АО «НИИТМ»

БТО ТМ 200-01

  • Установка быстрого термического отжига для мелкосерийного производства
  • Назначение: для индивидуального/группового отжига ионно-легированных слоев; формирования омических контактов; получения силицидов металлов, тонких окисных и диэлектрических пленок; рекристаллизации аморфных и поликристаллических пленок и т.д.
  • Варианты применения: индивидуально или в составе кластера
  • Подложки: пластины ø76 мм, ø100 мм, ø150 мм, ø200 мм
  • Варианты загрузки подложек: шлюзовая, из кассеты в кассету, SMIF контейнер
  • Загрузка: 60х48 мм – 7 шт., ø76 мм – 4 шт., ø100 мм – 1шт., ø150 мм – 1шт., ø200 мм – 1шт.
  • Транспортная система переноса пластин: на основе манипулятора
  • Температура многозонного ИК−нагрева пластин: до 1200 °С
  • Максимальная скорость нагрева: ≥100 °С/с
  • Скорость охлаждения от +1200 °С до +700 °С: ≥35 °С/с
  • Скорость охлаждения от +700 °С до +200 °С: ≥35 °С/мин
  • Рабочая камера охлаждается до +16 °С…+25 °С
  • Узел вращения пластины для повышения равномерности нагрева
  • Вакуумная система (при необходимости): с безмасляныым форвакуумным насосом
  • Возможность встраивания в «чистую комнату»

ОТЖИГ ТМ 4

  • Автоматизированная, горизонтальная, однореакторная, трехсекционная электропечь термической обработки для мелкосерийного производства
  • Назначение: для групповой термической обработки пластин и материалов (отжиг, сушка, разгонка диффузанта, восстановление кристаллических структур и др.) при нормальном давлении в восстановительной или нейтральной среде
  • Режим работы: полуавтоматический
  • Подложки: пластины до ø100 мм
  • Загрузка ручная: до ø100 мм – 120 шт.
  • Внутренний диаметр кварцевого реактора: 150 мм
  • Длина рабочей зоны кварцевого реактора: 800 мм
  • Длина термостатируемой рабочей зоны кварцевого реактора: 700 мм
  • Нагреватель: трехсекционный, резистивный, спиральный с платиновой термопарой в каждой секции
  • Диапазон рабочих температур: (150÷1100) °С
  • Время разогрева до Тмакс. = 1100 °С: ≤25 мин
  • Управление скоростью нагрева и охлаждения реактора
  • Неравномерность распределения температуры по длине рабочей зоны при (300÷1100)°С: ≤ ±2 °С
  • Нестабильность поддержания температуры в любой точке рабочей зоны при (300÷1100)°С: ≤1,5 °С
  • Газовые линии с РД и РРГ: 2 шт.
  • Рабочие газы: Ar, H₂, N₂
  • Расход газа (линия I) (N2): 540 л/ч
  • Расход газа (линия II) (H2): 90 л/ч
  • Раздельный сброс тяжелых и легких газов из реактора для сокращения времени замещения рабочего газа продувочным и наоборот
  • Вытяжная вентиляция: ≥100 м3/ч
  • Охлаждение — вода водопроводная: ≥0,4 м3/ч
  • Микропроцессорная система управления
  • Электроэнергия: 380/220 В, 3 ф, 50 Гц, ≤20 кВт
  • Возможность встраивания в «чистую комнату»

ОТЖИГ ТМ 4М

  • Автоматизированная, горизонтальная, однореакторная, трехсекционная электропечь термической обработки для мелкосерийного производства
  • Назначение: для групповой термической обработки пластин и материалов (отжиг, сушка, разгонка диффузанта, восстановление кристаллических структур и др.) при нормальном давлении в окислительной или нейтральной среде
  • Режим работы: полуавтоматический
  • Подложки: пластины до ø100 мм
  • Загрузка ручная: до ø100 мм – 120 шт.
  • Внутренний диаметр кварцевого реактора: 150 мм
  • Длина рабочей зоны кварцевого реактора: 800 мм
  • Длина термостатируемой рабочей зоны кварцевого реактора: 700 мм
  • Нагреватель: трехсекционный, резистивный, спиральный с платиновой термопарой в каждой секции
  • Диапазон рабочих температур: (300÷1100) °С
  • Время разогрева до Тмакс. = 1100 °С: ≤25 мин
  • Управление скоростью нагрева и охлаждения реактора
  • Неравномерность распределения температуры по длине рабочей зоны при (300÷1100)°С: ≤ ±2 °С
  • Нестабильность поддержания температуры в любой точке рабочей зоны при (300÷1100)°С: ≤1,5 °С
  • Газовые линии с РД и РРГ: 2 шт.
  • Рабочие газы: Ar, О₂, N₂
  • Вытяжная вентиляция: ≥100 м3/ч
  • Охлаждение — вода водопроводная: ≥0,4 м3/ч
  • Микропроцессорная система управления
  • Электроэнергия: 380/220 В, 3 ф, 50 Гц, ≤15 кВт
  • Возможность встраивания в «чистую комнату»

ОТЖИГ ТМ 6

  • Автоматизированная, горизонтальная, однореакторная электропечь термической обработки для мелкосерийного производства
  • Назначение: для термической обработки пластин и материалов в газовой среде (отжиг, сушка, разгонка диффузанта, восстановление кристаллических структур) при нормальном давлении
  • Режим работы: полуавтоматический
  • Подложки: пластины до ø100 мм
  • Загрузка ручная
  • Длина термостатируемой рабочей зоны кварцевого реактора: 150 мм
  • Нагреватель: двухсекционный, резистивный, спиральный с платиновой термопарой в каждой секции
  • Диапазон рабочих температур: (300÷1100) °С
  • Управление скоростью нагрева и охлаждения реактора
  • Газовые линии с РД и РРГ: 3 шт.
  • Рабочие газы: Ar, H₂, N₂
  • Вытяжная вентиляция
  • Охлаждение – вода
  • Микропроцессорная система управления
  • Электроэнергия: 380/220 В, 3 ф, 50 Гц, ≤5 кВт
  • Возможность встраивания в «чистую комнату»

ОКСИД ТМ 1

  • Автоматизированная, горизонтальная, однореакторная, трехсекционная электропечь термической обработки для мелкосерийного производства
  • Назначение: для групповой термической обработки пластин и материалов в газовой среде (оксидирование, отжиг, сушка, разгонка диффузанта, восстановление кристаллических структур) при нормальном давлении
  • Режим работы: полуавтоматический
  • Подложки: пластины до ø100 мм
  • Загрузка ручная: до ø100 мм – 120 шт.
  • Внутренний диаметр кварцевого реактора: 150 мм
  • Длина рабочей зоны кварцевого реактора: 800 мм
  • Длина термостатируемой рабочей зоны кварцевого реактора: 700 мм
  • Нагреватель: трехсекционный, резистивный, спиральный с платиновой термопарой в каждой секции
  • Диапазон рабочих температур: (300÷1100) °С
  • Время разогрева до Тмакс. = 1100 °С: ≤35 мин
  • Управление скоростью нагрева и охлаждения реактора
  • Неравномерность распределения температуры в рабочей зоны: ≤ ±2 °С
  • Нестабильность поддержания температуры в рабочей зоне: ≤1,5 °С
  • Газовые линии с РД и РРГ: 2 шт.
  • Рабочие газы: N₂, O₂, H₂, HСl
  • Вытяжная вентиляция
  • Охлаждение – вода водопроводная
  • Микропроцессорная система управления
  • Электроэнергия: 380/220 В, 3 ф, 50 Гц, ≤15 кВт
  • Возможность встраивания в «чистую комнату»
  • Габаритные раэмеры: 1020х2800х1800 мм