ЭМ-5289Б

Сканирующий лазерный генератор
Предназначен для изготовления металлизированных фотошаблонов при производстве СБИС и других изделий электронной техники, а также для формирования топологии на полупроводниковых подложках, обеспечивая совмещение с предыдущими слоями (безмасковая оптическая литография)
Размер минимального элемента 350нм
Время экспонирования области 100х100мм 120мин
Размер поля экспонирования 215х215мм
Совмещаемость комплекта шаблонов 50-60нм
Неровность края элементов топологии 30нм
Дискретность адресной сетки 1.25нм
Потребляемая мощность 5кВт

Обратная связь