ELS 112SA

• Установка совмещения и экспонирования полуавтоматическая
• Размер обрабатываемых пластин: от 200мм до 300мм
• Материал подложки: Кремний / сапфир / GaAs / Ge / Al2O3 / стекло / кварц / пленка
• Фоторезист: жидкий/сухая пленка
• Размер маски：9″ ~ 14″ кварцевая или натриево-кальциевая
• Мощность лампы：     1.89 КВт
• Диапазон длин волн： широкополосный источник ( i линия : 365нм /  h линия : 400нм / g линия : 436 нм )

• Интенсивность излучения：более 15 мВт/ см² на длине волны 365 nm
• Неоднородность интенсивности：            менее 5% на подложке 300мм
• Зона экспонирования：максимально 300 мм x 300 мм
• Запуск компенсационной системы выравнивания: Автоматически
• Приведение в контакт: Автоматически
• Режимы экспозиции: Малый зазор/мягкий контакт/ плотный контакт/ вакуумный контакт
• Система совмещения: С помощью светодиода (устройства с зарядной связью), управляемым вручную
• Точность совмещения：±3мкм ( для 300мм )
• Разрешение L/S: 1мкм на основе режима контакта и толщине фоторезиста 1 мкм
• Антивибрационный столик: Есть
• Система управления: На основе ПК
• Опционально: Частотный фильтр / лампа 500 Вт/ лампа дальнего УФ-излучения / столик для сломанных пластин/ интегрированная функция облучения / ваттметр
• Движение по оси Z осуществляется серводвигателем, совмещенным с высокоточным датчиком давления, что обеспечивает высокую точность совмещения при работе установки
• Программируемая смена фильтра: широкая полоса частот / 365 нм (i-линия)
• Высокое разрешение
• Высокая точность совмещения
• Функция памяти: после завершения совмещения первой пластины устройство запоминает координаты, полученные прибором с зарядовой связью (ПЗС). ПЗС будет перемещаться в записанное в памяти положение, чтобы сократить время совмещения
• Встроенная функция облучения (опционально)
• Система идентификации изображений (опционально)
• Собственные программное обеспечение/ аппаратные средства / оптические технические системы компании ELS.

к списку