ЭМ-5026М1

  • Установка совмещения и экспонирования
  • Предназначена для совмещения изображения фотошаблона и пластины (подложки) и переноса изображения с фотошаблона на пластину контактным (в зазоре) экспонированием фоторезистивного слоя пластины (подложки).
  • Диапазоны рабочих длин волн 225-260нм; 280-335нм; 350-450нм
  • Фотолитографическое разрешение 0.4 … 0.6мкм
  • Неравномерность освещенности рабочего поля диаметром 76 мм ±2%
  • Случайная составляющая погрешности совмещения  ±0.1мкм
  • Диаметр обрабатываемых пластин 76мм (16, 20, 25, 30, 40, 50, 60); 60×48мм; 48×30 мм
  • Размер фотошаблонов*, мм     76х76мм, 102х102мм
  • Чувствительность привода манипулятора совмещения: по X, Y 0.01мкм; по углу 0.1секунд             
  • Однопольный микроскоп с тремя объективами на револьверной головке.
  • Увеличение микроскопа с окулярами 10х            120x, 320x, 485x
  • Потребляемая мощность 800Вт

к списку

Scroll Up

ООО «СКТО ПРОМПРОЕКТ» обязуется не распространять и не передавать персональные данные третьим лицам.