ЭМ-5026АМ

  • Установка совмещения и экспонирования
  • Предназначена для совмещения изображений фотошаблона и пластины (подложки) и переноса изображения с фотошаблона на пластину (подложку) контактным (в зазоре) экспонированием фоторезистивного слоя пластины.
  • Диапазоны рабочих длин волн 225-260 нм; 280-335 нм;350-450 нм
  • Фотолитографическое разрешение    0.4 … 0.7мкм
  • Неравномерность освещенности рабочего поля диаметром 110мм   ±2.5%
  • Случайная составляющая погрешности совмещения    ±0.1мкм
  • Диаметр обрабатываемых пластин 50мм; 60мм; 76мм; 100мм; 60×48мм
  • Размер фотошаблонов 102 х102мм, 127х127мм
  • Чувствительность привода манипулятора совмещения:  по X, Y 0.01
  • мкм; по углу 0.1секунд 
  • Двупольный микроскоп с расщепленным полем и плавным изменением увеличения: с объективами ОМ 0,4/8 и окулярами 10х  150х … 480х; с объективами ОМ 0,2/14 и окулярами 10х 90х … 250х
  • Потребляемая мощность 800Вт

к списку

Scroll Up

ООО «СКТО ПРОМПРОЕКТ» обязуется не распространять и не передавать персональные данные третьим лицам.