ЭМ-5634

• CCD-Степпер
• Предназначен для выполнения фотолитографии в производстве интегральных микросхем с большой площадью кристалла.
• Диаметр пластин 100мм,150мм
• Размер фотошаблона 152×152 (6″х6″) мм
• Фотолитографическое разрешение (L/S) 1мкм
• Глубина резкости 6 мкм
• Рабочее поле 50×50 мм,100×35 мм
• Масштаб проекционного переноса        1:1
• Диапазон автоматического изменения масштаба ±20 ррm
• Дисторсия объектива ±0.3мкм
• Длина волны 365 (i-линия) нм
• Мощность ртутной лампы 5 кВт
• Мощности экспонирующего излучения 140 мВ/см2
• Неравномерность освещения, %            ±3%
• Погрешность отработки дозы экспозиции ±1.5%
• Погрешности совмещения слоев (3σ) ±0.2 мкм
• Потребляемая мощность 6.5 кВт

к списку