ЭМ-5096

Установка совмещения и экспонирования
Предназначена для совмещения изображения фотошаблона и пластины (подложки) и переноса изображений с фотошаблона на пластину контактным (в зазоре) экспонированием фоторезистивного слоя пластин (подложки)
Диапазоны рабочих длин волн 225-260нм; 280-335нм; 350-450нм
Фотолитографическое разрешение 0.4 … 0.6мкм
Неравномерность освещенности рабочего поля диаметром 76мм ±2%
Случайная составляющая погрешности совмещения ±0.1мкм
Диаметр обрабатываемых пластин 76 (16, 20, 25, 30, 40, 50, 60); 60×48; 48×30мм
Размер фотошаблонов 76х76мм, 102х102мм
Чувствительность привода манипулятора совмещения: по X, Y 0.01
мкм; по углу 0.1секунд
Двупольный микроскоп с расщепленным полем и плавным изменением увеличения с объективами ОМ 0,4/8 и окулярами 10х 150х … 480х; с объективами ОМ 0,2/14 и окулярами 10х 90х … 250х
Потребляемая мощность 800Вт

Обратная связь