KOREA VAC-TEC CO. LTD
KOREA VAC-TEC VTC 1000 TO (PVD )
Установка вакуумного испарения (напыления) групповым методом для прецизионной оптики Варианты размеров рабочей камеры: ø900 мм, ø1000 мм, ø1200 мм и ø1350 мм (другие размеры – по запросу потребителя) Количество источников испарения электронным лучом: 2 Мощность источника испарения электронным лучом: 5 кВт (6 кВт и 10 кВт – по запросу потребителя) далее
KOREA VAC-TEC VTC 1100 PO (PVD)
Установка вакуумного испарения (напыления) групповым методом для прецизионной оптики Электронная пушка – 2 комплекта с углом 270°: один – с 12 источниками (карманами) по 15 см3 каждый, второй – с карманом для твердой кремниевой мишени ВЧ сетчатый источник ионного луча VTC-5: частота — 13,56 МГц, мощность — до 600 Вт, ионная энергия – до 7,5 кВ, ток – до 1 А. Диаметр сетки – 100 мм. Система автоматического согласования Система откачки: диффузионный масляный насос, роторный механический насос, бустерный механический насос далее
KOREA VAC-TEC VTC-IBE-200-RF (IBE)
Установка ВЧ ионно-лучевого травления с загрузочным шлюзом Подложки размером: до ø200 мм (большие размеры – по запросу потребителя) Варианты загрузки: загрузка через загрузочный шлюз автоматическим роботом-манипулятором; по запросу потребителя — ручная загрузка Подложкодержатель: вращающийся держатель с изменяемым углом наклона далее
KOREA VAC-TEC ERIDAN (PVD)
Компактная установка магнетронного напыления (распыления) с загрузочным шлюзом Размер рабочей камеры: ø1300 мм (другие размеры – по запросу потребителя) Подложки размером: до ø200 мм Загрузка через кассетный загрузочный шлюз автоматическим роботом-манипулятором далее
KOREA VAC-TEC In-Line Wire Feeding Thermal Evaporation System (PVD)
Встроенная в технологическую линию установка термического напыления (распыления) проводящих материалов для фотовольтаики KOREA VAC-TEC VTC-BES-3000-3EBG (PVD)
Установка электроннолучевого испарения (напыления) групповым методом для крупносерийного производства изделия большой площади KOREA VAC-TEC ORION-BE (PVD)
Установка вакуумного испарения (напыления) групповым методом для оптики Объем загрузки: 6 линз Размеры линз: до ø80 мм Время процесса: около 20 мин (зависит от процесса и условий) далее
KOREA VAC-TEC ORION-40T (PVD)
Установка вакуумного испарения (напыления) групповым методом для оптики Объем загрузки: примерно 36 линз ø70 мм Время процесса: около 30 мин (зависит от процесса и условий) Типы наносимых покрытий: антиотражающие, антистатические, отражающие (зеркальные) и прочие (а также гидрофобные и супергидрофобные наружные покрытия) далее
KOREA VAC-TEC ORION-90T (PVD)
Установка вакуумного испарения (напыления) групповым методом для оптики Объем загрузки: примерно 84 линзы ø70 мм Время процесса: около 30 мин (зависит от процесса и условий) Типы наносимых покрытий: антиотражающие, антистатические, отражающие (зеркальные) и прочие (а также гидрофобные и супергидрофобные наружные покрытия) далее
KOREA VAC-TEC ORION-140T (PVD)
Установка вакуумного испарения (напыления) групповым методом для оптики Объем загрузки: примерно 180 линз ø70 мм Время процесса: около 30 мин (зависит от процесса и условий) Типы наносимых покрытий: антиотражающие, антистатические, отражающие (зеркальные) и прочие (а также гидрофобные и супергидрофобные наружные покрытия) далее
KOREA VAC-TEC ORION-400 (PVD)
Установка вакуумного испарения (напыления) групповым методом для оптики Объем загрузки: примерно 400 линз ø70 мм Роботизированная система полуавтоматической загрузки-выгрузки держателя подложек Типы наносимых покрытий: антиотражающие, антистатические, отражающие (зеркальные) и прочие (а также гидрофобные и супергидрофобные наружные покрытия)
далее
KOREA VAC-TEC VTC-1200-СP (PVD)
Установка металлизации (вакуумного электронно-лучевого напыления слоев металлов) в автоматическом режиме групповым методом Назначение: нанесение металлических слоев титана (Ti), золота (Au), серебра (Ag) на подложки А3 В5 Объем загрузки: 54 пластины ø100 мм Размер рабочей камеры: ø1200 мм, высота — ø1300 мм далее
KOREA VAC-TEC VTC-1350DP (PVD)
Установка вакуумного испарения (напыления) слоев оксидов в автоматическом режиме групповым методом (в т.ч. для оптики) Назначение: нанесение оптических покрытий на линзы; напыление оксидов (SiO2 , Ta2 O5 , Al2 O3 , TiO2 ) на подложках из Ge/Si, а также двухслойных структур SiO2 /Ta2 O5 и Al2 O3 /TiO2 Объем загрузки: примерно 220 линз ø70 мм; 72 пластины ø100 мм; 45 пластины ø124 мм (для пластин в оснастке) Время процесса для линз: около 35 мин (зависит от процесса и условий) далее
KOREA VAC-TEC In-Line Low Temperature Sputter System (PVD)
Встроенная в технологическую линию установка низкотемпературного напыления (распыления) для производства печатных плат Назначение: напыление металлических слоев толщиной в несколько микрон на тонкие гибкие печатные платы с управлением температурой в течение процесса Рабочая камера: модульной конструкции с вертикальной или горизонтальной ориентацией Подложки: размеры – по запросу потребителя далее
KOREA VAC-TEC In-Line TCO Sputter System (PVD)
Встроенная в технологическую линию установка напыления (распыления) прозрачного проводящего оксидного слоя для производства сенсорных панелей Назначение: напыление прозрачного проводящего оксидного слоя и антиотражающих покрытий на стеклянные подложки различных размеров Рабочая камера прямоугольной формы. Материал рабочей камеры: нержавеющая сталь SUS 304 Система транспортировки подложки далее
