ООО «Корпорация спецтехнологического оборудования «ВИТРИ»

УСТАНОВКА ГАЛЬВАНИЧЕСКОГО ЗОЛОЧЕНИЯ


ЛНГМ


УСТАНОВКА ХИМИЧЕСКОЙ ОБРАБОТКИ И ТРАВЛЕНИЯ ПЛАСТИН

  • Применение: для химической обработки полупроводниковых пластин и травления полупроводниковых пластин
  • Типы ванн: ванна химической обработки в смеси серной кислоты и перекиси водорода – 1 шт.; ванна химической обработки в ортофосфорной кислоте – 1шт.; ванна химической обработки в смеси водного раствора гидроксида калия и изопропилового спирта – 1шт.;    «стоп-ванна» – 1шт.; ванна финишной промывки  – 2 шт.
  • Комплектация фторопластовой ванны химической обработки (210х350х250): система нагрева до 100 °С и поддержания температуры, донная решетка с отверстиями для установки кассет с пластинами, система контроля времени процесса на основе программируемого таймера с зуммером, система барботирования, система эжекторного слива реагентов (если дно глухое), азотные ножи.
  • Комплектация полипропиленовой «стоп-ванны» (200х300х200): блок управления, съемная крышка из полипропилена, патрубок в дне ванны и форсунки вдоль передней и задней стенок ванны для быстрого наполнения ванны с пластинами водой, клапан с пневматическим управлением для сброса воды
  • Комплектация полипропиленовой ванны финишной промывки  (200х300х160): переливной карман с кондуктометром для контроля качества отмывки полупроводниковых пластин, съемная крышка из полипропилена, патрубок подачи воды с вентилем в днище ванны, сливной патрубок с вентилем
  • Рабочая температура в ваннах химической обработки: ≤100 °С
  • Время нагрева ванн химической до рабочей температуры: ≤60 мин
  • Время непрерывной работы: ≥8 час
  • Электроэнергия: 220 В, 1ф, 50 Гц, 3,5 кВт

УСТАНОВКА ХИМИЧЕСКОЙ ОБРАБОТКИ ПЛАСТИН В ОРГАНИЧЕСКИХ РАСТВОРИТЕЛЯХ

  • Применение: для химической обработки полупроводниковых пластин и удаления фоторезиста с полупроводниковых пластин в органических растворителях
  • Типы ванн: ванна обработки в органических растворителях – 2 шт.; «стоп-ванна» – 1шт.; ванна финишной промывки  – 2 шт.
  • Комплектация ванны из нержавеющей стали для обработки в органических растворителях  (218х278х200): система нагрева до 100 °С (косвенный нагрев через глицериновую рубашку) и поддержания температуры, донная решетка с отверстиями для установки кассет с пластинами, система контроля времени процесса на основе программируемого таймера с зуммером, крышка с водяным охлаждением, сливной патрубок с вентилем, азотные ножи.
  • Комплектация полипропиленовой «стоп-ванны» (200х300х200): блок управления, съемная крышка из полипропилена, патрубок в дне ванны и форсунки вдоль передней и задней стенок ванны для быстрого наполнения ванны с пластинами водой, клапан с пневматическим управлением для сброса воды
  • Комплектация полипропиленовой ванны финишной промывки  (200х300х160): переливной карман с кондуктометром для контроля качества отмывки полупроводниковых пластин, съемная крышка из полипропилена, патрубок подачи воды с вентилем в днище ванны, сливной патрубок с вентилем
  • Рабочая температура в ваннах обработки в органических растворителях: ≤75 °С
  • Время нагрева ванн обработки в органических растворителях до рабочей температуры: ≤40 мин
  • Время непрерывной работы: ≥8 час
  • Электроэнергия: 220 В, 1ф, 50 Гц, 2,5 кВт

УПФ


УНФ.1М


LCS


TCS (серия)


HPS

  • Термоплитка для задубливания фоторезиста для мелкосерийного производства и НИОКР
  • Применение: для сушки и задубливания фоторезиста на пластинах и подложках
  • Подложки: пластины до ø150 мм
  • Размер рабочей поверхности: 200×200 мм
  • Диапазон рабочих температур: (20÷250) ºС
  • Неоднородность температур (при 100 ºС): ±1 ºС
  • Моторизированные загрузочные пины для удобства загрузки и выгрузки пластин, а также для сушки на контролируемом зазоре
  • Ход загрузочных пинов: 10 мм
  • Кнопка быстрого перезапуска процесса
  • Таймер процесса
  • Электроэнергия: 220 В, 1 ф, 50 Гц, ≤1 кВт
  • Габаритные размеры: 300×300×300 мм
  • Масса: ≤20 кг
  • Опционно: изготовление термоплитки больших размеров по требованию заказчика