ЭМ-5434М

  • Установка экспонирования для изготовления печатных плат высокой плотности соединений (Степпер)
  • Предназначен для выполнения технологической операции литографии в производстве печатных плат (IC Substrate) для технологии сборки микросхем методом Flip Chip (BGA/CSP)Фотографическое разрешение на поле модуля 10х10мм (на структурах линия-промежуток) 1мкм
  • Разрешение объектива L/S:      8 мкм
  • Рабочее поле объектива:          70×250мм; 85×228мм
  • Случайная составляющая погрешности совмещения (±3σ)    1.5мкм
  • Масштаб проекционного переноса        1:1
  • Автоматическое изменение масштаба    ±1000 ррm
  • Дисторсия объектива, не более               ±2.5 мкм
  • Глубина резкости объектива                    ±100 мкм
  • Рабочие длины волн    i-(365нм), h-(405нм), g-(436нм)
  • Плотность мощности экспонирующего света в плоскости пластины 220 мВ/см2
  • Неравномерность освещенности поля изображения, не более, %            ±5
  • Погрешность отработки дозы экспозиции ±3%
  • Размер фотошаблона 254х305 мм
  • Потребляемая мощность 7 кВт

к списку

Scroll Up

ООО «СКТО ПРОМПРОЕКТ» обязуется не распространять и не передавать персональные данные третьим лицам.