АО «НИИТОП»

Комплекс технохимии

  • Комплект  оборудования  для технохимической обработки подложек
  • Применение: для групповой кассетной химической обработки поликоровых пластин / подложек в производстве микрополосковых плат
  • Состав комплекса: линия химического осаждения золота; линия подготовки поверхности меди перед нанесением фоторезиста на проводниковые слои и перед золочением; линия травления резистивных слоев; линия химической подготовки подложек перед напылением резистивных и проводниковых слоев; линия предварительной химической подготовки подложек перед напылением
  • Подложки: 24х15 мм, 30х24 мм, 20х48 мм, 48х30 мм, 60х48 мм
  • Емкость фторопластовых кассет с вертикальным расположением подложек: 24х15 – 80 шт., 30х24 – 30 шт., 20х48 – 20 шт., 48х30 – 30 шт., 60х48 – 20 шт.
  • Количество фторопластовых кассет с вертикальным расположением подложек: по 10 шт. каждого типоразмера
  • Емкость фторопластовых кассет с горизонтальным расположением подложек: 24х15 – 8 шт., 30х24 – 3 шт., 20х48 – 4 шт., 48х30 – 4 шт.
  • Количество фторопластовых кассет с вертикальным расположением подложек: по 5 шт. каждого типоразмера
  • Производительность линий: 300 подложек/смену
  • Типовые ванны: ванна химической обработки, ванна улавливания, ванна промывки, ванна сушки
  • Фторопластовые крышки  для ванн никелирования , золочения, палладирования
  • Пролипропиленовые крышки  для ванн промывки
  • Ручные залив (вентилем)/слив технологических растворов в/из ванны
  • Ванны (кроме глухих): со сливными патрубками с вентилями
  • Глухие легкосъемные ванны: растворы удаляются насосом в соответствующий трубопровод, либо извлечением ванны и сливом в емкость
  • Устройства слива растворов и промывных вод – под столешницей модулей над поддоном, соединяется общей трубой с установкой регенерации, либо с системой канализации
  • Органические растворители сливаются в емкости
  • Ванны промывки с системой регулировки подачи деионизованной воды
  • Ванны сушки с регистрами с форсунками для нагреваемых калориферами воздуха и азота
  • Нагрев: ИК лампами с датчиком непрерывного измерения температуры в протоке подогреваемой среды
  • Калорифер: из алюминиевого сплава
  • Микропроцессорные устройства контроля и регулировки температуры с точностью поддержания температуры растворов: ±10 °С
  • Время нагрева реагентов от 20 °С до 100 °С: 60 мин
  • Полипропиленовые поддоны под ваннами для сбора растворов при аварийной утечке
  • Блоки управления: встроенные в каждый модуль линии, в т.ч. микропроцессорные реле времени для задавания числа циклов обработки (1÷5), времени обработки и подающие сигнал об окончании процесса
  • Прозрачные защитные экраны
  • Чистый газообразный азот
  • Сжатый очищенный воздух
  • Деионизованная вода
  • Вытяжная вентиляция
  • Электроэнергия: 380 В ±10%, 3ф, 50 Гц ±2,5%, 10 кВт

УНФ-1

  • Установка нанесения позитивного фоторезиста для мелкосерийного производства и НИОКР
  • Применение: для нанесения позитивного фоторезиста на подложки методом центрифугирования
  • Варианты применения: автономно или в составе линии
  • Подложки: 60×48 мм, 48×30 мм, 48×20 мм, 30×24 мм, 24×15 мм
  • Набор сменных столиков
  • Частота вращения вала: (0÷3500) об/мин
  • Дискретность задания скорости: ±1 об/мин
  • Точность поддержания скорости вращения: ±1 %
  • Количество каналов подачи фоторезиста: 1 шт.
  • Диапазон дозирования фоторезиста: (0,5÷10,0) мл
  • Точность дозирования: ±0,2 мл
  • Диапазон задания времени цикла: (1÷999) с
  • Сжатый воздух по ГОСТ 17433: 3 кгс/см2, ≤14 м3/ч
  • Электроэнергия: 220 В, 1 ф, 50 Гц, 1 кВА
  • Габаритные размеры: 850×750×1400 мм
  • Масса: ≤200 кг

УНФ-2

  • Установка нанесения негативного фоторезиста для мелкосерийного производства и НИОКР
  • Применение: для нанесения негативного фоторезиста на подложки методом центрифугирования
  • Варианты применения: автономно или в составе линии
  • Подложки: 60×48 мм, 48×30 мм, 48×20 мм, 30×24 мм, 24×15 мм
  • Набор сменных столиков
  • Частота вращения вала: (0÷3500) об/мин
  • Дискретность задания скорости: ±1 об/мин
  • Точность поддержания скорости вращения: ±1 %
  • Количество каналов подачи фоторезиста: 1 шт.
  • Диапазон дозирования фоторезиста: (0,5÷10,0) мл
  • Точность дозирования: ±0,2 мл
  • Диапазон задания времени цикла: (1÷999) с
  • Сжатый воздух по ГОСТ 17433: 3 кгс/см2, ≤14 м3/ч
  • Электроэнергия: 220 В, 1 ф, 50 Гц, 1 кВА
  • Габаритные размеры: 850×750×1400 мм
  • Масса: ≤200 кг   

УПФ-1

  • Установка проявления позитивного фоторезиста для мелкосерийного производства и НИОКР
  • Применение: для проявления фоторезиста на подложки методом центрифугирования
  • Варианты применения: автономно или в составе линии
  • Подложки: 60×48 мм, 48×30 мм, 48×20 мм, 30×24 мм, 24×15 мм
  • Набор сменных столиков
  • Частота вращения вала: (0÷3500) об/мин
  • Дискретность задания скорости: ±1 об/мин
  • Точность поддержания скорости вращения: ±1 %
  • Количество каналов подачи проявителя: 1 шт.
  • Диапазон дозирования проявителя: (1÷120,0) мл
  • Точность дозирования: ±0,2 мл
  • Количество каналов подачи деионизованной воды: один
  • Диапазон дозирования деионизированной воды: (100÷300,0) мл
  • Точность дозирования деионизированной воды: (10÷50,0) мл
  • Диапазон задания времени цикла: (1÷999) с
  • Сжатый воздух по ГОСТ 17433: 3 кгс/см2, ≤14 м3/ч
  • Слив в канализацию
  • Электроэнергия: 220 В, 1 ф, 50 Гц, 1 кВА
  • Габаритные размеры: 850×750×1400 мм
  • Масса: ≤200 кг

УПФ-2

  • Установка проявления негативного фоторезиста для мелкосерийного производства и НИОКР
  • Применение: для проявления фоторезиста на подложки методом центрифугирования
  • Варианты применения: автономно или в составе линии
  • Подложки: 60×48 мм, 48×30 мм, 48×20 мм, 30×24 мм, 24×15 мм
  • Набор сменных столиков
  • Частота вращения вала: (0÷3500) об/мин
  • Дискретность задания скорости: ±1 об/мин
  • Точность поддержания скорости вращения: ±1 %
  • Количество каналов подачи проявителя: 1шт.
  • Диапазон дозирования проявителя: (1÷120,0) мл
  • Точность дозирования: ±0,2 мл
  • Количество каналов подачи изопропилового спирта: один
  • Диапазон дозирования изопропилового спирта: (100÷300,0) мл
  • Точность дозирования изопропилового спирта: (10÷50,0) мл
  • Диапазон задания времени цикла: (1÷999) с
  • Сжатый воздух по ГОСТ 17433: 3 кгс/см2, ≤14 м3/ч
  • Электроэнергия: 220 В, 1 ф, 50 Гц, 1 кВА
  • Габаритные размеры: 850 м750×1400 мм
  • Масса: ≤200 кг