ЭМ-5189-02

Сканирующий лазерный генератор
Предназначен для изготовления металлизированных фотошаблонов при производстве СБИС и других изделий электронной техники, а также для формирования топологии на полупроводниковых подложках, обеспечивая совмещение с предыдущими слоями (безмасковая оптическая литография)
Размер минимального элемента 600нм
Время экспонирования области 100х100мм 60мин
Размер поля экспонирования 215х215мм
Совмещаемость слоев 70нм
Неровность края элементов топологии 40нм
Дискретность адресной сетки 1.25нм
Потребляемая мощность 5кВт

Обратная связь