TORR

Torr серия MagSput™

  • Установка  магнетронного распыления для НИОКР и небольших опытных производств
  • Назначение: для осаждения тонких слоёв металлов, полупроводников, диэлектриков, многосоставных материалов для получения многослойных оптических покрытий; изготовления сенсорных устройств, солнечных элементов, топливных элементов; для исследования тонких пленок, сверхпроводников; изготовления специализированных микросхем, МЭМС, магнитных устройств; для биомедицинских исследований и пр.
  • Варианты модификаций установок: MagSput-2G3-PC, MagSput-2G2, MagSput-3G-2, MagSput-PC-3G3-RF1-DC1, MagSput-4G2-RF-DC, MagSput-4G2-RF-DC-HT и пр.
  • Подложки: пластины / образцы до ø300 мм
  • Загрузка: ручная
  • Рабочая D-образная камера: из электрополированной нержавеющей стали
  • Смотровое окно ø4” в передней дверце рабочей камеры
  • Варианты напыления: постоянным током/радиочастотным напылением
  • Магнетронные пушки с источниками: одиночные / групповые
  • Мощность магнетронов: до 1,5 кВт
  • Осаждаемые материалы: металлы и сплавы — Ag, Al, Al-1%Si, Au, Co, Co/Fe/B 72/18/10 вес.%, Cr, Cu, Fe, Gd, Mo, Nb, Ni/Fe 81/19 вес.%, Pd, Permalloy (Ni/Fe/Mo/Mn 79/16.7/4/0.3 вес.%), Pt, Ta, Ti, V, W, W/Ti 90/10 вес.%; полупроводники — Ge (нелегированный), Si-n, Si-p, Si (нелегированный); оксиды, нитриды, карбиды — Al2O3, ITO, Li3PO4, LiCoO2, MgO, Si3N4, SiC, SiO2, Ta2O5, TiN, TiO2, WC, ZnO, ZrO2 (с 12 вес.% Y2O3), HfO₂, WO3, V₂O₅ и пр.
  • Ручные затворы для всех источников
  • Газовые линии с РРГ
  • Применяемые газы: Ar, N2, O2 и пр.
  • Рабочее давление: до 10-8 торр
  • Кварцевый датчик толщины с контроллером осаждения
  • Полнодиапазонный вакуумметр с цифровым дисплеем
  • Система управления: компьютерная (полуавтоматическая) / ручная
  • Вакуумная система: турбомолекулярные и форвакуумные насосы
  • Габариты: 61х 61х 153 см  с внешним роторным насосом (вариант модификации)
  • Вес: 227 кг
  • Опции: чиллер, система предварительной очистки подложек, загрузочный шлюз с системой транспортировки, система многоосевого вращения подложкодержателя,  кварцевые лампы для нагрева до (300÷800)°С, планетарный подложкодержатель, система водяного охлаждения подложкодержателя, компьютерная / с программируемым логическим контроллером система управления, устройство контроля толщины плёнки SQC 310 и контроллер осаждения, моторизованный затвор в сборе, безмасляный форвакуумный насос, датчик ионизации с холодным или горячим катодом, крионасос и т.д.

Torr серия CRC

  • Компактная установка  планарного магнетронного распыления для НИОКР в области нанотехнологий
  • Назначение: для разработки процессов осаждения материалов, включая алюминий, углерод, хром, золото, тефлон, диоксид кремния, тантал, вольфрам, титан и прочие на такие подложки, как как ПЭТ (полиэтилентерефталат) с покрытием ITO, стекло с покрытием ITO, стекло, кварц, кремний, полистирол и т.д.
  • Несколько модификаций установок, например – CRC300, CRC622
  • Подложки: пластины / образцы до ø100 мм (CRC300), до ø150 мм (CRC622)
  • Загрузка: ручная
  • Рабочая из электрополированной нержавеющей стали: D-образная камера (CRC622); шкафная (CRC300)
  • Смотровое окно ø4” в передней дверце рабочей камеры
  • Водоохлаждаемый подложкодержатель: ø6”
  • Температура подложкодержателя: до 600°С
  • Варианты напыления (CRC300): постоянным током (350Вт)/ ВЧ-напылением (13,56 МГц, 300Вт)
  • Магнетронные пушки с источниками: одиночные / групповые
  • Мишени: ø2”
  • Планарный магнетронный источник с водяным охлаждением
  • Режимы травления для предварительной очистки: постоянным током / ВЧ-травление
  • Осаждаемые материалы: металлы и их сплавы — Ag, Al, Au, Co, Cr, Cu, Ta, Ti, W и пр.; неметаллы – углерод, тефлон и пр.; оксиды и другие соединения – AgO, NiO, PdO, PdO/SnO2/Fe2O3, SiO2, SnO2, TiO2, V₂O₅ и пр.
  • Ручные затворы для всех источников
  • Газовые линии с РРГ
  • Применяемые газы: Ar, NO2, H2, CO, N2, O2 и пр.
  • Рабочее давление: до 10-7 торр
  • Кварцевый датчик толщины с контроллером осаждения
  • Полнодиапазонный вакуумметр с цифровым дисплеем
  • Система управления: компьютерная (полуавтоматическая)
  • Вакуумная система: турбомолекулярные и форвакуумные насосы
  • Габариты основания: 20” x 24” (CRC622)
  • Габариты: 21” x 21” x 28” (CRC300)
  • Вес: 227 кг
  • Опции: чиллер, система предварительной очистки подложек, система многоосевого вращения подложкодержателя,  кварцевые лампы для нагрева до (300÷800)°С, регулируемые высота и положение подложкодержателя, система управления с программируемым логическим контроллером, моторизованный затвор в сборе, безмасляный форвакуумный насос, датчик ионизации с холодным или горячим катодом и т.д.

Torr серия Ion Beam Depositon System (IBD)

  • Установка  ионно-лучевого осаждения для НИОКР и небольших опытных производств
  • Назначение: для ионного осаждения тонких слоёв различных материалов
  • Загрузка: ручная
  • Рабочая D-образная камера: водоохлаждаемая, из электрополированной нержавеющей стали, с верхней крышкой
  • Смотровые окна ø4” в передней и боковой части рабочей камеры
  • Вращающийся подложкодержатель: ø6,5”
  • Варианты IBD: с помощью источника ионов со сходящимся лучом и источника питания с узлом Easy Target Mounting / с помощью комбинации источника ионов с расходящимся пучком Veeco и блока питания Ion Tech MPS-3000 FC
  • Водоохлаждаемый держатель для одного источника: оснащен вращающимся столиком с 4-мя мишенями (стандартный размер мишени – 3”)
  • Газовые линии с РРГ
  • Предельное давление: 8 · 10-7 торр
  • Кварцевый датчик толщины с контроллером осаждения
  • Полнодиапазонный вакуумметр с цифровым дисплеем
  • Система управления: с программируемым логическим контроллером (полуавтоматическая)
  • Вакуумная система: турбомолекулярные и форвакуумные насосы
  • Электроэнергия: (208÷230)В, 1ф
  • Опции: чиллер, система предварительной ВЧ-очистки подложек, загрузочный шлюз с системой транспортировки, система многоосевого вращения подложкодержателя,  кварцевые лампы для нагрева до (300÷800)°С, планетарный подложкодержатель, система водяного охлаждения подложкодержателя, компьютерная система управления, устройство контроля толщины плёнки SQC 310 и контроллер осаждения, моторизованный затвор в сборе, безмасляный форвакуумный насос, датчик ионизации с холодным или горячим катодом, крионасос, встроенное устройство смены маски и т.д.

Torr серия Electron Beam Evaporation System (EBE)

  • Установка  электронно-лучевого напыления для НИОКР, опытных и мелкосерийных производств
  • Назначение: для электронно-лучевого напыления тонких слоёв металлов, оксидов, магнитных материалов и диэлектриков в областях, как нанотехнологии, оптика, микроскопия, МЛЭ, функциональные и декоративные покрытия
  • Несколько модификаций установок, например — EB-4P (4 карманных тигля разного объема и различные источники питания)
  • Загрузка: ручная
  • Рабочая D-образная камера: из электрополированной нержавеющей стали
  • Смотровое окно ø4” с ручной заслонкой в передней части дверцы рабочей камеры
  • Варианты напыления: постоянным током / высокочастотным напылением
  • Одно-/многокарманные источники электронного луча с тиглем с водяным охлаждением: (4÷75) см3
  • Источник питания высокого напряжения с контроллером развертки по осям X-Y: (3÷15) кВт
  • Режимы травления для предварительной очистки: постоянным током / ВЧ-травление
  • Газовые линии с РРГ
  • Кварцевый датчик толщины с контроллером осаждения
  • Полнодиапазонный вакуумметр с цифровым дисплеем
  • Система управления: полуавтоматическая
  • Вакуумная система: турбомолекулярные и форвакуумные насосы
  • Опции: чиллер, система предварительной ВЧ-очистки подложек, загрузочный шлюз с системой транспортировки, система многоосевого вращения подложкодержателя,  кварцевые лампы для нагрева до (300÷800)°С, планетарный подложкодержатель, система водяного охлаждения подложкодержателя, компьютерная / с программируемым логическим контроллером система управления, устройство контроля толщины плёнки SQC 310 и контроллер осаждения, моторизованный затвор в сборе, безмасляный форвакуумный насос, датчик ионизации с холодным или горячим катодом, тигли большой емкости и блок питания, крионасос, встроенное устройство смены маски и т.д.

Torr Atomic Layer Deposition (ALD)

  • Установка  атомно-слоевое осаждение для НИОКР
  • Назначение: для осаждения сверхтонких слоёв материалов для усовершенствованных жестких дисков, динамических ОЗУ, накопительных конденсаторов, дисплеев TFEL (фосфоресцентный слой), солнечных элементов, МЭМС, органических светодиодов и пр.
  • Подложки: пластины / образцы до ø8”
  • Загрузка: ручная
  • Загрузочный шлюз – опционно
  • Рабочая камера: из электрополированной нержавеющей стали
  • Смотровое окно в передней части рабочей камеры
  • Газовые линии с РРГ: до 6
  • Источники прекурсоров: до 4
  • Система нагрева подложкодержателя, стенок камеры, газовых линий
  • Система управления: компьютерная / с программируемым логическим контроллером (полуавтоматическая) / ручная
  • Вакуумная система: турбомолекулярные и форвакуумные насосы