фторопластовых кассет с горизонтальным расположением подложек: 24х15 – 8 шт., 30х24 – 3 шт., 20х48 – 4 шт., 48х30 – 4 шт.

Показать больше

Количество фторопластовых кассет с вертикальным расположением подложек: по 5 шт. каждого типоразмера
Производительность линий: 300 подложек/смену
Типовые ванны: ванна химической обработки, ванна улавливания, ванна промывки, ванна сушки
Фторопластовые крышки для ванн никелирования , золочения, палладирования
Пролипропиленовые крышки для ванн промывки
Ручные залив (вентилем)/слив технологических растворов в/из ванны
Ванны (кроме глухих): со сливными патрубками с вентилями
Глухие легкосъемные ванны: растворы удаляются насосом в соответствующий трубопровод, либо извлечением ванны и сливом в емкость
Устройства слива растворов и промывных вод – под столешницей модулей над поддоном, соединяется общей трубой с установкой регенерации, либо с системой канализации
Органические растворители сливаются в емкости
Ванны промывки с системой регулировки подачи деионизованной воды
Ванны сушки с регистрами с форсунками для нагреваемых калориферами воздуха и азота
Нагрев: ИК лампами с датчиком непрерывного измерения температуры в протоке подогреваемой среды
Калорифер: из алюминиевого сплава
Микропроцессорные устройства контроля и регулировки температуры с точностью поддержания температуры растворов: ±10 °С
Время нагрева реагентов от 20 °С до 100 °С: 60 мин
Полипропиленовые поддоны под ваннами для сбора растворов при аварийной утечке
Блоки управления: встроенные в каждый модуль линии, в т.ч. микропроцессорные реле времени для задавания числа циклов обработки (1÷5), времени обработки и подающие сигнал об окончании процесса
Прозрачные защитные экраны
Чистый газообразный азот
Сжатый очищенный воздух
Деионизованная вода
Вытяжная вентиляция
Электроэнергия: 380 В ±10%, 3ф, 50 Гц ±2,5%, 10 кВт

Показать меньше

УНФ-1

Установка нанесения позитивного фоторезиста для мелкосерийного производства и НИОКР
Применение: для нанесения позитивного фоторезиста на подложки методом центрифугирования
Варианты применения: автономно или в составе линии
Подложки: 60×48 мм, 48×30 мм, 48×20 мм, 30×24 мм, 24×15 мм
Набор сменных столиков
Частота вращения вала: (0÷3500) об/мин
Дискретность задания скорости: ±1 об/мин

Показать больше

Точность поддержания скорости вращения: ±1 %
Количество каналов подачи фоторезиста: 1 шт.
Диапазон дозирования фоторезиста: (0,5÷10,0) мл
Точность дозирования: ±0,2 мл
Диапазон задания времени цикла: (1÷999) с
Сжатый воздух по ГОСТ 17433: 3 кгс/см², ≤14 м³/ч
Электроэнергия: 220 В, 1 ф, 50 Гц, 1 кВА
Габаритные размеры: 850×750×1400 мм
Масса: ≤200 кг

Показать меньше

УНФ-2

Установка нанесения негативного фоторезиста для мелкосерийного производства и НИОКР
Применение: для нанесения негативного фоторезиста на подложки методом центрифугирования
Варианты применения: автономно или в составе линии
Подложки: 60×48 мм, 48×30 мм, 48×20 мм, 30×24 мм, 24×15 мм
Набор сменных столиков
Частота вращения вала: (0÷3500) об/мин
Дискретность задания скорости: ±1 об/мин
Точность поддержания скорости вращения: ±1 %
Количество каналов подачи фоторезиста: 1 шт.
Диапазон дозирования фоторезиста: (0,5÷10,0) мл
Точность дозирования: ±0,2 мл
Диапазон задания времени цикла: (1÷999) с
Сжатый воздух по ГОСТ 17433: 3 кгс/см², ≤14 м³/ч
Электроэнергия: 220 В, 1 ф, 50 Гц, 1 кВА
Габаритные размеры: 850×750×1400 мм
Масса: ≤200 кг

УПФ-1

Установка проявления позитивного фоторезиста для мелкосерийного производства и НИОКР
Применение: для проявления фоторезиста на подложки методом центрифугирования
Варианты применения: автономно или в составе линии
Подложки: 60×48 мм, 48×30 мм, 48×20 мм, 30×24 мм, 24×15 мм
Набор сменных столиков
Частота вращения вала: (0÷3500) об/мин
Дискретность задания скорости: ±1 об/мин
Точность поддержания скорости вращения: ±1 %
Количество каналов подачи проявителя: 1 шт.
Диапазон дозирования проявителя: (1÷120,0) мл
Точность дозирования: ±0,2 мл
Количество каналов подачи деионизованной воды: один
Диапазон дозирования деионизированной воды: (100÷300,0) мл
Точность дозирования деионизированной воды: (10÷50,0) мл
Диапазон задания времени цикла: (1÷999) с
Сжатый воздух по ГОСТ 17433: 3 кгс/см², ≤14 м³/ч
Слив в канализацию
Электроэнергия: 220 В, 1 ф, 50 Гц, 1 кВА
Габаритные размеры: 850×750×1400 мм
Масса: ≤200 кг

УПФ-2

Установка проявления негативного фоторезиста для мелкосерийного производства и НИОКР
Применение: для проявления фоторезиста на подложки методом центрифугирования
Варианты применения: автономно или в составе линии
Подложки: 60×48 мм, 48×30 мм, 48×20 мм, 30×24 мм, 24×15 мм
Набор сменных столиков
Частота вращения вала: (0÷3500) об/мин
Дискретность задания скорости: ±1 об/мин
Точность поддержания скорости вращения: ±1 %
Количество каналов подачи проявителя: 1шт.
Диапазон дозирования проявителя: (1÷120,0) мл
Точность дозирования: ±0,2 мл
Количество каналов подачи изопропилового спирта: один
Диапазон дозирования изопропилового спирта: (100÷300,0) мл
Точность дозирования изопропилового спирта: (10÷50,0) мл
Диапазон задания времени цикла: (1÷999) с
Сжатый воздух по ГОСТ 17433: 3 кгс/см², ≤14 м³/ч
Электроэнергия: 220 В, 1 ф, 50 Гц, 1 кВА
Габаритные размеры: 850 м750×1400 мм
Масса: ≤200 кг

Обратная связь

АО «НИИТОП»

Комплекс технохимии

УНФ-1

УНФ-2

УПФ-1

УПФ-2

Презентации

Инженерное оборудование

Технологическое оборудование