ООО «ИОНТЕК-нано»

Батискаф-1

Установка конфокального магнетронного напыления для НИОКР и мелкосерийного производства
Назначение: для нанесения тонких слоев электропроводящих материалов (металлы, полупроводники) и их соединений магнетронным распылением на постоянном токе (режим DC, в том числе, DC импульсный, частота 1÷100 кГц), диэлектрических материалов ВЧ магнетронным распылением (режим RF, 13,56 МГц), любых материалов по электропроводности и составу (в том числе, многокомпонентных композиционных материалов) ВЧ магнетронным распылением (режим RF, частота 13,56 МГц)
Подложки: пластины до ø150 мм
Вращающийся подложкодержатель: ø165 мм
Скорость вращения подложкодержателя: 60 об/мин
Внутренние размеры процессной сферической камеры: ø520 мм с 6-ю портами Ду 290 мм
Дроссельная заслонка на два положения: открыто/закрыто
Предварительная ионно-плазменная очистка подложки на подложкодержателе

Показать больше

Количество конфокальных DC магнетронов: 2 шт. (левый и правый)
Количество RF магнетронов (каждый со своим ВЧ генератором): 2 шт. (левый и правый)
Размеры мишеней магнетронов: ø(50÷50,8) мм, толщина – (3÷6,25) мм
Параметры режимов: RF – прямая ВЧ мощность <300 Вт, отраженная ВЧ мощность ≤1%; DC — рабочее давление (1×10^-3÷5×10^-2) Торр, напряжение разряда ≤-1000 В, ток разряда ≤1.5 мА
Толщина напыляемых пленок: (0,0001÷10,0) мкм
Относительная неравномерность толщины пленок (для подложки 76 мм): ±≤2.5%
Применяемые газы: Ar, N₂, O₂, сжатый воздух и др.
Максимальный расход газа по каналам напуска (РРГ): аргон – 3,6 л/час; кислород – 1,8 л/час
Водяное охлаждение: 6 л/мин, (20±5) °С, (4÷6) бар
Вакуумная система: турбомолекулярный и безмасляный форвакуумный насосы
Предельное остаточное давление в рабочей камере: <1×10^–5Торр
Электроэнергия: 380/220В, 3ф, 50 Гц, ≤5 кВА
Габаритные размеры: стойка вакуумная – 1176×900×2000 мм; стойка питания и управления – 600×600×1610 мм; безмасляный форвакуумный насос – 443×288×397мм

Показать меньше

КРАУДИОН-М2-17/2

Установка магнетронного напыления для серийного производства
Назначение: для группового нанесения тонких слоев металлов, полупроводников и диэлектриков на плоские и другие типы подложек (например: напыление барьерных слоев Mo и коммутационных слоев Ni на подложках Bi₂Te₃)
Подложки: пластины ø76 мм, 60×48 мм
Загрузка: ø76 мм – 28 шт., 60×48 мм – ≥42 шт.
14-тигранный вертикальный барабан со съемными держателями подложек и с приводом вращения
Количество стандартных держателей подложек на барабане: 14 шт.
Размеры стандартных держателей подложек: (210×85) мм
Скорость вращения барабана: (10÷30) об/мин

Показать больше

Полезная площадь запыления на барабане: 2500 см²
Внутренние размеры процессной камеры: 510×600×520 мм
Предварительный нагрев подложек на барабане до заданной температуры
Возможность отпыливания мишеней 2-х магнетронов на заслонки
Предварительная ионная очистка подложек
Источник ионов IST-210-02WA/WB (рабочее давление – (1×10^-4÷1×10^-3) Торр, напряжение разряда – +3000 В, ток разряда – 200 А): 1 шт.
Универсальные DC/RF магнетроны РМ1-300×80-02WA (рабочее давление – (5×10^-4÷5×10^-3) Торр, напряжение разряда – (-400÷-800) В, ток разряда – (0,05÷8,5) А) c заслонками: 2 шт.
Количество 2-х канальных блоков питания магнетронов: 2 шт.
Мощность блока питания магнетрона: 5,0 кВт
Возможность регулирования расстояния от мишеней магнетронов до подложек на барабане, ход регулирования расстояния «мишень-подложка»: (60÷100)мм
Нагреватели (вакуумные ТЭНы): 2 шт.
Максимальная температура нагрева деталей: 250 °С
Два кварцевых датчика толщины с индивидуальными заслонками
Система внутрикамерных пристеночных и разделительных экранов
Размеры мишеней магнетронов: 304/300×84/80×(6÷16) мм
Кварцевый контроль толщины покрытий, напыляемых каждым магнетроном
Относительная неравномерность толщины: d≤±5%
Применяемые газы: Ar, сжатый воздух и др.
Максимальный расход газа по каналам напуска (РРГ): аргон – 3,6 л/час
Водяное охлаждение: (20±5) °С, (3÷5) бар
Чиллер с водяным охлаждением
Вакуумная система: турбомолекулярный и безмасляный форвакуумный насосы
Предельное остаточное давление в рабочей камере: ≤2×10^–6Торр
Режимы работы промышленного ПЛК с сенсорной операторской панелью 15”: ручной, полуавтоматический и автоматический
Габаритные размеры: стойка вакуумная (со съемными механизмами извлечения магнетронов) – 1693×1005×1923 мм; стойка питания и управления – 600×800×1805 мм; безмасляный форвакуумный насос – 582×380×412 мм; чиллер – 592×340×976 мм
Опционно: ВЧ магнетронное распыление диэлектрических мишеней (режим RF), вариации исполнения катодов и магнитных систем магнетронов (легкозаменяемые, модульная сборка)

Показать меньше

КРАУДИОН-М3-08/3

Установка магнетронного напыления для серийного производства
Назначение: для группового нанесения пленок одного, двух или трех различных резистивных сплавов (или их комбинации) магнетронным распылением, для нанесения пленок РС-3710, РС-4800, РС-5406 на поликоровые подложки при изготовлении микрополосковых плат
Подложки: 60×48 мм
Загрузка: 60×48 мм – 22 шт.
Легкосъемная плоская вращающаяся карусель с кассетами для крепления подложек, с несъемным сектором для крепления «свидетеля» и регулирующей термопары
Количество подложек на карусели: 22 шт. + «свидетель»
Скорость вращения карусели: (10÷60) об/мин
Размеры процессной камеры: 650×300 мм

Показать больше

Предварительный нагрев подложек 4-мя резистивными нагревателями (сверху карусели): до ≤350 °С
Поддержание заданной температуры (контроль по термопаре, закрепленной на вращающейся карусели) во время процессов ионной очистки и напыления
Возможность отпыливания поверхностных (загрязненных) слоев мишеней магнетронов на заслонку
Система съемных экранов
Предварительная ионная очистка подложек
Источник ионов IST-100-02WA/WB (рабочее давление – (2×10^-4÷5×10^-4) Торр, напряжение разряда – (+2000÷+3000)В, ток разряда – (30÷150) А): 1 шт.
Магнетроны РМ1-150-02А (рабочее давление – (2×10^-4÷5×10^-4) Торр, напряжение разряда – (-400÷-750) В, ток разряда – (0,05÷6,0) А) c поворотными заслонками: 3 шт.
Количество блоков питания магнетронов: 1шт. (опционно: 2 шт.)
Количество каналов коммутации блока питания магнетронов: 3 шт.
Мощность блока питания магнетрона: 3,0 кВт
Размеры мишеней магнетронов: ø152.5/150× (6÷16) мм
Количество приборов контроля сопротивления «свидетеля» Resistomat: 1шт. (опционно: 2 шт.)
Диапазон контроля сопротивления «свидетеля» по прибору Resistomat: 2000 Ом (опционно: 200, 20000, 200000 Ом)
Относительная неравномерность толщины напыляемых покрытий: ±5%
Применяемые газы: Ar, сжатый воздух и др.
Водяное охлаждение: 600 л/час
Вакуумная система: криогенный и безмасляный форвакуумный насосы
Предельное остаточное давление в рабочей камере: ≤1×10^–6Торр
Система управления установкой на базе промышленного ПЛК с сенсорной операторской панелью 15”
Автоматическое завершение процесса напыления при достижении заданного значения сопротивления «свидетеля»
Электроэнергия: 380/220В, 3ф, 50 Гц, ≤10 кВА
Габаритные размеры: стойка вакуумная – 1350×1000×1890 мм; стойка питания и управления – 600×600×2040 мм; безмасляный форвакуумный насос – 647×192×322 мм; компрессор криогенного насоса – 449×462×467мм
Опционно: турбомолекулярный насос вместо криогенного насоса, ВЧ генератор с согласующим устройством для распыления высокоомных

Показать меньше

КРАУДИОН-М3-08/4

Установка магнетронного напыления для серийного производства
Назначение: для группового двухстороннего нанесения пленок проводящих материалов магнетронным распылением: нанесения адгезионного / барьерного слоя Cr, V, Ti и др.; нанесения одним, двумя или тремя магнетронами одновременно пленочных покрытий Сu, Ni и др. толщиной до 15 мкм и более; для двухсторонней металлизации поликоровых пластин при изготовлении микрополосковых плат
Подложки: 60×48 мм
Загрузка: 60×48 мм – 12 шт.
Вращающаяся карусель с функцией поворота кассет с подложками
Скорость осевого вращения карусели: (10÷40) об/мин
Размеры процессной камеры: ø650×300 мм
Предварительный нагрев подложек 3-мя резистивными нагревателями (сверху карусели): до ≤350 °С

Показать больше

Поддержание заданной температуры (контроль по термопаре, закрепленной на вращающейся карусели)
Возможность отпыливания поверхностных (загрязненных) слоев мишеней магнетронов на заслонку
Система съемных экранов
Магнетрон РМ1-150-02А c заслонкой: 1шт.
Магнетроны РМ1-150-02WА c водоохлаждаемым анодом (рабочее давление – (2×10^-3÷5×10^-2) Торр, напряжение разряда – (-400÷-750) В, ток разряда – (0,05÷10,0) А) c заслонками: 3 шт.
Количество блоков питания магнетронов: 3 шт.
Мощность блока питания магнетронов: 6,0 кВт
Размеры мишеней магнетронов: ø152,5/150×(6÷16) мм
Контроль ресурса мишеней магнетронов
Система кварцевого контроля толщины напыляемых покрытий
Толщина напыляемых пленок: (0,01÷15,0) мкм
Относительная неравномерность толщины напыляемых покрытий: ±5%
Применяемые газы: Ar, сжатый воздух и др.
Водяное охлаждение: 960 л/час
Вакуумная система: криогенный и безмасляный форвакуумный насосы
Предельное остаточное давление в рабочей камере: ≤1×10^–6Торр
Система управления установкой на базе промышленного ПЛК с сенсорной операторской панелью 15”
Электроэнергия: 380/220В, 3ф, 50 Гц, ≤20 кВА
Габаритные размеры: стойка вакуумная – 1350×1000×1890 мм; стойка питания и управления – 600×600×2040 мм; безмасляный форвакуумный насос – 647×192×322 мм; компрессор криогенного насоса – 449×462×467мм
Опционно: турбомолекулярный насос вместо криогенного насоса, источник ионов IST-100-02WA/WB

Показать меньше

КРАУДИОН-М3-09/2

Установка магнетронного напыления для серийного производства
Назначение: для группового нанесения пленок электропроводящих материалов (в том числе ферромагнитных) магнетронным распылением на постоянном токе (DC); нанесение диэлектрических пленок ВЧ магнетронным распылением мишеней из диэлектриков, магнетронным распылением на постоянном токе (режим DC pulsed, ≤40 кГц) мишеней из электропроводящих материалов в смеси инертного и реактивного газов (реактивное распыление); чередование процессов DC и высокой частоты (RF, 13,56 МГц) магнетронного распыления; для напыления пьезоэлетрических пленок ZnO в производстве устройств на поверхностных акустических волнах (ПАВ) и объемных акустических волнах (ОАВ)
Подложки: пластины ø100 мм; опционно 60×48 мм
Загрузка: ø100 мм – 8 шт.
Вращающаяся карусель с позициями для размещения пластин
Скорость вращения карусели: (10÷60) об/мин
Размеры процессной камеры: ø600×300 мм
Предварительный нагрев подложек 3-мя резистивными нагревателями (снизу карусели): до ≤350 °С

Показать больше

Поддержание заданной температуры во время процессов ионной очистки и напыления
Возможность отпыливания поверхностных (загрязненных) слоев мишеней магнетронов на заслонку
Система съемных экранов
Расстояние от подложек на карусели до мишени магнетрона: (60÷110) мм
Предварительная ионная очистка подложек
Источник ионов IST-100-02WA/WB: 1 шт.
Магнетрон РМ1-150-02А (рабочее давление – (1×10^-3÷5×10^-2) Торр, напряжение разряда – (-400÷-750) В, ток разряда – (0,05÷10,0) А) c заслонкой: 1шт.
ВЧ магнетрон РМ1-150-02А/RF c cогласующим устройством (рабочая частота ВЧ генератора – 13,56 МГц, выходная мощность ВЧ генератора – 1,0 кВт (опционно 2,0 кВт), отраженная ВЧ мощность при работе ВЧ магнетрона РМ1-150-02А/RF – ≤20 Вт) и заслонкой: 1шт.
Мощность блока питания магнетронов: 3,0 кВт (опционно 6,0 кВт)
Размеры мишеней магнетронов: ø152,5/150×(6÷16) мм
Контроль ресурса мишеней магнетронов
Система кварцевого контроля толщины напыляемых покрытий (кварцевый датчик толщины с индивидуальной заслонкой)
Относительная неравномерность толщины напыляемых покрытий: ±5%
Применяемые газы: Ar, N₂, O₂, сжатый воздух и др.
Водяное охлаждение: 600 л/час
Вакуумная система: высоковакуумный масляный с применением жидкого азота (ловушка) и безмасляный форвакуумный насосы
Предельное остаточное давление в рабочей камере: ≤1×10^–6Торр
Система управления установкой на базе промышленного ПЛК и сенсорной операторской панели управления
Электроэнергия: 380/220В, 3ф, 50 Гц, ≤10 кВА
Габаритные размеры: стойка вакуумная – 1960×780×1890 мм; стойка питания и управления – 600×600×2040 мм; ВЧ генератор – 600×600×1900 мм; форвакуумный насос с ловушкой – 449×462×467мм
Опционно: полностью безмасляная высоковакуумная откачка с применением турбомолекулярного или криогенного насоса, сменные карусели с кассетами для напыления на 24 подложки размерами 60×48 мм, индивидуальные заслонки магнетронов, напряжение смещения на карусели (DC, RF)

Показать меньше

КРАУДИОН-М3-12/2RF

Установка магнетронного напыления для мелкосерийного производства
Назначение: для группового нанесения покрытий резистивныхсплавов РС-3710, РС-5402, К-50С (кермет) и других методами магнетронного распыления напостоянном токе (DC) и высокой частоте (RF, 13,56 МГц)
Подложки: 60×48 мм, пластины ø76 мм
Легкосъемная плоская вращающаяся карусель с кассетами для крепления подложек, с несъемным сектором для крепления «свидетеля» и регулирующей термопары
Количество подложек на карусели: 7шт. + «свидетель»
Скорость вращения карусели: (10÷60) об/мин
Предварительный нагрев подложек 4-мя резистивными нагревателями (два снизу и два сверху карусели) с контрольными термопарами: до ≤350 °С
Поддержание заданной температуры (контроль по термопаре, закрепленной на вращающейся карусели) во время процессов ионной очистки и напыления

Показать больше

Радиальная регулировка положения кассет с подложками на карусели для равномерного напыления
Возможность отпыливания поверхностных (загрязненных) слоев мишеней магнетронов на автономные заслонки
Система съемных экранов
Предварительная ионная очистка подложек
Источник ионов IST-100-02WA/WB (рабочее давление – (2×10^-4÷5×10^-4) Торр, напряжение разряда – (+2000÷+3000) В, ток разряда – (30÷150) А): 1шт.
Магнетроны РМ1-150-02А (рабочее давление – (1×10^-3÷5×10^-2) Торр, напряжение разряда – (-400÷-750) В, ток разряда – (0,05÷6,0) А) c индивидуальной поворотной заслонкой с пневмоприводом: 1шт.
ВЧ магнетрон РМ1-100-02А/RF ((рабочее давление – (1×10^-3÷5×10^-2) Торр, напряжение разряда – (-400÷-750) В, ток разряда – (0,05÷6,0) А; с автоматическим согласующим устройством, выходная мощность ВЧ генератора – 600 Вт (опция: 1000 Вт), отраженная ВЧ мощность — ≤5 Вт, рабочая частота ВЧ генератора – 13,56 МГц) c индивидуальной поворотной заслонкой с пневмоприводом: 1шт.
Применение дросселирующей заслонки для расширения диапазона рабочего давления магнетронов
Размеры мишеней магнетронов: ø100×(5÷12) мм
Нижнее горизонтальное расположение мишеней магнетронов и верхнее расположение подложек
Количество приборов контроля сопротивления «свидетеля» Resistomat: 2 шт.
Диапазон контроля сопротивления «свидетеля» по прибору Resistomat: 2000 Ом (опционно: 200, 20000, 200000 Ом)
Относительная неравномерность толщины напыляемых покрытий на подложках 60×48 мм: ≤±2,5%
Применяемые газы: Ar, O₂, сжатый воздух и др.
Водяное охлаждение: 600 л/час
Вакуумная система: турбомолекулярный и безмасляный форвакуумный насосы
Предельное остаточное давление в рабочей камере: ≤1×10^–6Торр
Система управления установкой на базе промышленного ПЛК и сенсорной операторской панели управления
Постоянный контроль сопротивления «свидетеля» непосредственно на вращающейся карусели — контроль сопротивления растущей пленки, окончание процесса напыления по достижении заданного значения сопротивления «по свидетелю»
Электроэнергия: 50 Гц, ≤6 кВА
Габаритные размеры: стойка вакуумная – 700×1290×1560 мм; стойка питания и управления – 600×600×2050 мм; безмасляный форвакуумный насос – 647×192×322 мм

Показать меньше

КРАУДИОН-М3-15/2Ф

Установка конфокального магнетронного напыления для НИОКР и мелкосерийного производства
Назначение: для нанесения покрытий любых материалов (металлы, полупроводники, диэлектрики) методом конфокального магнетронного напыления на постоянном токе (DC, DС pulsed) или ВЧ распылением (RF), покрытий соединений электропроводящих материалов, в том числе диэлектрических, распылением на постоянном токе (DC, DС pulsed) в смеси аргона с реактивным газом, композиционных покрытий, в том числе чередующихся, многослойных или градиентных по составу, совместным распылением из двух или трех конфокальных магнетронов
Подложки: пластины до ø125 мм
Размеры процессной камеры: ø420×345 мм
Вращающийся вокруг своей оси легкосъемный экранированный изолированный подложкодержатель SH-150-RBТW с функцией подачи DC/RF напряжения смещения
Скорость вращения подложкодержателя: 30 об/мин
Предварительный нагрев для обезгаживания подложки в вакууме при вращении подожкодержателя: до ≤300 °С
Поддержание заданной температуры, контроль температуры подложки при ее обезгаживании, ионно-плазменной очистке и во времяпроцесса напыления при помощи пирометра

Показать больше

Нагреватель подложки HGL-3-1500 с заслонкой с пневмоприводом
Предварительная ионно-плазменная очистка подложки на подложкодержателе при подаче отрицательного постоянного напряжения или ВЧ напряжения смещения
Параметры процесса ионно-плазменной очистки (режим DC): рабочее давление – (1×10^-3÷1×10^-1)Торр, напряжение разряда – (-50÷-1000) В, ток разряда – ≤300 мА
Количество конфокальных универсальных DC/RF магнетрона тока РМ1-70-02А (рабочее давление – (1×10^-3÷5×10^-2) Торр, напряжение разряда – (-400÷-800) В, ток разряда – (0,05÷3,0) А) с функцией изменения расстояния до подложки, с индивидуальными заслонками с пневмоприводом: 2 шт.
Диапазон регулирования расстояния от мишени магнетрона до подложки: (80÷160)мм
Размеры мишеней магнетронов: ø72/70×(6÷10) мм
Относительная неравномерность толщины пленок (для подложки 70 мм): ±≤2,5%
Механизм подъема/опускания верхнего фланца
Система съемных экранов
Применяемые газы: Ar, N₂, O₂, сжатый воздух и др.
Количество газовых каналов: 2 шт.
Водяное охлаждение: 600 л/ч
Вакуумная система: турбомолекулярный и безмасляный форвакуумный насосы
Предельное остаточное давление в рабочей камере: <1×10^–6Торр
Система управления на базе промышленного ПЛК и сенсорной операторской 15”панели управления
Контроль толщины напыляемых пленок в процессе напыления (контроллер толщины пленок) и автоматическое завершениепроцесса напыления по кварцевому датчику с пневмозаслонкой
Электроэнергия: 50 Гц, ≤6 кВА
Габаритные размеры: стойка вакуумная – 700×1250×1800 мм; стойка питания и управления — 600×600×1810 мм; безмасляный форвакуумный насос – 624×206×602 мм
Опции для дооснащения: третий магнетрон; источник ионов; пирометр для бесконтактного контроля температуры подложки; ВЧ генератор (300 Вт, 13,56 МГц) с согласующим устройством; заслонка подложкодержателя с пневмоприводом; механизм опускания/подъема нижнего фланца; промышленный компьютер

Показать меньше

Обратная связь

ООО «ИОНТЕК-нано»

Батискаф-1

КРАУДИОН-М2-17/2

КРАУДИОН-М3-08/3

КРАУДИОН-М3-08/4

КРАУДИОН-М3-09/2

КРАУДИОН-М3-12/2RF

КРАУДИОН-М3-15/2Ф

Презентации

Инженерное оборудование

Технологическое оборудование