АО «Кварц»

Оратория 29М

  • Автоматизированная установка вакуумного напыления (магнетронного распыления) для серийного производства
  • Назначение: для нанесения металлических пленок алюминия, титана, никеля, молибдена при производстве изделий электронной техники и пр.
  • Подложки: пластины ø76 мм, ø100 мм
  • Загрузка: автоматическая загрузка пластин на конвейер из кассеты и выгрузку пластин в кассету, счет загружаемых и выгружаемых пластин, световую и звуковую сигнализацию об окончании загрузки и выгрузки пластин
  • Производительность: ≥ 100 пластин в час
  • Регулируемая скорость конвейера: (120÷400) мм/мин
  • Ручное управление скоростью конвейера, током нагревателя пластин
  • Возможность корректировки параметров режима во время процесса без его останова («ручной режим»)
  • Возможность создавать любые новые техпроцессы самостоятельно
  • Протоколирование техпроцессов, позволяющее технологу проводить контроль и оперативное выявление причин возникновения брака в производстве покрытий
  • Непрерывный мониторинг оборудования и управление его работой при возникновении аварийных ситуаций
  • Диагностика и регистрация параметров функционирования основных систем оборудования позволяет оперативно находить возникающие неполадки и неисправности
  • Количество магнетронов: 3
  • Мощность магнетронов: (2÷6) кВт
  • Радиочастотный плазменный генератор: РПГ-250
  • Глубина очистки пластин: ≥ 10 нм
  • Осаждаемые металлы: Al, Ti, Ni, Mo
  • Неравномерность толщины напыленных пленок: ≤ 3%
  • Газовые линии с РРГ: до 4
  • Применяемые газы: Ar, N2, и пр.
  • Система управления: компьютерная / ручная
  • Вакуумная система: криогенный и безмасляный форвакуумный насосы

Оратория 5-1 / 5М

  • Автоматизированная установка вакуумного напыления (магнетронного распыления) для серийного производства
  • Назначение: для нанесения металлических пленок алюминия, титана, никеля, молибдена при производстве изделий электронной техники и пр.
  • Подложки: пластины ø76 мм, ø100 мм, ø150 мм, 60х48 мм
  • Одновременная загрузка подложек: 60х48 мм – до 15 шт., ø76 мм – до 15 шт.
  • Загрузка: шлюзовая камера для загрузки-выгрузки пластин
  • Производительность: ≥ 150 пластин в час для пластин ø76 мм
  • Температура нагрева подложек: (100÷500)°С
  • Нагрев подложек: кварцевыми галогеновыми лампами
  • Планетарная система вращения подложек: 9,8 об/мин
  • Ручное управление скоростью конвейера, током нагревателя пластин
  • Возможность корректировки параметров режима во время процесса без его останова («ручной режим»)
  • Возможность создавать любые новые техпроцессы самостоятельно
  • Протоколирование техпроцессов, позволяющее технологу проводить контроль и оперативное выявление причин возникновения брака в производстве покрытий;
  • Непрерывный мониторинг оборудования и управление его работой при возникновении аварийных ситуаций;
  • Диагностика и регистрация параметров функционирования основных систем оборудования позволяет оперативно находить возникающие неполадки и неисправности
  • Количество магнетронов: 2
  • Мощность магнетронов: (2÷6) кВт
  • Радиочастотный плазменный генератор: РПГ-250
  • Глубина очистки пластин: ≥ 10 нм
  • Осаждаемые металлы: Al, Ti, Ni, Mo
  • Неравномерность толщины напыленных пленок: ≤ 3%
  • Применяемые газы: Ar, сжатый воздух и пр.
  • Жидкий азот для азотной ловушки
  • Система водяного охлаждения
  • Система вентиляции
  • Система управления: компьютерная / ручная
  • Вакуумная система: криогенный / турбомолекулярный и безмасляный форвакуумный насосы
  • Рабочий вакуума: 5*10-5 Па
  • Электроэнергия: 380В, 3ф, 50гц

Оратория 9-1 / 9М

  • Автоматизированная установка вакуумного напыления (методом термического испарения) для серийного производства
  • Назначение: для осаждения многослойных тонких пленок из металлов, сплавов и диэлектриков методом термического испарения материала электроннолучевыми испарителями на кремниевые подложки
  • Подложки: пластины до ø100 мм
  • Количество подложек на сферической карусели: 40шт.
  • Цилиндрическая рабочая камера
  • Температура нагрева подложек: (100÷350)°С
  • Нагрев подложек: блок ИК- нагрева
  • Роторно-планетарное подколпачное устройство
  • Автоматическое выполнение программ от «загрузки до выгрузки»
  • Контроль и автоматическое окончание процесса напыления по времени или по заданной толщине пленки
  • Количество электронно-лучевых испарителей: 2
  • Мощность электронно-лучевых испарителей: 12 кВт
  • Азотные ловушки (жидкий азот)
  • Система водяного охлаждения
  • Система подачи горячей воды для обезгаживания
  • Управление: полуавтоматическое
  • Вакуумная система: криогенный / турбомолекулярный и безмасляный форвакуумный насосы
  • Предельное остаточное давление в рабочей камере: 6,65*10-5 Па

УВН-74П-3М-(1/2/3)

  • Автоматизированная установка вакуумного напыления (термического или магнетронного) для НИОКР и серийного производства
  • Назначение: для двухстороннего нанесения проводящих слоев различных материалов методом термического, или магнетронного напыления пленочных элементов и схем на ситалловых и поликоровых подложках
  • Подложки: 30х24х0,6 мм (1), 60х48 мм ( 1 / 2 / 3 )
  • Одновременная загрузка подложек: 30х24х0,6мм – до 160шт. (1), 60х48мм – до 40шт. (1/2) / до 60 шт. (3)
  • Размеры рабочей камеры: ø700х550 мм
  • Температура нагрева подложек: (100÷350)°С ( 1 / 2 / 3 )
  • Безшестереночный барабан вращения подложек
  • Скорость вращения: (10÷60) об/мин ( 1 / 2 / 3
  • Регулируемый по скорости привод барабана
  • Пневматический привод заслонки
  • Ионная (1 / 2 ) / Ионно-плазменная (3) очистка подложек
  • Ток ионной очистки: 150 мА
  • Резистивный испаритель: 1 шт. (1)
  • Максимальная мощность резистивного испарителя: 2 кВт (1)
  • Магнетроны: 2 шт. (2)
  • Электронные испарители с кольцевым катодом: 2 шт. (1)
  • Максимальная мощность электронного испарителя: 2,5 кВт (1)
  • Осаждаемые металлы: Al, Ti, Cr, Cu и пр.
  • Применяемые газы: Ar, сжатый воздух и пр.
  • Давление сжатого воздуха: (3÷5) атм
  • Автономная система оборотного водоснабжения (3)
  • Система вентиляции
  • Система управления: автоматическая / ручная; возможность управления через модем – дистанционное управление технологическим процессом, осуществление онлайн настройки, передача данных о неисправности в службу поддержки (3)
  • Автоматическое выполнение программ «от загрузки до разгрузки» ( 1 / 2 / 3 )
  • Контроль и автоматическое окончание напыления резистивных и металлических пленок по заданному времени или по заданному сопротивлению «свидетеля» ( 1 / 2 )
  • Контроль напыляемого слоя по системе зеркал (3)
  • Вакуумная система: криогенный / турбомолекулярный и безмасляный форвакуумный насосы ( 1 / 2 / 3 )
  • Время подготовки к работе с учетом «разгона» крионасоса: ≤ 90 мин. (1), ≤ 80 мин. (2)
  • Предельный вакуум в рабочей камере: 5*10-7 мм рт.ст. (1)
  • Электроэнергия: 380В, 3ф, 50гц, 15 кВт (1)
  • Габаритные размеры: установки – 1500х2710х2150 мм; шкафа управления – 950х600х1750 мм (1)
  • Масса: установки – 1250 кг; шкафа управления – 450 кг (1)

УВН-71П-3М-1

  • Автоматизированная установка вакуумного напыления (термического испарения) для серийного производства
  • Назначение: для одностороннего нанесения резистивных и металлических слоев в высоком вакууме методом термического испарения на керамические, кремниевые и другие плоские подложки
  • Подложки: пластины до ø100 мм, 60х48 мм
  • Одновременная загрузка подложек: 60х48мм – до 19шт.
  • Размеры рабочей камеры: ø500х640 мм
  • Температура нагрева подложек: (100÷350)°С
  • Скорость вращения карусели: (10÷60) об/мин
  • Ионная очистка подложек
  • Испаритель для нанесения резистивных сплавов: 1 шт.
  • Испарители для нанесения металлических слоев: 2 шт.
  • Максимальная мощность испарителя: 2 кВт
  • Расход сжатого воздуха: до 30 л/ч
  • Азотные ловушки (жидкий азот)
  • Система водяного охлаждения: до 600 л/ч
  • Система нагрева колпака для обезгаживания: до 200 л/ч
  • Система вентиляции
  • Система управления: автоматическая / ручная
  • Автоматическое выполнение программ «от загрузки до разгрузки»
  • Контроль и автоматическое окончание напыления резистивных и металлических пленок по заданному времени или по заданному сопротивлению «свидетеля»
  • Вакуумная система: криогенный / турбомолекулярный и безмасляный форвакуумный насосы
  • Время подготовки к работе с учетом «разгона» крионасоса: ≤ 60 мин.
  • Рабочее давление в камере: 1х10-5 мм рт.ст.
  • Электроэнергия: 380В, 3ф, 50гц, 15 кВт
  • Габаритные размеры установки: 1500×900×2650 мм
  • Масса установки: 1200 кг