AP&S

AP&S — LOTUS systems PURUS LOCUS SIMPLEX & DUPLEX — Установка сбора и удаления отработанных химических растворов

  • Применение: для производства солнечных элементов
  • Назначение: установки безопасного сбора и удаления отходов кислот, щелочей и растворителей
  • Объемы: от 30 л до мощных установок больших объемов 2 х 1000 л

далее

AP&S — LOTUS systems — Линия подачи химических растворов

  • Применение: для производства солнечных элементов
  • Объем исходных реактивов: баллоны 200 л, 60 л, 30 л; пластиковые контейнеры для транспортировки и хранения жидкости 500 л, 1000 л и 1500 л; цистерны до 30000 л.
  • Производительность: максимально 150 л/мин для подающих трубопроводов вплоть до 50 м; максимальная длина подающих трубопроводов вплоть до > 500 м; максимальная высота подачи – 60 м.

далее

AP&S – LOTUS systems MIXTURA Small – Установка приготовления химических смесей

  • Применение: для полупроводникового производства, МЭМС
  • Преимущества: резервный насос, резервный фильтр; пистолет-распылитель деионизованной воды, “азотная подушка”, автоматический блок промывки, фильтровентиляционный блок с 2 скоростями подачи воздуха внутрь корпусной среды.

далее

AP&S – LOTUS systems PURUS MAXIM – Установка приготовления химических смесей

  • Применение: для полупроводникового производства, МЭМС, солнечных элементов
  • Преимущества: легкое послепродажное обслуживание ввиду модульной концепции; быстрая замена емкости благодаря дегазации с помощью линии рециркуляции; доступ для обслуживания посредством модема.

далее

AP&S – LOTUS systems PURUS DUPLEX – Установка приготовления химических смесей

  • Применение: для полупроводникового производства, МЭМС
  • Преимущества: легкое послепродажное обслуживание ввиду модульной концепции; быстрая замена емкости благодаря дегазации с помощью линии рециркуляции; доступ для обслуживания посредством модема.

далее

AP&S — LOTUS systems PURUS SIMPLEX — Установка приготовления химических смесей

  • Применение: для полупроводникового производства, МЭМС
  • Преимущества: азотная подушка с регулировкой давления газа (для минимального потребления азота); компактные размеры; эксплуатация с лицевой стороны; быстроразъемное соединение для обеспечения чистой замены емкости; легкое послепродажное обслуживание ввиду модульной концепции.

далее

AP&S – LOTUS systems – Установка очистки высокого давления

  • Применение: для полупроводникового производства, МЭМС
  • Преимущества: компактные размеры; фронтальный доступ для обработки; легкое послепродажное обслуживание ввиду модульной концепции; камера очистки с распылительной пушкой высокого давления.

далее

AP&S — LOTUS systems Acetoncarussel — Карусельная установка обработки в ацетоне

  • Применение: для полупроводникового производства, МЭМС
  • Данная установка вскрытия масок является инструментом очистки пластин для вскрытия защитного покрытия неразрезанных и разрезанных пластин с ацетоном (опция — изопропанолом) и деионизованной водой;
  • Проникновение ацетона в каналы реза предотвращено;
  • Карусель предназначена для подложек от 4″ до 8″

далее

AP&S — LOTUS systems ILIOS — Установка очистки держателей и кассет

  • Применение: для полупроводникового производства, МЭМС
  • Преимущества: установка оборудована легкодоступной фронтальной панелью; кассеты, крышки боксов никогда не контактируют с металлическими частями; промежуточная накопительная емкость на дне для плавно регулируемого нагрева для обеспечения постоянной температуры в камере.

далее

AP&S — LOTUS systems VTC — Вертикальная установка для очистки труб

  • Применение: для полупроводникового производства, МЭМС
  • Преимущества: компактные размеры; механизм автоматической очистки; легкое послепродажное обслуживание ввиду модульной концепции

далее

AP&S – LOTUS systems Установка очистки кассет

  • Автоматизированная вертикальная струйная установка для очистки кассет в производстве МЭМС
  • Применение: струйная очистка кассет и другой оснастки от установок диффузии и ПА ХОГФ; удаление нитрида кремния;
  • Производительность: 1 кассета/час (6 кассет в загрузке);
  • Размер, объем загрузки: кассеты до 1840х1000 мм (камера на 6 кассет) или 2000х1500 мм (камера на 3 кассеты)

далее

AP&S — LOTUS systems- Установка для очистки лодочек

  • Автоматизированная струйная установка для очистки лодочек  в производстве солнечных элементов, МЭМС
  • Применение: струйная очистка графитовых и кварцевых лодочек и другой оснастки от установок диффузии и ПА ХОГФ; удаление нитрида кремния;
  • Производительность: до 7,5 графитовых лодочек/день

далее

AP&S — LOTUS systems IPA Dispense Dry — Установка сушки пластин

  • Применение: для полупроводникового производства, МЭМС
  • Загрузка: 2 x 25 пластин 6”; 2 x 25 пластин 8”; 1 x 50 пластин 8”; 1 x 50 пластин 12”; жесткие диски 2,5″ и 3,5″; 1 x 25 пластин 6”, 1 x 25 пластин 8”.
  • Производительность: до 300 пл/ч.

далее

AP&S — LOTUS systems — Вытяжной химический шкаф

  • Вытяжной шкаф для работы с химическими растворами
  • Опции: отдельные шкафчики предварительного смешивания химических реактивов, перчаточная установка очистки, вертикальное перемещение партий, вращение пластин, удобное перемещение партий, нагревательная плита, устройство для нанесения покрытий центрифугированием, горизонтальный очиститель труб, микроклимат, вакуумная пипетка, пистолет-распылитель азота и деионизованной воды.

далее

AP&S — LOTUS systems — Установка для очистки сточных вод

  • Применение: для производства солнечных элементов
  • Назначение: сбор, нейтрализация, осаждение, отложение осадка и фильтрование загрязненных сточных вод;
  • Производительность: до 24 м3/час;
  • Опции: регенерация серебра, никеля и меди.

далее

AP&S — LOTUS systems — Установка ручной химической обработки

  • Установка ручной химобработки для полупроводникового производства, МЭМС, солнечных элементов
  • Загрузка: по потребности заказчика.
  • Применение: очистка, вскрытие, промывка, сушка.

далее

AP&S — LOTUS systems — Установка жидкостной химической обработки

  • Полуавтоматическое рабочее место химической обработки для полупроводникового производства, МЭМС, солнечных элементов
  • Загрузка: 2 x 25 пластин 6”; 1 x 25 пластин 6”; 1 x 25 пластин 8”; 1 x 25 пластин 8”; подложки до 210 х 210 мм, блоки кремния — для солнечных элементов.
  • Производительность: до 150 пластин / час (зависит от конфигурации)

далее

AP&S Chemical Distribution System (CDS) — Установка подачи химических растворов

  • Установка автоматической подачи химических растворов для полупроводникового производства, МЭМС, солнечных элементов
  • Бочки стандартно 200 л или 1000 л
  • Различная производительность насоса
  • Различные размеры присоединяемых трубопроводов

далее

AP&S — Chemical Waste System (CWS) — Установка сбора и удаления отработанных химических растворов

  • Применение: для полупроводникового производства, МЭМС, солнечных элементов
  • Назначение: установки безопасного сбора и удаления отходов кислот, щелочей и растворителей
  • Бочки стандартно 200 л или 1000 л
  • Различная производительность насоса

далее

AP&S Chemical Mixing System (CMS), Slurry System (Mixing or Distribution System) — Установка приготовления и подачи химических смесей и суспензий

  • Установка автоматического приготовления и подачи химических смесей для полупроводникового производства, МЭМС, солнечных элементов
  • Преимущества: легкое послепродажное обслуживание ввиду модульной концепции; быстрая замена емкости благодаря дегазации с помощью линии рециркуляции; доступ для обслуживания посредством модема.
  • Бочки стандартно 200 л или 1000 л
  • Различная производительность насоса

далее

AP&S — GigaStep — Установка жидкостной химической обработки

  • Полностью автоматическая установка жидкостной химической обработки для полупроводникового производства, МЭМС, солнечных элементов
  • Применение: очистка, вскрытие, травление, сушка; RCA, IMEC, Pre-Diffusion, Pre-Metal…
  • Различные процессы травления, включая оксиды, нитриды, металлы и силициды
  • Загрузка: 1 x 50 пластин 12”; 1 x 50 пластин 8”; 1 x 50 пластин 6”; 2 x 25 пластин 8”; 2 x 25 пластин 6”

далее

AP&S – LOTUS systems – Линия жидкостной химической обработки

  • Полностью автоматизированная линия жидкостной химической обработки для больших подложек/ тонкопленочного применения (для производства солнечных элементов)
  • Применение: жидкостное нанесение покрытий; жидкостные травление/ очистка;
  • Производительность: 150 подложек/час;
  • Размер загрузки: подложки до 1200х800 мм;

далее

AP&S — LOTUS systems — Установка жидкостной химической обработки

  • Полностью автоматическая установка жидкостной химической обработки для полупроводникового производства, МЭМС, солнечных элементов
  • Загрузка: 2 x 25 пластин 6” (4”, 5” опция); 2 x 25 пластин 8”; 1 x 50 пластин 8” (облегченные носители); 1 x 50 пластин 12” (облегченный носитель) — только исправление и производство пластин; подложки 150 х 150 мм (возможность до 210 х 210 мм) минимальной толщиной 150 мкм, 100 или 200 шт. в партии — для солнечных элементов.
  • Производительность: до 300 пл/ч; удаление фосфоросиликатного стекла- до 4000 пл/ч; текстурирование —  до 2000 пл/ч

далее