ELS 108FA

• Установка совмещения и экспонирования полностью автоматическая
• Размер обрабатываемых пластин от 150мм до 200мм
• Материал подложки: кремний / сапфир / GaAs / Ge / Al2O3 / стекло / кварц / пленка.
• Химические вещества: Фоторезист / сухая пленка
• Размер маски：7″ ~ 9″ кварцевая или натриево-кальциевая
• Мощность лампы：     660Вт ~ 940Вт        
• Диапазон длин волн： широкополосный источник

( i линия : 365нм /  h линия : 400нм / g линия : 436 нм )

• Интенсивность излучения：более 20 мВт/ см² на длине волны 365 нм
• Тип источника：ртутная лампа
• Неоднородность интенсивности：менее 3% на подложке 200мм
• Зона экспонирования：максимально 200 мм x 200 мм
• Тип робота：Трёхосевой
• Режимы экспозиции: Малый зазор / мягкий контакт / жесткий контакт / вакуумный контакт /
• Alignment Key：150 мкм x 150мкм And Smaller
• Точность совмещения：±2мкм

для модели ELS 106SA-B: ±2мкм по лицевой стороне, ±3мкм по обратной стороне

• Разрешение：1мкм при контактной литографии с толщиной фоторезиста 1 мкм
• Время такта: менее 40 секунд на такт

для модели ELS 106SA-B: для лицевой стороны менее 40 секунд на такт, для обратной стороны менее 45 секунд на такт

• Управление：встроенный компьютер
• Загрузочное устройство/универсальное загрузочное устройство: в комплекте 2 кассеты, пользователь может гибко настроить порядок загрузки пластин.
• Автоматическая фиксация масок.
• По оси Z устройство приводится в движение серводвигателем с интегрированным высокоточным датчиком давления, что обеспечивает высокую точность выравнивания.
• Система экспозиции: 250 Вт / 500 Вт / многоламповая система.
• Программируемая смена фильтра: широкая полоса пропускания / 365 нм.
• Система автоматического совмещения: используйте реальное изображение, чтобы настроить систему, процесс травления не влияет на точность совмещения.
• Высокое разрешение
• Высокая точность
• Собственные программное обеспечение/ аппаратные средства / оптические технические системы компании ELS, быстрое и легкое соответствие запчастей.

к списку