Kokusai Electric QUIXACE (QUIXACE-L/L) DD-1206V-DF 300 mm
Автоматическая высокопроизводительная установка для
проведения термических процессов при групповой обработке в промышленном
производстве динамических ОЗУ, микропроцессорных модулей и флеш-ПЗУ
Назначение: высокотемпературный отжиг,
сверхвысокотемпературный отжиг (>1300°C) при производстве высококачественных
кремниевых подложек для ликвидации линий скольжения в кристаллической
структуре;
Диапазон рабочих температур: (150÷1350)°C
Система управления температурой, скоростью понижения /
повышения температуры
Автоматическая высокопроизводительная установка
атомно-слоевого осаждения (вертикальная печь химического осаждения из газовой
фазы при пониженном давлении) при групповой обработке в промышленном
производстве
Назначение: атомно-слоевое осаждение TiN; осаждение
SiO2; осаждение TaN
Патронный нагревательный элемент
Система управления температурой, высокая скорость
понижения / повышения температуры
Kokusai Electric QUIXACE II ALD High-k 300 mm (ALD)
Автоматическая высокопроизводительная установка
атомно-слоевого осаждения (вертикальная печь химического осаждения из газовой
фазы при пониженном давлении) при групповой обработке в промышленном
производстве
Назначение: атомно-слоевое осаждение TiN; осаждение
SiO2; осаждение TaN
Патронный нагревательный элемент
Система управления температурой, высокая скорость
понижения / повышения температуры
Kokusai Electric Quixace II DJ-1206VN-DF Doped Poly 300 mm
Автоматическая вертикальная диффузионная печь
химического осаждения из газовой фазы при пониженном давлении при групповой
обработке в промышленном производстве
Назначение: химическое осаждение из газовой фазы
легированного поликремния при пониженном давлении
Пластины: ø300мм (12”)
Загрузка-разгрузка в FOUP-контейнерах через 2 порта
Kokusai Electric Quixace II DD-1206V-DF NITRIDE 300 mm
Автоматическая высокопроизводительная вертикальная
диффузионная печь химического осаждения из газовой фазы при пониженном давлении
при групповой обработке в промышленном производстве
Назначение: химическое осаждение из газовой фазы
нитридов при пониженном давлении
Патронный нагревательный элемент
Система управления температурой с комплектом термопар
Автоматическая высокопроизводительная установка для проведения термических процессов при групповой обработке в промышленном производстве чипов, пластин, МЭМС, светодиодов, источников питания, фотоэлементов
Автоматическая высокопроизводительная установка для плазменного нитридирования / оксидирования при однопластинной обработке в промышленном производстве
Назначение: плазменное нитридирование диэлектрических пленок; плазменное оксидирование (формирование тонких оксидированных пленок, селективное оксидирование, анизотропное оксидирование, оксидирование кремния без оксидирования металла) при производстве последнего поколения динамических ОЗУ, логических устройств или флеш-ПЗУ
Автоматическая высокопроизводительная установка для вскрытия фоторезиста / озоления (удаления сухого пленочного резиста) при однопластинной обработке в промышленном производстве
Автоматическая высокопроизводительная установка для вскрытия фоторезиста / озоления (удаления сухого пленочного резиста) при однопластинной обработке в промышленном производстве