ЭМ-5084Б

  • Автоматическая установка совмещения и экспонирования
  • Предназначена для совмещения и помодульного экспонирования полупроводниковых пластин при производстве СБИС и других изделий электронной техники
  • Рабочая длина волны 404нм
  • Фотолитографическое разрешение 0.8 мкм
  • Масштаб проекционного уменьшения  1:5
  • Размер максимального рабочего поля модуля 16 х16 мм
  • Случайная составляющая погрешности совмещения ±100 нм
  • Диаметр обрабатываемых пластин (перенастраиваемый) 100мм, 150мм, 200мм
  • Размер фотошаблонов 127х127 мм
  • Емкость библиотеки шаблонов 10 шт.
  • Потребляемая мощность, не более 4 кВт

к списку

Scroll Up

ООО «СКТО ПРОМПРОЕКТ» обязуется не распространять и не передавать персональные данные третьим лицам.