Hitachi High Technologies

• Высокоразрешающий электронный микроскоп для встраивания в производственную линию
• Разработан для технологии менее 22нм (32нм для CG4000)
•  Размер пластины до 300мм
• Разрешение до 1.45нм (1.8нм для CG4000)

далее

• Система инспектирования пластин (до процесса литографии) предназначина для проверки качества кремниевых пластин и чистоты оборудования в производственной линейки.
• Система имеет гибкость настройки для инспектирования небольших и неглубоких дефектов в режиме сканирования в один проход, либо получение высокого разрешения при сканирования в два прохода.
• Размер пластин 200/300мм
• Чувствительность до 32нм

далее

• Многофункциональный электронный микроскоп для инспектирования дефектов на пластине
• Система предназначена для автоматического выявления дефектов с автоматической классификацией для технологий с критическими размерами 2Хнм. Автоматическое определение дефектов на непрофилированных пластинах с производительностью, намного превышающей стандартные системы.
• Размер пластин 200/300мм
• Разрешение до 1.6нм

далее

• Сканирующий электронный микроскоп сверхвысокого разрешения
• Микроскоп SU9000 с холодным вольфрамовым катодом разрабатывался для достижения наивысшего разрешения
• Этой модели принадлежит рекордное значение разрешения во вторичных электронах и в режиме работы на просвет
• Конструкция интегрированного детектора отраженных и вторичных электронов позволяет одновременно выводить изображение, используя сигналы вторичных и отраженных электронов.

далее

• Просвечивающий электронный микроскоп с полевой эмиссией
• Электронный микроскоп со свех-критическим разрешением — менее 0,1 нм.
• Ускоряющее напряжение 300 kV 
• Разрешение до 0.1нм

далее