4PICO Litho B.V.

MicroMaster

Настольная установка безмасковой лазерной литографии для НИОКР
УФ-диодный GaN лазер 405 нм, опционально 375 нм. Встроенный 650 нм красный лазер, управляемый системой автофокусировки
Размера пятна: 800 нм, опционально 1500 нм, 2500 нм
Для УФ-резистов
Размер подложек: 5″ или 5″ x 5″ (мин. 5 x 5 мм, макс. 125 x 125 мм)
Максимальная область экспонирования 110 х 110 мм²
Различные толщины подложек
Движения по осям X, Y и опционально по Z (ход 12 мм для разных толщин подложек)

Показать больше

Повторяемость <40нм
Разрешение 2 нм
Максимальная скорость сканирования до 200 мм/сек
Максимальное ускорение сканирования 10000 мм/сек²
Минимальный размер структурного элемента < 0,3 мкм
Равномерность интенсивности <0,5%
Автофокус: равномерность <1%
Скорость экспонирования 1 мм²/мин
Размер адресной сетки: 40нм в направлении развертки и 100нм в направлении шага
Векторный и растровый режимы экспозиции
Режим трехмерной экспозиции
Наличие системы прецизионного позиционирования подложки
Точность окончательного выравнивания: < < 0,5 мкм
В комплект поставки входит настольный ПК с программным обеспечением контроллера
Поддержка форматов: GDSII, CIF, DXF, Bitmaps, TIFF, Parametric
Электричество 220-240 В, 50 Гц, макс. 1кВт
Возможность подключения к прецизионной системе поддержания микроклимата, диаметр 100мм.
Рекомендуемые параметры микроклимата для помещения 21 ± 1 ОС, класс 5 ИСО
Опция: вакуумный насос
Размер установки (ШхГхВ) 580 х 600 х 708 мм, масса 260 кг

Показать меньше

PicoMaster 100

Настольная установка безмасковой лазерной литографии для НИОКР
УФ-диодный GaN лазер 405 нм, опционально 375 нм. Встроенный 650 нм красный лазер, управляемый системой автофокусировки
Стандартный лазерный источник 405 нм предоставляет пользователю 3 размера пятна, которые можно задать: 280 нм, 490 нм и 880 нм.
Для УФ-резистов
Размер подложек: 4″ или 4″ x 4″ (мин. 5 x 5 мм, макс. 125 x 125 мм)
Различные толщины подложек
Движения по осям X, Y и опционально по Z (ход 12 мм для разных толщин подложек)
Повторяемость <40нм

Показать больше

Разрешение 2 нм
Максимальная скорость сканирования до 300 мм/сек
Максимальное ускорение сканирования 10000 мм/сек²
Минимальный размер структурного элемента < 0,3 мкм
Равномерность интенсивности <0,5%
Автофокус: равномерность <1%
Скорость экспонирования 1 мм²/мин
Размер адресной сетки: 40нм в направлении развертки и 100нм в направлении шага
Векторный и растровый режимы экспозиции
Режим трехмерной экспозиции
Наличие системы прецизионного позиционирования подложки
Точность окончательного выравнивания: < < 0,5 мкм
В комплект поставки входит настольный ПК с программным обеспечением контроллера
Поддержка форматов: GDSII, CIF, DXF, Bitmaps, TIFF, Parametric
Электричество 220-240 В, 50 Гц, макс. 1кВт
Возможность подключения к прецизионной системе поддержания микроклимата, диаметр 100мм.
Рекомендуемые параметры микроклимата для помещения 21 ± 1 ОС, класс 5 ИСО
Опция: вакуумный насос
Размер установки (ШхГхВ) 600 х 600 х 750 мм, масса 260 кг

Показать меньше

PicoMaster 150

Установка безмасковой лазерной литографии для НИОКР
УФ-диодный GaN лазер 405 нм, опционально 375 нм. Встроенный 650 нм красный лазер, управляемый системой автофокусировки
Размера пятна: 300 нм, опционально 600 нм, 900 нм
Для УФ-резистов
Размер подложек: 6″ или 6″ x 6″ (мин. 5 x 5 мм, макс. 160 x 160 мм)
Максимальная область экспонирования 150 х 150 мм²
Различные толщины подложек
Движения по осям X, Y и опционально по Z (ход 12 мм для разных толщин подложек)

Показать больше

Повторяемость <20нм
Разрешение 2 нм
Максимальная скорость сканирования до 200 мм/сек
Максимальное ускорение сканирования 15000 мм/сек²
Минимальный размер структурного элемента < 0,3 мкм
Равномерность интенсивности <0,5%
Автофокус: равномерность <1%
Скорость экспонирования 1 мм²/мин
Размер адресной сетки: 20нм в направлении развертки и 100нм в направлении шага
Векторный и растровый режимы экспозиции
Режим трехмерной экспозиции
Наличие системы прецизионного позиционирования подложки
Точность окончательного выравнивания: < < 0,5 мкм
В комплект поставки входит настольный ПК с программным обеспечением контроллера
Поддержка форматов: GDSII, CIF, DXF, Bitmaps, TIFF, Parametric
Электричество 220-240 В, 50 Гц, макс. 1кВт
Сжатый воздух от 5 до 7 bar, класс 3 по ISO 8573-1:2010
Возможность подключения к прецизионной системе поддержания микроклимата, диаметр 150мм.
Рекомендуемые параметры микроклимата для помещения 21 ± 1 ^ОС, класс 5 ИСО
Опция: голографические библиотеки, вакуумный насос
Размер установки (ШхГхВ) 860/1260 х 1297 х 2065 мм, масса 700 кг

Показать меньше

PicoMaster 200

Установка безмасковой лазерной литографии для НИОКР
УФ-диодный GaN лазер 405 нм, опционально 375 нм. Встроенный 650 нм красный лазер, управляемый системой автофокусировки
Автоматический селектор размера пятна: 300 нм, 600 нм, 900 нм
Для УФ-резистов
Размер подложек: 8″ или 8″ x 8″ (мин. 5 x 5 мм, макс. 220 x 220 мм)
Различные толщины подложек
Движения по осям X, Y и опционально по Z (ход 12 мм для разных толщин подложек)
Повторяемость <20нм

Показать больше

Разрешение 2 нм
Максимальная скорость сканирования до 450 мм/сек
Максимальное ускорение сканирования 15000 мм/сек²
Минимальный размер структурного элемента < 0,3 мкм
Равномерность интенсивности <0,5%
Автофокус: равномерность <1%
Скорость экспонирования 1 мм²/мин
Размер адресной сетки: 40нм в направлении развертки и 100нм в направлении шага
Векторный и растровый режимы экспозиции
Режим трехмерной экспозиции
Наличие системы прецизионного позиционирования подложки
Точность окончательного выравнивания: < < 0,5 мкм
В комплект поставки входит настольный ПК с программным обеспечением контроллера
Поддержка форматов: GDSII, Oasis, CIF, gerber, Bitmaps, TIFF, Parametric
Электричество 220-240 В, 50 Гц, макс. 1кВт
Сжатый воздух от 5 до 7 bar
Возможность подключения к прецизионной системе поддержания микроклимата, диаметр 150мм.
Рекомендуемые параметры микроклимата для помещения 21 ± 1 ^ОС, класс 5 ИСО
Опция: голографические библиотеки, вакуумный насос
Размер установки (ШхГхВ) 900/1260 х 1297 х 2065 мм, масса 700 кг

Показать меньше

Обратная связь

4PICO Litho B.V.

MicroMaster

PicoMaster 100

PicoMaster 150

PicoMaster 200

Презентации

Инженерное оборудование

Технологическое оборудование