• Компактный дизайн
• Низкое энергопотребление
• Доступна кастомизация заказываемой модели
• Легкая замена кварцевой оснастки

далее

• Компактный дизайн при возможности загрузке от 50 до 100 пластин
• Очень высокая повторяемость процессов
• Большое количество установленных систем
• Специальная линия сервисной поддержки

далее

• Вертикально выращенные углеродные нанотрубки до нескольких миллиметров длиной
• Горизонтально расположенные углеродные нанотрубки
• Клубковидные углеродные нанотрубки
• Вертикальные, горизонтальные нанопроволоки

далее

• Компактный дизайн при возможности загрузке от 100 до 200 пластин
• Очень высокая повторяемость процессов
• Большое количество установленных систем
• Специальная линия сервисной поддержки

далее

• DOPED POLYSILICON AND AMORPHOUS SILICON LPCVD
• POLYSILICON LPCVD WITH SILANE (Si H4)
• POLYSILICON LPCVD WITH DISILANE (Si2H6)
• LTO, DOPED LTO, BPSG, BSG, AND PSG LPCVD

далее

• Максимальная температура 350 ° С
• Площадь нагрева 100 х 100 мм
• Разогрев / охлаждение до 120-150 ° C / мин
• Отклонение контроля +/- 0,5 ° C

далее

• Максимальная температура 400 ° C
• Площадь нагрева ∅ 200 мм
• Зазор над плитой нагревателя 50 мм
• Разогрев / охлаждение до 120-150 ° C / мин

далее

• Максимальная температура 650 ° С
• Площадь нагрева 260 х 210 мм
• Зазор над плитой нагревателя 50 мм
• Разогрев / охлаждение 250 ° C / мин

далее