ЭМ-5109

Лазерный генератор изображений широкого применения
Предназначен для изготовления металлизированных фотошаблонов при производстве интегральных схем, полупроводниковых приборов, гибридных схем, фотоэлектрических преобразователей, ЖК-индикаторов, прецизионных печатных плат, фотошаблонов ГИС, специальных измерительных и тестовых шаблонов
Размеры наборного элемента 1…300мкм
Производительность (на регулярных структурах) 1,7 млн. эксп./ч
Размер поля экспонирования 300х300мм
Дискретность перемещений координатного стола 50нм
Погрешность позиционирования координатного стола ±150нм
Дискретность изменения размеров наборного элемента 100нм
Угол поворота наборного элемента 0…90°
Дискретность изменения угла поворота 0,025°
Потребляемая мощность 3 кВт

Обратная связь