АО «НТО» (SemiTEq®)

STE RTP150

  • Автоматизированная установка быстрой температурной обработки для НИОКР и мелкосерийное производство
  • Назначение: для проведения процессов быстрой температурной обработки полупроводниковых пластин в вакууме и управляемой газовой среде; для долговременной обработки пластин в различных средах при температурах нагрева до 1300°C
  • Подложки: пластины до ø150 мм
  • Загрузка максимальная: ø150 мм – 1шт
  • Водоохлаждаемая рабочая камера камера из алюминия
  • Нагреватель: на основе галогеновых ламп с разделением рабочих объемов нагревателя и отжигаемого образца
  • Максимальная температура нагрева: до 1300 °С
  • Контроль температуры нагрева: с помощью термопары и пирометра
  • Тепловыравнивающий графитовый или кварцевый столик
  • Максимальная скорость нагрева:  с графитовым столиком – 30 °С/с; с кварцевым столиком – 150 °С/с
  • Однородность нагрева: ±2 %
  • Инертные газы
  • Вакуумная система: безмасляный форвакуумный насос
  • Предельное остаточное давление в рабочей камере: <10 мм.рт.ст
  • Автоматизация технологического процесса. Программирование и сохранение технологических рецептов. Программирование нескольких стадий процесса отжига

STE RTA100

  • Автоматизированная установка быстрого температурного отжига для серийного производства
  • Назначение: для проведения процессов быстрого температурного отжига в инертной среде; для проведения кратковременных процессов с максимальной температурой на пластине до 1000°C в инертной среде; для отжига вплавных омических контактов в составе отечественных производственных линий по выпуску электронной компонентной базы на основе материалов А3B5
  • Подложки: пластины до ø100 мм
  • Загрузка максимальная: ø100 мм – 1шт.
  • Нагреватель: на основе галогеновых ламп с разделением рабочих объемов нагревателя и отжигаемого образца
  • Максимальная температура нагрева: до 1000 °С
  • Контроль температуры нагрева: с помощью термопары и пирометра
  • Тепловыравнивающий графитовый или кварцевый столик
  • Максимальная скорость нагрева:  с графитовым столиком – 30 °С/с; с кварцевым столиком – 150 °С/с
  • Однородность нагрева: ±2 %
  • Инертные газы
  • Вакуумная система: безмасляный форвакуумный насос
  • Предельное остаточное давление в рабочей камере: <10 мм.рт.ст
  • Автоматизация технологического процесса. Программирование и сохранение технологических рецептов. Программирование нескольких стадий процесса отжига