Компактная настольная установка плазменного магнетронного напыления покрытий постоянным током с золотой мишенью для нанесения покрытий благородных металлов
Назначение: магнетронное напыление металлических покрытий (Au, Pt, Ag); напыление проводящих золотых слоев на образцах для сканирующей электронной микроскопии
Регулируемый по высоте подложкодержатель
Напряжение на источнике постоянного тока системы напыления — 500В; сила тока регулируется от 0 до 50 мА (цифровой миллиамперметр); время напыления регулируется от 1 до 120 с
Настольная установка магнетронного напыления постоянным током высокой мощности с водяным охлаждением 2“ оголовка мишени, водяным чилером и вращающимся держателем образцов
Назначение: магнетронное напыление металлических покрытий, включая Zn, Al, Ti и тонкие углеродные слои
Подложки: пластины диаметром до 4″
Подложкодержатель ø 4″ с регулируемой высотой от 60 до 100 мм между образцом и мишенью
Компактная установка высокочастотного плазменного магнетронного напыления с тремя 1“ оголовками распылителя для магнетронного напыления неметаллических покрытий, преимущественно — оксидов
Подложки: пластины диаметром до 2″. Ручная загрузка-выгрузка подложек
Один вращающийся со скоростью от 1 до 10 об/мин 50-мм нагреваемый керамический держатель с оболочкой из нержавеющей стали; угловой диапазон напыления: 0÷25°
Нагреватель держателя до температуры 600°С (не более 5 минут) или 500°С (не более 2 часов) с точностью поддержания температуры ±1°С
Компактная высоковакуумная установка плазменного магнетронного напыления с двумя 2“ оголовками (источниками/мишенями) DC/RF-плазмы для нанесения однослойных или многослойных пленок материалов, таких как различные сплавы, сегнетоэлектрики, полупроводники, керамика, диэлектрики, оптические покрытия, PTFE, и т.д.
Назначение — магнетронное напыление: металлических покрытий при использовании DC –источника; неметаллических покрытий при использовании RF-источника
Подложки: пластины диаметром до 4″. Ручная загрузка-выгрузка подложек
Один вращающийся со скоростью от 1 до 20 об/мин 140-мм нагреваемый керамический держатель с оболочкой из нержавеющей стали
Комбинированная высоковакуумная установка плазменного магнетронного напыления с тремя 3“ оголовками (источниками/мишенями) DC/RF-плазмы для нанесения однослойных или многослойных пленок материалов, таких как различные сплавы, сегнетоэлектрики, полупроводники, керамика, диэлектрики, оптические покрытия, PTFE…
Назначение — магнетронное напыление: металлических покрытий при использовании DC –источника; неметаллических покрытий при использовании RF-источника
Подложки: пластины диаметром до 4″. Ручная загрузка-выгрузка подложек
Один вращающийся со скоростью от 1 до 20 об/мин 140-мм нагреваемый керамический держатель с оболочкой из нержавеющей стали
Многофункциональная напольная высоковакуумная установка плазменного нанесения покрытий для НИОКР с ручной загрузкой-выгрузкой подложек
Объединяет в одной установке процессы термического испарения, плазменного магнетронного напыления, осаждения углеродных покрытий для нанесения пленок материалов, таких как металлы, полупроводники, диэлектрики и т.д.
Источники для осаждения пленок: AC-источник до 10 В, до 100 А для термического испарения – позволяет испарять два материала одновременно, вольфрамовый нагреватель обеспечивает температуру до 1800ºC; источник для осаждения углеродных пленок содержит два угольных стержня; DC-источник до 3 кВ, до 10 мА для плазменного магнетронного напыления
Процессная вакуумная камера: вакуумный колпак из боросиликатного стекла размерами ø 250 мм х 340 мм с расположенными внутри него двумя кварцевыми трубками для защиты от излучения (одна – внутр. ø 88 мм х 140 мм – для процесса термического испарения, вторая – внутр. ø 88 мм х 57 мм – для процесса плазменного магнетронного напыления), а также сетчатый экран из нержавеющей стали для защиты от излучения при процессе термического испарения
