ЭМ-5026М1

Установка совмещения и экспонирования
Предназначена для совмещения изображения фотошаблона и пластины (подложки) и переноса изображения с фотошаблона на пластину контактным (в зазоре) экспонированием фоторезистивного слоя пластины (подложки).
Диапазоны рабочих длин волн 225-260нм; 280-335нм; 350-450нм
Фотолитографическое разрешение 0.4 … 0.6мкм
Неравномерность освещенности рабочего поля диаметром 76 мм ±2%
Случайная составляющая погрешности совмещения ±0.1мкм
Диаметр обрабатываемых пластин 76мм (16, 20, 25, 30, 40, 50, 60); 60×48мм; 48×30 мм
Размер фотошаблонов*, мм 76х76мм, 102х102мм
Чувствительность привода манипулятора совмещения: по X, Y 0.01мкм; по углу 0.1секунд
Однопольный микроскоп с тремя объективами на револьверной головке.
Увеличение микроскопа с окулярами 10х 120x, 320x, 485x
Потребляемая мощность 800Вт

Обратная связь