ООО «СТАЛИС»
КС-01 Установка химической обработки полупроводниковых пластин
- Применение: для групповой химической обработки полупроводниковых пластин в различных невзрывоопасных реагентах с последующей промывкой в деионизованной воде
- Пластины: ø50 мм, ø76 мм, ø100 мм и ø150 мм
- Количество ванн: фторопластовые (для обработки в химреактивах) – 3 шт., стоп-ванна – 1 шт., полипропиленовые (для отмывки в деионизованной воде) – 2 шт.
- Внутренние размеры фторопластовых ванн (зависят от заказа): для пластин ø(50÷150)мм – 215 х 290 х 225 мм; для пластин ø(50÷100)мм – 195 х 235 х 160 мм
- Комплектность фторопластовой ванны: нагреватель химреактивов – 220В на (500÷750)Вт; термопреобразователь (непрерывное измерение температуры рабочей среды); эжекторная трубка (для слива химреактивов из ванны); микропроцессорный измеритель–регулятор типа ТРМ 1А-Щ2.ТС.Р. КУВФ.920380.01ПС. (контроль и регулировка по заданным параметрам)
- Микропроцессорный таймер обратного отсчёта FS-1 (индицирует время до окончания процесса, позволяет задавать число циклов обработки от 1 до 9, время обработки, время подачи предварительного сигнала об окончании процесса)
- Стоп-ванна с душем: программа быстрого наполнения-сброса воды; количество циклов обработки задается реле времени FS-1 от 1 до 9
- Расход деионизованной воды в «Стоп-ванне» и ваннах финишной отмывки регулируется ротаметрами: (100÷1200) л/ч
- Контроль качества отмывки пластин в деионизованной воде (по удельному электрическому сопротивлению) и температуры воды производится микропроцессорным кондуктометром «Сириус-2» (АВПА.466452.001РЭ)
- Производительность одной ванны: пластины до ø100 мм (в 2-х кассетах ЩЦМ8.212.312-01) – 50 шт., пластины ø150 мм (в 1-й кассете) – 25 шт.
- Рабочий регулируемый диапазон температуры реагентов во фторопластовой ванне: (30÷120) °C
- Дискретность задания температуры реагента: 0,1°С
- Точность поддержания температуры реагентов в регулируемом диапазоне: ±2 °C
- Время нагрева реагентов от 20 °C до 120 °C (или 5 литров воды от 20 °C до 95 °C): ≤60 мин
- Диапазон времени (дискретность регулировки – 1с) операций во фторопластовых ваннах: 1с ÷ 99 мин 59 с. По окончании срабатывает световая сигнализация
- Диапазон длительности циклов операций заполнения-слива в «Стоп-ванне»: (1÷99) сек
- Количество циклов заполнения-слива: 1÷9
- Система двойной очистки воздуха, подаваемого в установку: предварительная очистка – фильтр ФяГ, окончательная – фильтр ФяС (класс очистки Н14 –(99.95÷99.995)% частиц 0.3 мкм)
- Сжатый воздух: не ниже 12-го класса (ГОСТ17433-80), (0,7±0,05) МПа, ≥10 м3/ч
- Деионизованная вода: марка А (ОСТ 11 029 003-80), (0,25 ±0,05) МПа, ≥1,0 м3/ч
- Питьевая вода: не ниже 10-го класса (ГОСТ 17216-71), (0,3 ±0,05) МПа, ≥0,8 м3/ч
- Вытяжная кислотная вентиляция: ≥ 1500 м3/ч
- Электроэнергия: 380 В ±10%, 3ф, 50 Гц ±2,5%, 3 кВт
- Габаритные размеры: 1870 x 1170 x 2420 мм
- Вес: 600 кг
- Опционно: изменение габаритных размеров, количества ванн и других параметров установки
КС-01М Установка жидкостной химической обработки пластин кремния
- Применение: для групповой химической обработки полупроводниковых пластин кремния в смеси Каро (H2SO4+H2O2) и перекисно-аммиачной смеси (NH4OH+H2O2+H2O) с последующей промывкой в деионизованной воде
- Пластины: ø50 мм, ø76 мм, ø100 мм
- Режим работы: автономно или в составе технохимической линии
- Количество ванн: фторопластовые (для обработки в химреактивах) – 2 шт., стоп-ванна – 2 шт., полипропиленовые (для отмывки в деионизованной воде) – 1 шт.
- Фторопластовые ванны сгруппированы с душевой «стоп – ванной»; закрываются общей полипропиленовой крышкой, приводящейся в движение пневматическим цилиндром
- Закачка реагентов в ванны химической обработки: с помощью насосов
- Внутренние размеры: фторопластовых ванн – 210 х 290 х 225мм; внутренние размеры полипропиленовых ванн – 150 х 290 х 210 мм
- Комплектность фторопластовой ванны: нагреватель химреактивов – 1,5 кВт (через разделительный понижающий трансформатор); эжекторная трубка (для слива химреактивов из ванны); микропроцессорный измеритель–регулятор типа «Овен» ТРМ1 (контроль, поддержание и регулировка температуры рабочей среды по заданным параметрам)
- Управляющий контроллер обеспечивает контроль: времени химической обработки и промывки в душевой «стоп — ванне»; количество проведенных технологических циклов; время «жизни» химических растворов; отладочный режим (пошаговое выполнение отдельных операций технологического цикла); контроль операций слива реагентов и промывки ванн (проводится автоматически). Все параметры химической обработки и промывки отображаются на светодиодном дисплее и мнемосхеме установки. Предусмотрена световая и звуковая сигнализация окончания технологического процесса химической обработки пластин.
- Стоп-ванна с душами и завесой из осушенного газообразного азота: расход воды регулируется вентилем, контролируется ротаметром
- Ванна для финишной промывки в деионизованной воде с крышкой и завесой из осушенного газообразного азота: расход воды регулируется вентилем, контролируется ротаметром; контроль качества отмывки пластин в деионизованной воде (по удельному электрическому сопротивлению) и температуры воды производится двухканальным кондуктометром «Сириус-2» АВПА.466452.001РЭ (второй канал – для организации рецикла)
- Производительность одной ванны: пластины ø100 мм (в 2-х кассетах) – 50 шт.
- Рабочий регулируемый диапазон температуры реагентов во фторопластовой ванне: (30÷160) °C
- Точность поддержания температуры реагентов в регулируемом диапазоне: ±1°C
- Время нагрева реагентов от 20 °C до 120 °C: ≤60 мин
- Дискретность задания температуры реагента: 0,1°С
- Диапазон времени (дискретность регулировки: 1с) операций в блоке ванн хим. обработки: до 9 мин 59 с
- Диапазон длительности циклов заполнения-слива в «Стоп-ванне»: от 1 до 99 с, времени последующей промывки – от 0 до 9 мин 59 с
- Количество циклов заполнения-слива: 1÷9
- Система очистки воздуха, подаваемого в установку: фильтр ФяС -Э14С 16
- Откидные шторки из прозрачного оргстекла
- Сжатый воздух: не ниже 12-го класса (ГОСТ17433-80), (0,7±0,05) МПа, ≥10 м3/ч
- Азот газообразный: 1-го класса чистоты, точка росы «-65» °С (ОСТ11 050.003-83), (0.25 ±0.05) МПа, ≥1 м3/ч
- Деионизованная вода: марка А (ОСТ 11 029 003-80), (0,25 ±0,05) МПа, ≥1,0 м3/ч
- Вытяжная кислотная вентиляция: ≥ 1500 м3/ч
- Электроэнергия: 380 В ±10%, 3ф, 50 Гц ±2,5%, 3 кВт
- Габаритные размеры: 2000 x 1100 x 2010 мм
- Вес: 350 кг
- Опционно: изменение габаритных размеров, количества ванн и других параметров установки
КС-01.1 Установка химической обработки пластин
- Применение: для групповой химической обработки полупроводниковых, гибридных пластин в различных невзрывоопасных реагентах с последующей промывкой в деионизованной воде
- Пластины: ø50 мм, ø76 мм, ø100 мм
- Вариант использования: автономно или в составе технохимической линии обработки пластин
- Количество ванн: фторопластовые (для обработки в химреактивах) с крышками – 3 шт., промывочная фторопластовая ванна (для промывки в горячей проточной деионизованной воде) с проточным нагревателем — регулятором (устанавливается сзади установки в виде отдельного блока) – 1 шт., полипропиленовые (для финишной промывки в деионизованной воде) – 2 шт.
- Внутренние размеры фторопластовых ванн: 220 х 190 х 150 мм
- Комплектность фторопластовой ванны: нагреватель химреактивов – 220В на (500÷750)Вт через разделительные понижающие трансформаторы; эжектор (для откачки реагентов из объема ванны); микропроцессорный измеритель-терморегулятор типа «Овен» ТРМ1 (контроль и регулировка по заданным параметрам)
- Крышка с охлаждением проточной водой: у 2-ой ванны
- Барботирования жидкости осушенным газообразным азотом: в 3-ей ванне
- Микропроцессорный таймер обратного отсчёта (индицирует время до окончания процесса, позволяет задавать число циклов обработки от 1 до 9)
- Расход деионизованной воды в ваннах выставляется вентилем и контролируется с помощью ротаметра
- Контроль качества отмывки пластин в деионизованной воде (по удельному электрическому сопротивлению) производится микропроцессорным кондуктометром «Сириус-2» (АВПА.466452.001РЭ). Измерительные датчики установлены в сливные магистрали ванн.
- Производительность одной ванны: пластины до ø100 мм (в 2-х кассетах) – 50 шт.
- Рабочий регулируемый диапазон температуры реагентов во фторопластовой ванне: (30÷120) °C
- Дискретность задания температуры реагента: 0,1°С
- Точность поддержания температуры реагентов в регулируемом диапазоне: ±2 °C
- Время нагрева реагентов от 20 °C до 120 °C (или 5 литров воды от 20 °C до 95 °C): ≤60 мин
- Диапазон времени (дискретность регулировки: 1с) операций во фторопластовых ваннах: 1с ÷ 99 мин 59 с
- Система двойной очистки воздуха, подаваемого в установку с дискретной регулировкой скорости ламинарного потока: предварительная очистка – фильтр ФяГ, окончательная – фильтр ФяС
- Рабочая зона с откидными шторками из прозрачного оргстекла
- Электронные системы установки размещены на задней части корпуса
- Азот газообразный: 1-го класса чистоты, точка росы «-65»°С (ОСТ11 050.003-83), (0.25 ±0.05) МПа, ≥1 м3/ч
- Деионизованная вода: марка А (ОСТ 11 029 003-80), (0,25 ±0,05) МПа, ≥1,0 м3/ч
- Питьевая вода: не ниже 10-го класса (ГОСТ 17216-71), (0,3 ±0,05) МПа, ≥0,8 м3/ч
- Вытяжная кислотная вентиляция: ≥ 1500 м3/ч
- Электроэнергия: 380В ±10%, 3ф, 50Гц ±2,5%, 3 кВт
- Габаритные размеры: 1870 x 1170 x 2420 мм
- Вес: 600 кг
- Опционно: изменение конфигурации
КС-01.9М Установка жидкостной химической обработки пластин
- Применение: для групповой химической обработки полупроводниковых, гибридных пластин в различных невзрывоопасных реагентах при комнатной температуре с последующей промывкой в холодной деионизованной воде
- Пластины: ø50 мм, ø76 мм, ø100 мм
- Режим работы: автономно или в составе технохимической линии
- Количество ванн: фторопластовые (для обработки в химреактивах) – 3 шт., стоп-ванна – 1 шт., полипропиленовые (для отмывки в деионизованной воде) – 2 шт.
- Фторопластовые ванны закрываются крышками
- Закачка реагентов в ванны химической обработки: с помощью насосов
- Внутренние размеры: фторопластовых ванн – 220 х 190 х 150 мм
- Комплектность фторопластовой ванны: крышка; эжектор (для откачки реагентов из объема ванны)
- Время технологического процесса контролируется с помощью таймера обратного отсчета
- Полипропиленовая стоп-ванна многократного быстрого наполнения через патрубок, расположенный на дне ванны и форсунки рассеивателя и сброса воды из ванны. Режимы отмывки (время, количество циклов сброса — наполнения) задаются на блоке управления «стоп-ванной». Расход деионизованной воды выставляется вентилем, контролируется ротаметром.
- Ванна с крышкой и завесой из осушенного газообразного азота для финишной промывки в деионизованной воде: расход воды регулируется вентилем, контролируется ротаметром; контроль качества отмывки пластин в деионизованной воде (по удельному электрическому сопротивлению) производится двухканальным кондуктометром «Сириус-2» АВПА.466452.001РЭ (второй канал – для организации рецикла)
- Производительность одной ванны: пластины ø100 мм (в 2-х кассетах) – 50 шт.
- Диапазон времени (дискретность регулировки: 1с) операций в ванне хим. обработки: от 1с до 99 мин 59 с
- Диапазон длительности технологических циклов заполнения-слива в «Стоп-ванне»: от 1 до 99 с
- Количество циклов заполнения-слива: 1÷9
- Система двойной очистки воздуха, подаваемого в установку с дискретной регулировкой скорости ламинарного потока: предварительная очистка – фильтр ФяГ, окончательная — фильтр ФяС
- Откидные шторки (со специальными прорезями) из прозрачного оргстекла
- Электронные системы установки размещены на задней части корпуса
- Сжатый воздух: не ниже 12-го класса (ГОСТ17433-80), (0,6±0,05) МПа
- Азот газообразный: 1-го класса чистоты (ОСТ11 050.003-83), (0.2 ±0.05) МПа
- Деионизованная вода: марка А (ОСТ 11 029 003-80), (0,25 ±0,05) МПа, ≥1,0 м3/ч
- Питьевая вода: не хуже 10 класса (ГОСТ 17216-71), (0,3±0,05)МПа, ≥0,8 м3/ч
- Вытяжная кислотная вентиляция: ≥ 1500 м3/ч
- Электроэнергия: 380В ±10%, 3ф, 50Гц ±2,5%, 1кВт
- Габаритные размеры: 1880 x 1200 x 2100 мм
- Вес: 450 кг
- Опционно: изменение конфигурации
КС-02 Установка химической обработки пластин
- Применение: для групповой кассетной химической обработки полупроводниковых, гибридных пластин в различных невзрывоопасных реагентах с последующей промывкой в теплой и холодной деионизованной воде
- Пластины: ø50 мм, ø76 мм, ø100 мм и ø150 мм
- Режим работы: автономно или в составе технохимической линии
- Количество ванн: фторопластовые для обработки в химреактивах – 3 шт. (одна ванна А – для пластин до 150 мм, две ванны Б – для пластин до 100 мм), фторопластовая ванна для промывки пластин в горячей (проточный нагреватель-регулятор устанавливается сзади установки в виде отдельного блока) проточной деионизованной воде – 1 шт., полипропиленовые 2х-каскадные (один из каскадов закрывается крышкой – в этой зоне возможна подача азота газообразного) для отмывки в деионизованной воде – 2 шт.
- Внутренние размеры фторопластовых ванн (зависят от заказа): ванна А для пластин ø(50÷150) мм – 215 х 290 х 225 мм; для пластин ø(50÷100) мм – 195 х 235 х 160 мм
- Комплектность фторопластовой ванны: нагреватель химреактивов – 220В на (500÷750) Вт через разделительные понижающие трансформаторы; эжектор (для откачки реагентов из объема ванны); микропроцессорный измеритель–регулятор типа ТРМ 1А-Щ2.ТС.Р. КУВФ.920380.01ПС. (контроль и регулировка по заданным параметрам); крышка ванны
- Микропроцессорный таймер обратного отсчёта (индицирует время до окончания процесса)
- Расход деионизованной воды в ваннах финишной отмывки выставляется вентилем и контролируется с помощью ротаметра: (100÷1200) л/ч
- Контроль качества отмывки пластин в деионизованной воде (по удельному электрическому сопротивлению) производится микропроцессорным двухканальным кондуктометром «Сириус-2» (АВПА.466452.001РЭ). Измерительные датчики прибора установлены в сливные магистрали ванн
- Производительность одной ванны: пластины до ø100 мм (в 2-х кассетах ЩЦМ8.212.312-01) – 50 шт., пластины ø150 мм (в 1-й кассете) – 25 шт.
- Рабочий регулируемый диапазон температуры реагентов во фторопластовой ванне: (30÷120) °C
- Дискретность задания температуры реагента: 0,1 °С
- Точность поддержания температуры реагентов в регулируемом диапазоне: ±2 °C
- Время нагрева реагентов от 20 °C до 120 °C (или 5 литров воды от 20 °C до 95 °C): ≤60 мин
- Диапазон времени (дискретность регулировки: 1с) операций во фторопластовых ваннах: 1с ÷ 99 мин 59 с
- Комплектуется блоком обеспыливания воздуха с фильтром ФяГ с возможностью дискретной регулировки скорости ламинарного потока. Рабочая зона закрывается откидными шторками из прозрачного оргстекла
- Электронные системы установки размещены на задней части корпуса
- Азот газообразный: 1-го класса чистоты, точка росы «-65»°С (ОСТ11 050.003-83), (0.25 ±0.05) МПа, ≥1 м3/ч
- Деионизованная вода: марка А (ОСТ 11 029 003-80), (0,25 ±0,05) МПа, ≥1,0 м3/ч
- Питьевая вода: не ниже 10-го класса (ГОСТ 17216-71), (0,3 ±0,05) МПа, ≥0,8 м3/ч
- Вытяжная кислотная вентиляция: ≥ 1500 м3/ч
- Электроэнергия: 380В ±10%, 3ф, 50Гц ±2,5%, 4 кВт
- Габаритные размеры: 1870 x 950 x 1580 мм
- Вес: 300 кг
- Опционно: изменение конфигурации
КС-02.9М Установка жидкостной химической обработки пластин
- Применение: для групповой кассетной химической обработки полупроводниковых пластин кремния в смеси Каро (H2SO4+H2O2) для удаления различных органических примесей или загрязнений с последующей промывкой в деионизованной воде
- Пластины: ø50 мм, ø76 мм, ø100 мм
- Режим работы: автономно или в составе технохимической линии
- Количество ванн: фторопластовые (для обработки в химреактивах) – 1 шт., стоп-ванна полипропиленовая – 1 шт., промывочные полипропиленовые (для отмывки в деиони-зованной воде) – 2 шт.
- Комплектность фторопластовой ванны: нагреватель химреактивов – 1,0 кВт (через разделительный понижающий трансформатор); эжектором (для откачки химических реагентов из объема ванны); откидывающаяся крышка на специальных кронштейнах; микропроцессорный измеритель-регулятор типа «Овен» ТРМ1 (контроль, поддержание и регулировка температуры рабочей среды по заданным параметрам), время технологического процесса контролируется с помощью таймера обратного отсчета
- Варианты заполнения ванны химреактивами: вручную из цеховой тары или с помощью насосов (предусмотрены специальные фторопластовые патрубки)
- Промывка пластин в «стоп-ванне» – многократное быстрое наполнение и сброс воды. Наполнение – через патрубок на дне ванны и форсунки рассеивателя вдоль передней и задней стенок ванны. Задание режимов (время, количество циклов сброса-наполнения) – на блоке управления «стоп-ванной». Расход воды выставляется вентилем, контролируется ротаметром. Комплектуется крышкой
- 1-я ванна для финишной промывки в деионизованной воде с барботированием газообразным азотом (подается через форсунки на дне ванны); 2-я – с крышкой и азотной завесой. Подача и регулировка азота – ротаметром расхода азота. Расход воды регулируется вентилем, контролируется ротаметром. Контроль качества отмывки пластин в деионизованной воде (по удельному электрическому сопротивлению) производится двухканальным кондуктометром «Сириус-2» АВПА.466452.001РЭ (второй канал – для организации рецикла). Слив отработанной деионизованной воды – отдельно от «стоп – ванны» для организации повторного использования воды
- Производительность одной ванны: пластины ø100 мм (в 2-х кассетах) – 50 шт.
- Рабочий регулируемый диапазон температуры реагентов во фторопластовой ванне: (25÷160) °C
- Точность поддержания температуры реагентов в регулируемом диапазоне: ±2 °C
- Время нагрева реагентов от 20 °C до 160 °C: ≤60 мин
- Дискретность задания температуры реагента: 0,1°С
- Диапазон времени (дискретность регулировки:1 с) операций во фторопластовых ваннах: 1с ÷ 99 мин 59 с
- Диапазон длительности (дискретность задания:1с) технологических циклов в «Стоп-ванне»: от 1 до 99 с
- Количество циклов заполнения-слива: 1÷9
- Система двойной очистки воздуха, подаваемого в установку с дискретной регулировкой скорости ламинарного потока: предварительная очистка – фильтр ФяГ, окончательная – фильтр ФяС
- Откидные шторки из прозрачного оргстекла
- Электронные системы установки размещены на задней части корпуса
- Сжатый воздух: не ниже 12-го класса (ГОСТ17433-80), (0,7 ±0,05) МПа, ≥10 м3/ч
- Азот газообразный: 1-го класса чистоты (ОСТ11 050.003-83), (0.2 ±0.05) МПа
- Деионизованная вода: марка А (ОСТ 11 029 003-80), (0,25 ±0,05) МПа, ≥1,0 м3/ч
- Питьевая вода: не ниже 10-го класса (ГОСТ 17216-71), (0,3 ±0,05) МПа, ≥0,8 м3/ч
- Вытяжная кислотная вентиляция: ≥ 1500 м3/ч
- Электроэнергия: 380В ±10%, 3ф, 50Гц ±2,5%, 2 кВт
- Габаритные размеры: 1260 x 1220 x 2010 мм
- Вес: 350 кг
- Опционно: изменение конфигурации
КС-03 Установка травления полупроводниковых пластин
- Применение: для групповой кассетной химической обработки полупроводниковых пластин в различных невзрывоопасных реагентах с последующей промывкой в теплой и холодной деионизованной воде
- Пластины: ø50 мм, ø76 мм, ø100 мм, ø150 мм или 150х150 мм
- Режим работы: автономно или в составе технохимической линии
- Количество полипропиленовых ванн – 4 шт. (ванна №1 с нагревателем – для химичес-кого травления пластин; ванна №2 – для быстрой промывки пластин в воде от реагента; ванны №3, 4 – для промывки пластин в деионизованной воде с барботированием)
- Параметры ванны №1: размер – 735х535х390 мм (300 до отверстий вытяжной венти-ляции); рабочий регулируемый диапазон температуры реагентов – (30÷85)°C, дискретность задания температуры реагента: 0,1°С; точность поддержания температуры реагентов в регулируемом диапазоне – ±2 °С, время нагрева реагента от 20 °C до 85 °C (или 110 литров воды от температуры 20±5 °C до 85 °C) – ≤60 мин; диапазон времени (дискретность задания: 1 мин) технологических операций в ванне травления – (1÷99)мин; нагреватель – 12 кВт, микропроцессорный измеритель–регулятор типа Овен» ТРМ1 (контроль и регулировка по заданным параметрам); ванны №2: размер ванны –540х250х270 мм (250 от решетки, закрепленной на дне ванны); ванны №3,4: размер – 690х250х270 мм (250 от решетки), контроль качества отмывки пластин в деионизован-ной воде (по удельному электрическому сопротивлению) производится микропроцессорным двухканальным кондуктометром «Сириус-2» (АВПА.466452.001РЭ), расход деионизованной воды в ваннах финишной отмывки регулируется соответствующим ротаметром в диапазоне 100-1200 л/ч; возможность барботирования газообразным осушенным азотом; отдельный слив отработанной деионизованной воды для организации повторного использования воды
- Загрузка: ванны №1 – кассет с пластинами 150х150 мм — 6 штук (600 пластин, загрузка по две пластины в паз), кассет с пластинами 125х125 мм – 8 штук; ванны №2 – 2 кассеты с пластинами; ванны №3,4 – 3 кассеты с пластинами
- Микропроцессорный таймер обратного отсчёта индицирует время до окончания процесса.
- Два пневматических цилиндра для дискретных перемещений специального поддона в ванне 1 в вертикальной плоскости для перемешивания раствора и встряхивания пластин
- Электронные системы установки размещены на задней части корпуса
- Сжатый воздух: не ниже 12-го класса (ГОСТ17433-80), (0, 7±0,05) МПа, ≥10 м3/ч
- Азот газообразный: 1 класса чистоты, точка росы «-65»°С (ОСТ11 050.003-83), (0.25 ±0.05) МПа, ≥1 м3/ч
- Деионизованная вода: марка А (ОСТ 11 029 003-80), (0,25 ±0,05) МПа, ≥1,0 м3/ч
- Питьевая вода: не ниже 10-го класса (ГОСТ 17216-71), (0,3 ±0,05) МПа, ≥0,8 м3/ч
- Вытяжная кислотная вентиляция: ≥ 1500 м3/ч
- Электроэнергия: 380В ±10%, 3ф, 50Гц ±2,5%
- Габаритные размеры: 1670 x 1000 x 1800 мм
- Вес: 300 кг
- Опционно: изменение конфигурации
КС-03.1 Установка травления полупроводниковых пластин
- Применение: для групповой кассетной химической обработки полупроводниковых пластин в различных невзрывоопасных реагентах с последующей промывкой в теплой и холодной деионизованной воде
- Пластины: до ø156 мм
- Режим работы: автономно или в составе технохимической линии
- Количество полипропиленовых ванн: 3 шт. (ванна №1 с нагревателями – для химического травления пластин; ванна №2 – для быстрой промывки пластин в воде от реагента; ванна №3 – для промывки пластин в деионизованной воде с барботирова-нием)
- Параметры ванны №1: размер – 725х620х360 мм (280 до отверстий вытяжной венти-ляции) – 125 л; рабочий регулируемый диапазон температуры реагентов – (30÷85)°C, дискретность задания температуры реагента: 0,1°С; точность поддержания температуры реагентов в регулируемом диапазоне – ±2 °С, время нагрева реагента от 20°C до 85°C (или 110 литров воды от температуры 20 ±5 °C до 85 °C) – ≤60 мин; диапазон времени (дискретность задания: 1мин) технологических операций в ванне травления – (1÷99) мин; нагреватели – 3 х 4 кВт, микропроцессорный измеритель-регулятор типа Овен» ТРМ1 (контроль и регулировка по заданным параметрам), откидная крышка; ванны №2: размер ванны – 290х620х270 мм (200 от решетки, закрепленной на дне ванны, до слива), возможность подачи подогретой деионизованной воды от внешнего проточного нагревателя; ванны №3: однокаскадная, размер – 725х620х270 мм (200 от решетки), расход деионизованной воды в ванне финишной отмывки регулируется соответствующим ротаметром в диапазоне 100-1200 л/ч; диапазон задания времени (с дискретностью задания: 1 с) процесса промывки – до 99 мин 59 с, возможность барботи-рования газообразным осушенным азотом; отдельный слив отработанной деионизованной воды для организации повторного использования воды
- Загрузка: ванны №1 – кассет с пластинами 150х150 мм – 6 штук (600 пластин, загрузка по две пластины в паз), кассет с пластинами 125х125 мм – 8 штук; ванны №2 – 2 кассеты с пластинами; ванна №3 – 6 кассет с пластинами
- Микропроцессорный таймер обратного отсчёта индицирует время до окончания процесса.
- Два пневматических цилиндра для дискретных перемещений специального поддона в ванне 1 в вертикальной плоскости для перемешивания раствора и встряхивания пластин
- Электронные системы установки размещены на задней части корпуса
- Сжатый воздух: не ниже 12-го класса (ГОСТ17433-80), (0,7 ±0,05) МПа, ≥10 м3/ч
- Азот газообразный: 1-го класса чистоты, точка росы «-65»°С (ОСТ11 050.003-83), (0.25 ±0.05) МПа, ≥1 м3/ч
- Деионизованная вода: марка А (ОСТ 11 029 003-80), (0,25 ±0,05) МПа, ≥1,0 м3/ч
- Вытяжная кислотная вентиляция: ≥ 1500 м3/ч
- Электроэнергия: 380В ±10%, 3ф, 50Гц ±2,5%, 15 кВт
- Габаритные размеры: 2000 x 1060 x 1880 мм
- Вес: 400 кг
- Опционно: изменение конфигурации
КС-03.1 — Установка текстурирования полупроводниковых кремниевых пластин
- Применение: для групповой кассетной химической обработки полупроводниковых пластин в различных невзрывоопасных реагентах с последующей промывкой в теплой и холодной деионизованной воде
- Пластины: до ø156 мм
- Режим работы: автономно или в составе технохимической линии
- Количество полипропиленовых ванн: 5 шт. (ванна №1 с нагревателем – для химической обработки пластин и охлаждаемой металлической крышкой; ванна №2 без нагревателя – для химической обработки пластин; ванна №3 – для быстрой промывки пластин в воде от реагента; ванны №4, 5 – однокаскадные, для промывки пластин в деионизованной воде с барботированием)
- Параметры ванны №1: размер – 725х620х360 мм (280 до отверстий вытяжной вентиляции) – 125 л.; рабочий регулируемый диапазон температуры реагентов – (30÷90)°C, дискретность задания температуры реагента: 0,1°С; точность поддержания температуры реагентов в регулируемом диапазоне – ±2 °С, время нагрева реагента от 20°C до 85°C (или 110 литров воды от температуры 20 ±5°C до 85°C) – ≤60 мин; диапазон времени (дискретность задания: 1мин) технологических операций в ванне травления – (1÷99) мин; нагреватели – 3 х 4 кВт, терморегулятор типа ТРМ10А-Щ2.ТС.К КУВФ.920380.01ПС (контроль и регулировка по заданным параметрам); ванны №2: – объем 15 л.; ванны №3: размер – 290х620х270 мм (200 от решетки, закрепленной на дне ванны), с проточным внешним водонагревателем; ванны №4,5: размер – 725х620х270 мм (200 от решетки до слива), расход деионизованной воды в ваннах финишной отмывки регулируется соответствующим ротаметром в диапазоне 100-1200 л/ч; возможность барботирования газообразным осушенным азотом; отдельный слив отработанной деионизованной воды для организации повторного использования воды
- Загрузка: ванны №1 – кассет с пластинами 125х125 мм – 12 штук; ванны №2 – 2 кассеты с пластинами 125х125 мм; ванна №3 – 2 кассеты с пластинами; ванны №4,5 – 6 кассет с пластинами
- Микропроцессорный таймер обратного отсчёта индицирует время до окончания процесса
- Два пневматических цилиндра для дискретных перемещений специального поддона в ванне 1 в вертикальной плоскости для перемешивания раствора и встряхивания пластин, управление от таймера-программатора FS-4
- Электронные системы установки размещены на задней части корпуса
- Сжатый воздух: не ниже 12-го класса (ГОСТ17433-80), (0,7 ±0,05) МПа, ≥10 м3/ч
- Азот газообразный: 1-го класса чистоты, точка росы «-65»°С (ОСТ11 050.003-83), (0.25 ±0.05) МПа, ≥1 м3/ч
- Деионизованная вода: марка А (ОСТ 11 029 003-80), (0,25 ±0,05) МПа, ≥1,0 м3/ч
- Питьевая вода: не ниже 10-го класса (ГОСТ 17216-71), (0,3 ±0,05) МПа
- Вытяжная кислотная вентиляция: ≥ 1500 м3/ч
- Электроэнергия: 380В ±10%, 3ф, 50Гц ±2,5%, 12 кВт
- Габаритные размеры: 2000 x 1060 x 1880 мм
- Вес: 400 кг
- Опционно: изменение конфигурации
КС-03.7 Установка травления полупроводниковых пластин
- Применение: для групповой кассетной химической обработки полупроводниковых пластин в различных невзрывоопасных реагентах с последующей промывкой в теплой и холодной деионизованной воде
- Пластины: до ø156 мм или до 156х156 мм
- Режим работы: автономно или в составе технохимической линии
- Количество полипропиленовых ванн: 3 шт. (ванна №1 с нагревателями – для химического травления пластин с нагревом; ванна №2 – для химической обработки пластин без нагрева; ванна №3 – трехкаскадная, для промывки пластин в деионизованной воде с барботированием)
- Параметры ванны №1: размер – 610х420х270 мм – 70л; рабочий регулируемый диапазон температуры реагентов – (30÷85)°C, дискретность задания температуры реагента: 0,1°С; точность поддержания температуры реагентов в регулируемом диапазоне – ±2°С, время нагрева реагента от 20°C до 85°C (или 70 литров воды от температуры 20 ±5°C до 85 °C) – ≤60 мин; диапазон времени (дискретность задания: 1мин) технологических операций в ванне травления – (1÷99) мин; от 10 до 90 циклов обработки с дискретностью задания 10 циклов; нагреватели через разделительные понижающие трансформаторы – 3 х 2 кВт; микропроцессорный измеритель-регулятор типа Овен» ТРМ1 (контроль и регулировка по заданным параметрам), откидная крышка; ванны №2: размер ванны-440х420х270 мм – 50 л, откидная крышка; ванны №3: трехкаскадная, расход деионизованной воды в ванне устанавливается вручную вентилем и контролируется ротаметром в диапазоне 100-1200 л/ч; диапазон задания времени (с дискретностью задания: 1 с) процесса промывки – до 99 мин 59 с, возможность барботирования газообразным осушенным азотом второго и третьего каскадов ванны
- Загрузка: ванны №1 – кассет с пластинами 156х156 мм – 2 штуки, кассет с пластинами 125х125 мм – 4 штуки; ванны №2 – 1 кассета с пластинами 156х156 мм или 2 кассеты с пластинами 125х125 мм
- Микропроцессорный таймер обратного отсчёта индицирует время до окончания процесса.
- Электронные системы размещены в верхнем отсеке установки
- Азот газообразный: 1-го класса чистоты, точка росы «-65»°С (ОСТ11 050.003-83), (0.25 ±0.05) МПа, ≥1 м3/ч
- Деионизованная вода: марка А (ОСТ 11 029 003-80), (0,25±0,05) МПа, ≥1,0м3/ч
- Вытяжная кислотная вентиляция: ≥ 1500 м3/ч
- Электроэнергия: 380В ±10%, 3ф, 50Гц ±2,5%
- Габаритные размеры: 1950 x 1000 x 1900 мм
- Вес: 400 кг
- Опционно: изменение конфигурации
КС-17.2 Установка жидкостной химической обработки пластин в органических реагентах
- Применение: для групповой химической обработки и травления полупроводниковых пластин в различных невзрывоопасных реагентах с последующей промывкой в холодной деионизованной воде
- Пластины: ø50 мм, ø76 мм, ø100 мм
- Режим работы: автономно или в составе технохимической линии
- Обработка пластин: в разогретых реагентах в малом объеме установленной на нагреватель кварцевой емкости
- Количество нагреваемых плит (электроконфорок) – 2 шт.
- Мощность нагревательной плиты – 1кВт
- Рабочий регулируемый диапазон температуры плиты – (25÷250)°C
- Дискретность задания температуры плиты: 0,1°С
- Точность поддержания температуры плиты в регулируемом диапазоне – ±2°С
- Терморегулятор типа «Овен» ТРМ1А-Щ2.ТП.С. для задания и контроля температуры каждой плиты
- Диапазон задания длительности технологических операций (дискретность регулировки : 1с) на каждой плите: от 1с до 99 мин 59 с
- Количество ванн: полипропиленовая (для отмывки в деионизованной воде) – 1 шт.
- Подача воды: через рассеиватель над ванной
- Время технологического процесса контролируется с помощью таймера обратного отсчета
- Столешница и боковая облицовка из нержавеющей стали
- Система двойной очистки воздуха, подаваемого в установку с дискретной регулировкой скорости ламинарного потока: предварительная очистка – фильтр ФяГ, окончательная – фильтр ФяС
- Откидной защитный экран из прозрачного оргстекла
- Электронные системы установки размещены в верхнем отсеке
- Сжатый воздух: не ниже 12-го класса (ГОСТ17433-80), (0,7 ±0,05) МПа, ≥10 м3/ч
- Деионизованная вода: марка А (ОСТ 11 029 003-80), (0,25 ±0,05) МПа, ≥1,0 м3/ч
- Вытяжная вентиляция: ≥ 1500 м3/ч
- Электроэнергия: 220В ±10%, 1ф, 50Гц ±2,5%, 2,5 кВт
- Габаритные размеры: 1260 x 870 x 2100 мм
- Вес: 350 кг
- Опционно: изменение конфигурации
КС-17.3 Установка жидкостной химической обработки пластин
- Применение: для групповой химической обработки и травления полупроводниковых пластин в различных невзрывоопасных реагентах с последующей промывкой в холодной деионизованной воде
- Пластины: ø50 мм, ø76 мм, ø100 мм
- Режим работы: автономно или в составе технохимической линии
- Обработка пластин: в разогретых реагентах в малом объеме установленной на нагреватель кварцевой емкости
- Количество нагреваемых плит (электроконфорок) – 2 шт.
- Мощность нагревательной плиты – 1кВт
- Рабочий регулируемый диапазон температуры плиты – (25÷250)°C
- Дискретность задания температуры плиты: 0,1°С
- Точность поддержания температуры плиты в регулируемом диапазоне – ±2°С
- Терморегулятор типа «Овен» ТРМ1А-Щ2.ТП.С. для задания и контроля температуры каждой плиты
- Диапазон задания длительности технологических операций (дискретность регулировки –1с) на каждой плите: от 1с до 99 мин 59 с
- Количество ванн: полипропиленовая (для отмывки в деионизованной воде) – 1 шт.
- Подача воды: через рассеиватель над ванной
- Время технологического процесса контролируется с помощью таймера обратного отсчета
- Столешница – фторопластовая плита
- Система двойной очистки воздуха, подаваемого в установку с дискретной регулировкой скорости ламинарного потока: предварительная очистка – фильтр ФяГ, окончательная – фильтр ФяС
- Откидные шторки из прозрачного оргстекла
- Электронные системы установки размещены в верхнем отсеке
- Сжатый воздух: не ниже 12-го класса (ГОСТ17433-80), (0,7 ±0,05) МПа, ≥10 м3/ч
- Деионизованная вода: марка А (ОСТ 11 029 003-80), (0,25 ±0,05) МПа, ≥1,0 м3/ч
- Вытяжная вентиляция: ≥ 1500 м3/ч
- Электроэнергия: 220В ±10%, 1ф, 50Гц ±2,5%, 2,5 кВт
- Габаритные размеры: 1260 x 870 x 2100 мм
- Вес: 300 кг
- Опционно: изменение конфигурации
КС-21 Установка химической обработки и травления полупроводниковых пластин
- Применение: для групповой кассетной химической обработки полупроводниковых пластин в различных невзрывоопасных реагентах с последующей промывкой в теплой и холодной деионизованной воде
- Пластины: ø50 мм, ø76 мм, ø100 мм
- Режим работы: автономно или в составе технохимической линии
- Количество ванн: фторопластовые для обработки в химреактивах – 3 шт., полипропиленовые 2х-каскадные (в первом каскаде вода подается снизу – в этой зоне возможна подача азота газообразного для барботирования) для отмывки в деионизованной воде – 2 шт.
- Внутренние размеры фторопластовых ванн (зависят от заказа): для пластин ø(50÷100) мм – 190 х 235 х 170 мм
- Комплектность фторопластовой ванны: нагреватель химреактивов – 220В на 1кВт через разделительный понижающий трансформатор; водяной эжектор (для откачки реагентов из объема ванны); терморегулятор типа «Овен» ТРМ1А-Щ2.ТС.С. КУВФ.920380.01ПС. (контроль и регулировка температуры по заданным параметрам); крышка ванны
- Микропроцессорный таймер обратного отсчёта (индицирует время до окончания технологического процесса)
- Расход деионизованной воды в ваннах финишной отмывки выставляется вентилем и контролируется с помощью ротаметра
- Производительность одной ванны: пластины ø(50÷76) мм (в 2-х кассетах) – 50 шт.
- Рабочий регулируемый диапазон температуры реагентов во фторопластовой ванне: (30÷100)°C
- Дискретность задания температуры реагента: 0,1°С
- Точность поддержания температуры реагентов в регулируемом диапазоне: ±2°C
- Время нагрева реагентов от 20 °C до 100 °C: ≤60 мин
- Диапазон времени (дискретность регулировки: 1с) операций во фторопластовых ваннах: 1с ÷ 99 мин 59 с
- Комплектуется блоком обеспыливания воздуха с фильтром ФяГ с возможностью дискретной регулировки скорости ламинарного потока. Рабочая зона закрывается откидными шторками из прозрачного оргстекла
- Электронные системы установки размещены на задней части корпуса
- Сжатый воздух: не ниже 12-го класса (ГОСТ17433-80), (0,7 ±0,05) МПа, ≥10 м3/ч
- Азот газообразный: 1-го класса чистоты, точка росы «-65»°С (ОСТ11 050.003-83), (0,25 ±0,05) МПа, ≥1 м3/ч
- Деионизованная вода: марка А (ОСТ 11 029 003-80), (0,25 ±0,05) МПа, ≥1,0 м3/ч
- Питьевая вода: не ниже 10-го класса (ГОСТ 17216-71), (0,3 ±0,05) МПа, ≥0,8 м3/ч
- Вытяжная кислотная вентиляция: ≥ 1500 м3/ч
- Электроэнергия: 380В ±10%, 3ф, 50Гц ±2,5%, 3,5 кВт
- Габаритные размеры: 1880 x 1000 x 2010 мм
- Вес: 300 кг
- Опционно: изменение конфигурации
КС-24 Установка жидкостной химической обработки и травления пластин
- Применение: для групповой кассетной химической обработки и травления полупроводниковых кремниевых пластин в различных невзрывоопасных реагентах с последующей промывкой в холодной деионизованной воде
- Пластины: ø50 мм, ø76 мм, ø100 мм
- Режим работы: автономно или в составе технохимической линии
- Наличие электроплитки для обработки пластин в разогретых реагентах в малом объеме кварцевой емкости: измеряемый диапазон температуры плиты (ø145 мм) электроплитки – (25÷250)°C, дискретность задания: 0,1°C, точность поддержания – ±5 °C
- Время технологического процесса задается и контролируется с помощью таймера обратного отсчета
- Температура нагревательного элемента поддерживается и контролируется с помощью терморегулятора «Овен» ТРМ1
- Количество ванн: фторопластовые (для обработки в химреактивах) – 2 шт. (1-я – без нагревателя, 2-я – с нагревателем), душевая стоп-ванна полипропиленовая – 1 шт.
- Комплектность фторопластовой ванны: объем – 6 л; нагреватель химреактивов для 2-ой ванны – 1,0 кВт (через разделительный понижающий трансформатор); водяной эжектор (для откачки химических реагентов из объема ванны); откидывающаяся крышка; терморегулятор типа «Овен» ТРМ1 (контроль, поддержание и регулировка температуры рабочей среды по заданным параметрам), время технологического процесса контролируется с помощью таймера обратного отсчета
- Промывка пластин в «стоп-ванне»: объем – 6 л; многократное быстрое наполнение и сброс воды. Наполнение – через патрубок на дне ванны и форсунки рассеивателя вдоль передней и задней стенок ванны. Задание режимов (время, количество циклов сброса – наполнения) – на блоке управления «стоп-ванной». Расход воды выставляется вентилем, контролируется ротаметром. Комплектуется крышкой
- Производительность одной ванны: пластины ø(50÷76) мм (в 1-й кассете) – 25 шт.
- Рабочий регулируемый диапазон температуры реагентов во фторопластовой ванне: (25÷120)°C
- Точность поддержания температуры реагентов в регулируемом диапазоне: ±2 °C
- Дискретность задания температуры реагента: 0,1°С
- Диапазон времени (дискретность регулировки – 1с) операций во фторопластовых ваннах: 1с ÷ 99мин.59с
- Диапазон длительности (дискретность задания – 1с) технологических циклов в «Стоп-ванне»: (1÷99) с
- Количество циклов заполнения-слива: 1÷9
- Система двойной очистки воздуха, подаваемого в установку с дискретной регулировкой скорости ламинарного потока: предварительная очистка – фильтр ФяГ, окончательная – фильтр ФяС
- Откидные шторки из прозрачного оргстекла
- Защитный фартук – из нержавеющей стали
- Электронные системы установки размещены на задней части корпуса
- Сжатый воздух: не ниже 12-го класса (ГОСТ17433-80), (0,7 ±0,05) МПа, ≥10 м3/ч
- Деионизованная вода: марка А (ОСТ 11 029 003-80), (0,25 ±0,05) МПа, ≥1,0 м3/ч
- Питьевая вода: не ниже 10-го класса (ГОСТ 17216-71), (0,3 ±0,05) МПа, ≥0,8 м3/ч
- Вытяжная кислотная вентиляция: ≥ 1500 м3/ч
- Электроэнергия: 380В ±10%, 3ф, 50Гц ±2,5%, 2,5 кВт
- Габаритные размеры: 1280 x 900 x 2050 мм
- Вес: 400 кг
- Опционно: изменение конфигурации
КС-25 Установка жидкостной химической обработки и травления пластин
- Применение: для групповой кассетной химической обработки и травления полупроводниковых кремниевых пластин в различных невзрывоопасных реагентах с последующей промывкой в холодной деионизованной воде
- Пластины: ø50 мм, ø76 мм, ø100 мм
- Режим работы: автономно или в составе технохимической линии
- Количество электроплиток: 2 шт.
- Назначение электроплиток: для обработки пластин в разогретых реагентах в малом объеме кварцевой емкости: мощность электроплитки – 1кВт, измеряемый диапазон температуры плиты (ø145 мм) электроплитки – (25÷250)°C, дискретность задания: 0,1°C, точность поддержания – ±5 °C
- Время технологического процесса задается и контролируется с помощью таймера обратного отсчета.
- Температура нагревательного элемента каждой плиты поддерживается и контролируется с помощью терморегулятора «Овен» ТРМ1
- Количество ванн: душевая стоп-ванна полипропиленовая – 1 шт.; ванна для финишной промывки пластин полипропиленовая – 1 шт.
- Промывка пластин в «стоп-ванне»: объем – 6 л; многократное быстрое наполнение и сброс воды. Наполнение – через патрубок на дне ванны и форсунки рассеивателя вдоль передней и задней стенок ванны. Задание режимов (время, количество циклов сброса — наполнения) – на блоке управления «стоп-ванной». Расход воды выставляется вентилем, контролируется ротаметром. Комплектуется крышкой
- Однокаскадная ванна для финишной промывки: объем – 6 л. Расход воды выставляется вентилем, контролируется ротаметром. Датчики кондуктометра «Сириус-2» АВПА.466452.001РЭ – в линиях подачи и слива воды для сравнения показателей удельного сопротивления чистой и отработанной воды
- Производительность одной ванны: пластины ø(50÷76) мм (в 1-й кассете) – 25 шт.
- Диапазон времени (дискретность регулировки: 1с) технологического процесса химической обработки: 1с ÷ 99 мин 59 с
- Диапазон длительности (дискретность задания: 1с) технологических циклов в «Стоп-ванне»: (1÷99) с
- Количество циклов заполнения-слива: 1÷9
- Система двойной очистки воздуха, подаваемого в установку с дискретной регулировкой скорости ламинарного потока: предварительная очистка – фильтр ФяГ, окончательная – фильтр ФяС
- Откидные шторки из прозрачного оргстекла
- Защитный фартук – из нержавеющей стали
- Электронные системы установки размещены на задней части корпуса
- Сжатый воздух: не ниже 12-го класса (ГОСТ17433-80), (0,7 ±0,05) МПа, ≥10 м3/ч
- Деионизованная вода: марка А (ОСТ 11 029 003-80), (0,25 ±0,05) МПа, ≥1,0 м3/ч
- Вытяжная кислотная вентиляция: ≥ 1500 м3/ч
- Электроэнергия: 380В ±10%, 3ф, 50Гц ±2,5%, 2,5 кВт
- Габаритные размеры: 1280 x 900 x 2000 мм
- Вес: 350 кг
- Опционно: изменение конфигурации
КС-28 Установка жидкостной химической обработки пластин в органических растворителях
- Применение: для групповой кассетной химической обработки пластин в органических невзрывоопасных реагентах с последующей промывкой в холодной деионизованной воде
- Пластины: 48×60 мм
- Режим работы: автономно или в составе технохимической линии
- Количество ванн: из нержавеющей стали (для обработки в химреактивах) – 2 шт., промывочная полипропиленовая ванна – 1 шт.
- Комплектность ванны из нержавеющей стали: внутренние размеры (в зависимости от заказа) – 180х70х135 мм; крышка из нержавеющей стали; время технологического процесса и подсчет количества проведенных технологических циклов контролируется с помощью таймера обратного отсчета
- Промывка пластин в промывочной ванне: расход воды выставляется вентилем, контролируется ротаметром
- Диапазон времени (дискретность регулировки: 1с) операций в ваннах из нержавеющей стали: 1с ÷ 99 мин 59 с
- Откидные шторки из прозрачного оргстекла
- Зоны возможного контакта с органическими растворителями и короб вытяжной вентиляции – из листовой нержавеющей стали
- Электронные системы установки размещены на задней части корпуса
- Сжатый воздух: не ниже 12-го класса (ГОСТ17433-80), (0,7 ±0,05) МПа
- Деионизованная вода: марка А (ОСТ 11 029 003-80), (0,25 ±0,05) МПа, ≥1,0 м3/ч
- Вытяжная кислотная вентиляция: ≥ 1500 м3/ч
- Электроэнергия: 220В ±10%, 3ф, 50Гц ±2,5%, 0,3 кВт
- Габаритные размеры: 1240 x 860 x 1800 мм
- Вес: 130 кг
- Опционно: изменение конфигурации
КС-32 Установка жидкостной химической обработки пластин
- Применение: для групповой кассетной химической обработки и травления полупроводниковых пластин в различных невзрывоопасных реагентах с последующей промывкой в теплой и холодной деионизованной воде
- Пластины: ø50 мм, ø76 мм, ø100 мм
- Режим работы: автономно или в составе технохимической линии
- Количество ванн: фторопластовые (для обработки в химреактивах) – 1 шт., полипропиленовая ванна (для промывки в горячей проточной воде) – 1 шт.; душевая полипропиленовая стоп-ванна – 1 шт., однокаскадные полипропиленовые ванны (для финишной промывки в деионизованной воде) – 2 шт.
- Комплектность фторопластовой ванны: объем – 6 л; нагреватель химреактивов – 1,0 кВт (через разделительный понижающий трансформатор); эжектор (для откачки химических реагентов из объема ванны); крышка на ванну; терморегулятор типа «Овен» ТРМ1 (контроль, поддержание и регулировка температуры рабочей среды по заданным параметрам), время технологического процесса контролируется с помощью таймера обратного отсчета
- Комплектность полипропиленовой ванны для промывки в горячей проточной воде: устанавливаемый сзади установки проточный нагреватель-регулятор
- Промывка пластин в душевой «стоп-ванне» – многократное быстрое наполнение и сброс воды. Наполнение – через патрубок на дне ванны и форсунки рассеивателя вдоль передней и задней стенок ванны. Время технологического цикла отмывки задается и контролируется с помощью таймера обратного отсчета. Расход воды выставляется вентилем, контролируется ротаметром. Комплектуется крышкой
- Однокаскадная ванна для финишной промывки в деионизованной воде с крышкой и азотной завесой. Подача и регулировка азота – ротаметром расхода азота. Расход воды регулируется вентилем, контролируется ротаметром. Контроль качества отмывки пластин в деионизованной воде (по удельному электрическому сопротивлению) производится двухканальным кондуктометром «Сириус-2» АВПА.466452.001РЭ (второй канал – для организации рецикла). Слив отработанной деионизованной воды – отдельно от «стоп-ванны» для организации повторного использования воды
- Производительность одной ванны: пластины ø100 мм (в 2-х кассетах) – 50 шт.
- Рабочий регулируемый диапазон температуры реагентов во фторопластовой ванне: (20÷150)°C
- Точность поддержания температуры реагентов в регулируемом диапазоне: ±2 °C
- Время нагрева реагентов от 20 °C до 150 °C: ≤60 мин
- Дискретность задания температуры реагента: 0,1°С
- Диапазон времени (дискретность регулировки: 1с) операций во фторопластовых ваннах: 1с ÷ 99 мин 59 с
- Диапазон длительности (дискретность задания: 1с) технологических циклов в «Стоп-ванне»: от 1 до 99 с
- Количество циклов заполнения-слива: 1÷9
- Система двойной очистки воздуха, подаваемого в установку с дискретной регулировкой скорости ламинарного потока: предварительная очистка — фильтр ФяГ, окончательная — фильтр ФяС
- Откидные шторки из прозрачного оргстекла
- Электронные системы установки размещены в коробе на передней части корпуса
- Сжатый воздух: не ниже 12-го класса (ГОСТ17433-80), (0,5 ±0,1) МПа
- Азот газообразный: 1 класса чистоты (ОСТ11 050.003-83), (0.2 ±0.05) МПа
- Деионизованная вода: марка А (ОСТ 11 029 003-80), (0,25 ±0,05) МПа, ≥1,0 м3/ч
- Питьевая вода: не ниже 10-го класса (ГОСТ 17216-71), (0,3 ±0,05) МПа, ≥0,8 м3/ч
- Вытяжная кислотная вентиляция: ≥ 1500 м3/ч
- Электроэнергия: 380В ±10%, 3ф, 50Гц ±2,5%, 1,5 кВт
- Габаритные размеры: 1880 x 1300 x 2050 мм
- Вес: 350 кг
- Опционно: изменение конфигурации
КС-33 Установка жидкостной химической обработки пластин
- Применение: для групповой кассетной химической обработки и травления полупроводниковых пластин в различных невзрывоопасных реагентах с последующей промывкой в теплой и холодной деионизованной воде
- Пластины: ø50 мм, ø76 мм, ø100 мм
- Режим работы: автономно или в составе технохимической линии
- Количество ванн: фторопластовые (для обработки в химреактивах) – 4 шт., полипропиленовая стоп-ванна – 1 шт., промывочная полипропиленовая ванна (для финишной промывки в деионизованной воде) – 1 шт.
- Комплектность фторопластовой ванны: объем – 6 л; эжектор (для откачки химических реагентов из объема ванны); крышка на ванну; время технологического процесса контролируется с помощью таймера обратного отсчета
- Промывка пластин в душевой «стоп-ванне» – многократное быстрое наполнение и сброс воды. Наполнение — через патрубок на дне ванны и форсунки рассеивателя вдоль передней и задней стенок ванны. Задание режимов отмывки в «стоп-ванне» (время, количество циклов сброса-наполнения) – блоком управления «стоп-ванной». Комплектуется крышкой
- Ванна для финишной промывки в деионизованной воде с крышкой и азотной завесой. Расход воды регулируется вентилем, контролируется ротаметром. Контроль качества отмывки пластин в деионизованной воде (по удельному электрическому сопротивлению) производится двухканальным кондуктометром «Сириус-2» АВПА.466452.001РЭ (второй канал – для организации рецикла). Слив отработанной деионизованной воды – отдельно от «стоп-ванны» для организации повторного использования воды
- Производительность одной ванны: пластины ø100 мм (в 2-х кассетах) – 50 шт.
- Диапазон времени (дискретность регулировки: 1с) операций во фторопластовых ваннах: 1с ÷ 99 мин 59 с
- Диапазон длительности (дискретность задания: 1с) технологических циклов в «Стоп-ванне»: от 1 до 99 с
- Количество циклов заполнения-слива: 1÷9
- Система двойной очистки воздуха, подаваемого в установку с дискретной регулировкой скорости ламинарного потока: предварительная очистка – фильтр ФяГ, окончательная – фильтр ФяС
- Откидные шторки из прозрачного оргстекла
- Электронные системы установки размещены в коробе на передней части корпуса
- Сжатый воздух: не ниже 12-го класса (ГОСТ17433-80), (0,5 ±0,1) МПа
- Азот газообразный: 1-го класса чистоты (ОСТ11 050.003-83), (0.2 ±0.05) МПа
- Деионизованная вода: марка А (ОСТ 11 029 003-80), (0,25 ±0,05) МПа, ≥1,0 м3/ч
- Питьевая вода: не ниже 10-го класса (ГОСТ 17216-71), (0,3 ±0,05) МПа, ≥0,8 м3/ч
- Вытяжная кислотная вентиляция: ≥ 1500 м3/ч
- Электроэнергия: 220В ±10%, 1ф, 50Гц ±2,5%, 0,5 кВт
- Габаритные размеры: 1880 x 1300 x 2050 мм
- Вес: 350 кг
- Опционно: изменение конфигурации
КС-01(Г) Установка химической очистки пластин (гальваника)
- Применение: для групповой электрохимической обработки пластин в различных невзрывоопасных реагентах с последующей промывкой в холодной деионизованной воде
- Пластины: ø50 мм, ø76 мм, ø100 мм и ø150 мм
- Режим работы: автономно или в составе технохимической линии
- Количество полипропиленовых ванн: для обработки в соляной кислоте (объем 2,5 л) – 1 шт., для сбора электролита (объем по 2,5 л) – 2 шт., для промывки в деионизованной воде (объем по 2,2 л) – 3 шт.; для электрохимической обработки пластин в невзрывоопасных реагентах (объем по 12 л; возможность установки нагревателей 1кВт, 24В, датчиков контроля температуры) – 2 шт.
- Комплектность ванны электрохимической обработки: нагреватель химреактивов мощностью 1 кВт (от понижающего разделительного трансформатора); датчик контроля температуры реагента
- Контроллер установки обеспечивает автоматический режим процесса нанесения гальванического покрытия. Параметры (время, температура, плотность тока, площадь и т.д.) задаются с пленочной клавиатуры и отображаются на жидкокристаллическом и светодиодных дисплеях
- Расход деионизованной воды в ваннах отмывки регулируется вентилем
- Рабочий регулируемый диапазон температуры реагентов в ванне электрохимической обработки пластин: до 70°C. Дискретность задания температуры реагента: 1°С. Точность поддержания температуры реагентов в регулируемом диапазоне: ±3 °C
- Источник тока и управляющий контроллер: 1шт. (работает попеременно с первой или второй электрохимической ванной). Технологические параметры задаются раздельно для каждой гальванической ванны
- Режимы обработки пластин в электрохимической ванне: 1 – постоянного тока, 2 –реверсивный (чередуются импульсы положительной и отрицательной полярности)
- Длительность импульсов положительной и отрицательной полярности: (10÷60000) мс. Дискретность задания длительности импульсов – 10 мс
- Диапазон задания плотности тока: (0,001÷0.2) мА/мм2. Дискретность задания плотности тока – 0,001 мА/мм2.
- Диапазон задания площади обрабатываемых пластин: (1÷60000) мм2. Дискретность задания площади – 1 мм2.
- Рабочий диапазон амплитуды тока: (20÷9990) мА. Дискретность задания – 10 мА.
- Диапазон времени (дискретность регулировки: 1с) операций в электрохимической ванне: 1с ÷ 99 мин 59 с
- Фильтровальные станции для очистки реагента для каждой электрохимической ванны
- Механизм с пневматическим цилиндром для перемешивания электролита и удаления пузырьков газа с поверхности изделия (регулируемое перемещение оснастки в вертикальной плоскости)
- Система двойной очистки воздуха, подаваемого в установку с дискретной регулировкой скорости ламинарного потока: предварительная очистка – фильтр ФяГ, окончательная – фильтр ФяС
- Откидные шторки из прозрачного оргстекла
- Ручной душик
- Электроника размещена в верхнем отсеке корпуса и на откидной передней панели
- Сжатый воздух: не ниже 12-го класса (ГОСТ17433-80), (0,7 ±0,05) МПа, ≥10 м3/ч
- Деионизованная вода: марка А (ОСТ 11 029 003-80), (0,25 ±0,05) МПа, ≥1,0 м3/ч
- Вытяжная кислотная вентиляция: ≥ 1500 м3/ч
- Электроэнергия: 380В ±10%, 3ф, 50Гц ±2,5%, 3 кВт
- Габаритные размеры: 1880 x 1000 x 2100 мм
- Вес: 250 кг
- Опционно: изготовление установки другой конфигурации
КСГ1 Установка гальваническая
- Применение: для гальванической обработки подложек в невзрывоопасных реагентах с последующей промывкой в холодной деионизованной воде
- Подложки: до 48 x 60 мм
- Загрузка: до 4 шт
- Режим работы: автономно или в составе линии нанесения гальванических покрытий
- Количество полипропиленовых ванн: для операции декапирования (объем по 4 л) – 3 шт., для промывки в деионизованной воде (объем по 4,7 л) – 3 шт.; ванны для гальванической обработки подложек в невзрывоопасных реагентах (объем по 12 л; возможность установки нагревателей 1кВт, 24В, датчиков контроля температуры реагента) – 2 шт.
- Контроллер установки обеспечивает автоматический режим процесса нанесения гальванического покрытия. Параметры (время, температура, плотность тока, площадь и т.д.) задаются с пленочной клавиатуры и отображаются на жидкокристаллическом и светодиодных дисплеях
- Расход деионизованной воды в ваннах отмывки регулируется вентилем и контролируется по ротаметру
- Рабочий регулируемый диапазон температуры электролита в гальванической ванне: до 70°C. Дискретность задания температуры реагента: 1°С. Точность поддержания температуры реагентов в регулируемом диапазоне: ±2 °C
- Одновременная, независимая работа двух гальванических ванн
- Режимы обработки пластин в гальванической ванне: 1 – постоянного тока, 2 –реверсивный (чередуются импульсы положительной и отрицательной полярности)
- Длительность импульсов положительной и отрицательной полярности: (10÷60000) мс. Дискретность задания длительности импульсов – 10 мс
- Диапазон задания плотности тока: (0,001÷0.2) мА/мм2. Дискретность задания плотности тока – 0,001 мА/мм2
- Диапазон задания площади обрабатываемых пластин: (1÷60000) мм2. Дискретность задания площади: 1 мм2
- Рабочий диапазон амплитуды тока: (1÷2999) мА. Дискретность задания – 1 мА
- Диапазон времени (дискретность регулировки: 1с) операций в гальванической ванне: 1с ÷ 99 мин 59 с
- Время технологического процесса в ваннах декапирования и промывочных – по таймеру обратного отсчета; световая сигнализация окончания процесса
- Фильтровальные станции для очистки реагента для каждой электрохимической ванны
- Система очистки воздуха, подаваемого в установку с дискретной регулировкой скорости ламинарного потока: фильтр ФяС
- Откидные шторки из прозрачного оргстекла
- Ручной душ на гибком шланге
- Электроника размещена в верхнем отсеке корпуса и на откидной передней панели
- Азот газообразный: 1-го класса чистоты (ОСТ11 050.003-83), (0.2 ±0.05) МПа
- Деионизованная вода: марка А (ОСТ 11 029 003-80), (0,25 ±0,05) МПа, ≥1,0 м3/ч
- Питьевая вода: не ниже 10-го класса (ГОСТ 17216-71), (0,3 ±0,05)МПа, ≥0,8м3/ч
- Вытяжная кислотная вентиляция: ≥ 1500 м3/ч
- Электроэнергия: 380В ±10%, 3ф, 50Гц ±2,5%, 3 кВт
- Габаритные размеры: 1880 x 1000 x 2035 мм
- Вес: 250 кг
- Опционно: изготовление установки другой конфигурации
КСГ2 Установка гальваническая
- Применение: для гальванической обработки подложек в невзрывоопасных реагентах с последующей промывкой в холодной деионизованной воде
- Подложки: до 48 x 60 мм
- Загрузка: до 4 шт.
- Режим работы: автономно или в составе линии нанесения гальванических покрытий
- Количество полипропиленовых ванн: технологические, для операции декапирования (объем по 4 л) – 2 шт., для промывки в деионизованной воде (объем по 4,7 л) – 2 шт.; ванны для гальванической обработки подложек в невзрывоопасных реагентах (объем по 6 л; возможность установки нагревателей 1кВт, 24В, датчиков контроля температуры) – 2 шт.
- Контроллер установки обеспечивает автоматический режим процесса нанесения гальванического покрытия. Параметры (время, температура, плотность тока, площадь и т.д.) задаются с пленочной клавиатуры и отображаются на жидкокристаллическом и светодиодных дисплеях.
- Расход деионизованной воды в ваннах отмывки регулируется вентилем и контролируется по ротаметру на каждой промывочной ванне
- Рабочий регулируемый диапазон температуры электролита в гальванической ванне: до 70°C. Дискретность задания температуры реагента: 1°С. Точность поддержания температуры реагентов в регулируемом диапазоне: ±2 °C
- Одновременная, независимая работа двух гальванических ванн
- Режимы обработки пластин в гальванической ванне: 1 – постоянного тока, 2 –реверсивный (чередуются импульсы положительной и отрицательной полярности).
- Длительность импульсов положительной и отрицательной полярности: (10÷60000) мс. Дискретность задания длительности импульсов – 1мс.
- Диапазон задания плотности тока: (0,001÷0.2) мА/мм2. Дискретность задания плотности тока – 0,001 мА/мм2
- Диапазон задания площади обрабатываемых пластин: (1÷60000) мм2. Дискретность задания площади – 1 мм2
- Рабочий диапазон амплитуды тока: (1÷2999) мА. Дискретность задания – 1 мА
- Диапазон времени (дискретность регулировки: 1с) операций в гальванической ванне: 1с ÷ 99 мин 59 с
- Время технологического процесса в ваннах декапирования и промывочных – по таймеру обратного отсчета; световая сигнализация окончания процесса
- Фильтровальные станции для очистки реагента для каждой гальванической ванны
- Модуль центрифуги для сушки обрабатываемых пластин. Скорость вращения регулируется дискретно. Время задается и контролируется таймером FS-4.3. Возможность ручной остановки вращения
- Система очистки воздуха, подаваемого в установку с дискретной регулировкой скорости ламинарного потока: фильтр ФяС
- Откидные шторки из прозрачного оргстекла
- Ручной душ на гибком шланге
- Электроника размещена в верхнем отсеке корпуса и на откидной передней панели
- Азот газообразный: 1-го класса чистоты (ОСТ11 050.003-83), (0.2 ±0.05) МПа
- Деионизованная вода: марка А (ОСТ 11 029 003-80), (0,25 ±0,05) МПа, ≥1,0 м3/ч
- Вытяжная кислотная вентиляция: ≥ 1500 м3/ч
- Электроэнергия: 380В ±10%, 3ф, 50Гц ±2,5%, 3 кВт
- Габаритные размеры: 1880 x 1000 x 2035 мм
- Вес: 250 кг
- Опционно: изготовление установки другой конфигурации
Двухсекционная установка гальванического осаждения
- Установка гальванической обработки пластин
- Применение: для кассетной гальванической обработки пластин в различных невзрывоопасных реагентах с последующей промывкой в холодной деионизованной воде
- Пластины: ø50 мм, ø76 мм, ø100 мм
- Режим работы: автономно или в составе технохимической линии
- Количество полипропиленовых ванн: для промывки в деионизованной воде (объем по 2,2 л) – 2 шт.; для нанесения гальванических покрытий (объем по 12 л; возможность установки нагревателей 1кВт, 24В, датчиков контроля температуры) – 2 шт.
- Контроллер установки обеспечивает автоматический режим процесса нанесения гальванического покрытия. Параметры (время, температура, плотность тока, площадь и т.д.) задаются с пленочной клавиатуры и отображаются на жидкокристаллическом и светодиодных дисплеях
- Расход деионизованной воды в ваннах отмывки регулируется вентилем
- Рабочий регулируемый диапазон температуры реагентов в ванне гальванической обработки пластин: до 70 °C. Дискретность задания температуры реагента: 1°С. Точность поддержания температуры реагентов в регулируемом диапазоне: ±2 °C
- Источник тока и управляющий контроллер: 1шт. (работает попеременно с первой или второй электрохимической ванной). Технологические параметры задаются раздельно для каждой гальванической ванны
- Режимы обработки пластин в электрохимической ванне: 1 – постоянного тока, 2 –реверсивный (чередуются импульсы положительной и отрицательной полярности)
- Длительность импульсов положительной и отрицательной полярности: (1÷60000)мс. Дискретность задания длительности импульсов – 1мс
- Диапазон задания плотности тока: (0,001÷0.2) мА/мм2. Дискретность задания плотности тока – 0,001 мА/мм2
- Диапазон задания площади обрабатываемых пластин: (1÷60000) мм2. Дискретность задания площади: 1 мм2
- Рабочий диапазон амплитуды тока: (1÷2999) мА. Дискретность задания: 1 мА
- Диапазон времени (дискретность регулировки: 1с) операций в электрохимической ванне: 1с ÷ 99 мин 59 с
- Механизм с пневматическим цилиндром для перемешивания электролита и удаления пузырьков газа с поверхности изделия (регулируемое перемещение оснастки в вертикальной плоскости)
- Система очистки воздуха, подаваемого в установку с дискретной регулировкой скорости ламинарного потока: фильтр ФяС
- Откидные шторки из прозрачного оргстекла
- Электроника размещена в верхнем отсеке корпуса и на откидной передней панели
- Сжатый воздух: не ниже 12-го класса (ГОСТ17433-80), (0,7 ±0,05) МПа, ≥10 м3/ч
- Деионизованная вода: марка А (ОСТ 11 029 003-80), (0,25 ±0,05) МПа, ≥1,0 м3/ч
- Вытяжная кислотная вентиляция: ≥ 1500 м3/ч
- Электроэнергия: 380В ±10%, 3ф, 50Гц ±2,5%, 3 кВт
- Габаритные размеры: 1280 x 1000 x 2035 мм
- Вес: 250 кг
- Опционно: изготовление установки другой конфигурации
Трехсекционная установка гальванического осаждения
- Установка гальванической обработки пластин
- Применение: для кассетной гальванической обработки пластин в различных невзрывоопасных реагентах с последующей промывкой в холодной деионизованной воде
- Пластины: ø50 мм, ø76 мм, ø100 мм
- Режим работы: автономно или в составе технохимической линии
- Количество ванн: фторопластовые для нанесения гальванических покрытий (объем по 12 л; возможность установки нагревателей 1кВт, 24В, датчиков контроля температуры) – 2 шт., полипропиленовые для промывки в деионизованной воде (объем по 2,2 л) – 3 шт., полипропиленовая ванна декапирования (объем 2,5 л) – 1 шт.
- Контроллер установки обеспечивает автоматический режим процесса нанесения гальванического покрытия. Параметры (время, температура, плотность тока, площадь и т.д.) задаются с пленочной клавиатуры и отображаются на жидкокристаллическом и светодиодных дисплеях.
- Расход деионизованной воды в ваннах отмывки регулируется вентилем
- Рабочий регулируемый диапазон температуры реагентов в ванне гальванической обработки пластин: до 70 °C. Дискретность задания температуры реагента: 1°С. Точность поддержания температуры реагентов в регулируемом диапазоне: ±2 °C
- Источник тока и управляющий контроллер: 1шт. (работает попеременно с первой или второй электрохимической ванной). Технологические параметры задаются раздельно для каждой гальванической ванны.
- Режимы обработки пластин в гальванической ванне: 1 – постоянного тока, 2 –реверсивный (чередуются импульсы положительной и отрицательной полярности).
- Длительность импульсов положительной и отрицательной полярности: (1÷60000) мс. Дискретность задания длительности импульсов: 1мс
- Диапазон задания плотности тока: (0,001÷0.2) мА/мм2. Дискретность задания плотности тока: 0,001 мА/мм2
- Диапазон задания площади обрабатываемых пластин: (1÷60000) мм2. Дискретность задания площади: 1 мм2
- Рабочий диапазон амплитуды тока: (1÷2999) мА. Дискретность задания: 1 мА
- Диапазон времени (дискретность регулировки: 1с) операций в гальванической ванне: 1с ÷ 99 мин 59 с
- Электромеханическая мешалка электролита: рабочие детали – из фторопласта; герметично закрытые кожухом двигатель с редуктором – на полипропиленовом основании, двигатель запитан через разделительный понижающий трансформатор и заземлен
- Модуль центрифуги для сушки обрабатываемых пластин. Скорость вращения регулируется дискретно (6 положений). Время задается и контролируется таймером FS-4.3. Возможность ручной остановки вращения
- Система очистки воздуха, подаваемого в установку с дискретной регулировкой скорости ламинарного потока: фильтр ФяС
- Откидные шторки из прозрачного оргстекла
- Электроника размещена в верхнем отсеке корпуса и на откидной передней панели
- Сжатый воздух: не ниже 12-го класса (ГОСТ17433-80), (0,7 ±0,05) МПа, ≥10 м3/ч
- Деионизованная вода: марка А (ОСТ 11 029 003-80), (0,25 ±0,05) МПа, ≥1,0 м3/ч
- Вытяжная кислотная вентиляция: ≥ 1500 м3/ч
- Электроэнергия: 380В ±10%, 3ф, 50Гц ±2,5%, 3 кВт
- Габаритные размеры: 1880 x 1000 x 2035 мм
- Вес: 250 кг
- Опционно: изготовление установки другой конфигурации
Установки получения проявителя и травителя
- Установка получения безметального проявителя и селективного травителя
- Применение: для получения безметального проявителя и селективного травителя, применяемых в производстве интегральных микросхем с нанометровыми топологическими нормами
- Состав установок: модуль для приготовления раствора с накопительным баком; модуль для тары с исходным сырьем (два модуля для установки приготовления селективного травителя); модуль для тары для готового продукта
- Состав модулей: полипропиленовый корпус на регулируемых опорах; герметичные поддоны для сбора пролитой жидкости; прозрачные дверцы с перчаточными портами и фильтрами для воздуха из окружающей атмосферы; водяные пистолеты для подачи деионизованной воды; датчики разряжения воздуха внутри модуля. Модули для тары с исходным сырьем и модуль для тары для готового продукта оборудованы роликами для загрузки тары (200 литровая бочка). Модули приготовления раствора установок получения безметального проявителя и селективного травителя оснащены специальной, продуваемой азотом камерой для отбора проб жидкостей.
- Электронные блоки модулей герметично защищены и находятся в атмосфере чистого осушенного воздуха
- Режим работы: полуавтоматический – ввод объемов реактивов и корректирующих порций для получения готовых продуктов выполняет оператор с пульта управления на основании текущих данных
- Прибор для измерения электропроводности типа Lignilina CM44x для оценки концентрации химиката в готовом растворе
- Микронасос для подачи ПАВ
- Подача сверхчистого азота для азотной подушки над поверхностью рабочих жидкостей
- Точность концентрации готового продукта – 0,0005 моль/литр, содержание примесей элементов – ≤1 ppb при температуре окружающего воздуха (20÷25) °C
- Специальный дозатор для NH4F
- Производительность установок: до 600 л/смену
- Точность дозирования деионизованной воды: ≤10 мл
- Точность дозирования ТМАГ, NH4F, HF: ≤1мл (при минимальном объеме дозы – 10 мл)
- Точность дозирования ПАВ: ≤0,15 мкл (при минимальном объеме дозы – 0,15 мкл)
- Габаритные размеры: модуль для приготовления раствора – 2000 x 800 x 2000 мм; модуль для готового продукта и модуль для тары с исходным сырьем – 950 x 800 x 2000 мм
- Опционно: изготовление установки другой конфигурации
Линия выращивания золото-никелевых контактов
- Применение: для формирования столбиковых микровыводов на основе химического никеля и иммерсионного золота
- Стадии формирования контактов: обезжиривание, активирование (травление), цинкатная обработка, химическое никелирование, иммерсионное осаждение золота
- Состав линии выращивания золото-никелевых контактов: установка травления; установки цинкатной обработки; установка химического никелирования; установка иммерсионного золочения; ламинарные обеспыленные боксы; установка отмывки и сушки пластин ротационным способом; шкафы хранения химических реактивов (в техзоне) с мембранными химически стойкими пневматическими насосами
- Пластины: до ø200 мм
- Обработка: в кассетах
- Ламинарный поток обеспыленного воздуха в рабочей зоне
- Режим заполнения ванн: ручной или автоматический
- Автоматическое поддержание уровня реагента в ваннах с защитой от переполнения реагентом в случае возникновения аварийной ситуации
- Низковольтные нагреватели во фторопластовой оболочке для ванн химического осаждения никеля и золота
- ПИД регуляторы для поддержания необходимой температуры реагента
- Непрерывная рециркуляция и фильтрация реагента во всех ваннах, кроме ванн травления, для однородности состава и температуры раствора во всем объеме ванны
- Измерители pH раствора и насосы-дозаторы подачи корректирующих растворов для ванн химического осаждения никеля и золота
- Душевые стоп-ванны для промывки (многократное наполнение-сброс деионизованной воды) пластин после химической обработки
- Финишная отмывка и сушка полупроводниковых пластин в установке отмывки и сушки пластин ротационным способом
- Опционно: изготовление установки другой конфигурации
Установка обработки в кислотах (травление) линии выращивания золото-никелевых контактов
- Установка обработки в кислотах (травление)
- Применение: для групповой кассетной химической обработки полупроводниковых пластин в различных невзрывоопасных реагентах с последующей промывкой в деионизованной воде
- Работает совместно со шкафом для хранения и дозированной подачи кислоты (HNO3) и раствора для цинкатной обработки
- Пластины: до ø200 мм
- Режим работы: автономно или в составе линии выращивания золото-никелевых контактов
- Количество ванн: фторопластовая (с крышкой) для обработки в химреактивах – 1 шт., полипропиленовая душевая стоп-ванна (с крышкой) для отмывки в деионизованной воде – 1 шт.
- Внутренние размеры: фторопластовой ванны – 340 х 325 х 552 мм, объем реагента, заливаемого до рабочего уровня (370) мм – 41 л; полипропиленовой душевой стоп-ванны – 260 х 260 х 500 мм, объем деионизованной воды до уровня перелива – 18 л
- Производительность ванны: пластины до ø200 мм (в 1-й кассете) – 25 шт.
- Диапазон времени (дискретность регулировки: 1с) операций во фторопластовой ванне: 1с ÷ 99 мин 59 с
- Длительность процесса контролируется таймером ФС-1.1
- Диапазон длительности (дискретность задания: 1с) технологических циклов в «Стоп-ванне»: от 1 до 99 с
- Количество циклов заполнения-слива: 1÷9
- Технологические параметры процесса отмывки (время слива/наполнения ванны, количество циклов слив/наполнение) задаются и контролируются таймером ФС-2
- Комплектуется блоком обеспыливания воздуха с фильтром ФяС
- Сжатый воздух: не ниже 12-го класса (ГОСТ17433-80), (0,6 ±0,01) МПа, ≥1,2 м3/ч
- Деионизованная вода: марка А (ОСТ 11 029 003-80), (0,25 ±0,05) МПа, ≥1,0 м3/ч
- Вытяжная кислотная вентиляция: ≥ 800 м3/ч
- Электроэнергия: 220В ±10%, 1ф, 50Гц ±2,5%, 0,6 кВт
- Габаритные размеры: 1280 x 1000 x 2050 мм
- Вес: 250 кг
Установка цинкатной обработки тип 1 линии выращивания золото-никелевых контактов
- Установка цинкатной обработки тип 1
- Применение: для групповой кассетной химической обработки полупроводниковых пластин в различных невзрывоопасных реагентах с последующей промывкой в деионизованной воде
- Работает совместно со шкафом для хранения и дозированной подачи кислоты (HNO3) и раствора для цинкатной обработки
- Пластины: до ø200 мм
- Режим работы: автономно или в составе линии выращивания золото-никелевых контактов
- Количество ванн: фторопластовая (с крышкой) для обработки в химреактивах – 2 шт., полипропиленовая душевая стоп-ванна (с крышкой) для отмывки в деионизованной воде – 1 шт.
- Внутренние размеры: фторопластовой ванны – 340 х 325 х 552 мм, объем реагента, заливаемого до рабочего уровня (370) мм – 41 л; полипропиленовой душевой стоп-ванны – 260 х 260 х 500 мм, объем деионизованной воды до уровня перелива – 18 л
- Производительность ванны: пластины до ø200 мм (в 1-й кассете) – 25 шт.
- Контроль и индикация технологических параметров, система поддержания уровня реагентов индивидуальны для каждой фторопластовой ванны
- Фильтровальная установка МС15-51794 для рециркуляции реагента в ванне для цинкатной обработки с его фильтрацией
- Измеритель-регулятор ТРМ1-Щ2.У.С для контроля температуры в ванне
- Диапазон времени (дискретность регулировки: 1с) операций во фторопластовой ванне: 1с ÷ 99 мин 59 с
- Длительность процесса контролируется таймером ФС-1.1
- Диапазон длительности (дискретность задания: 1с) технологических циклов в «Стоп-ванне»: от 1 до 99 с
- Количество циклов заполнения-слива: 1÷9
- Технологические параметры процесса отмывки (время слива/наполнения ванны, количество циклов слив/наполнение) задаются и контролируются таймером ФС-2
- Комплектуется блоком обеспыливания воздуха с фильтром ФяС
- Сжатый воздух: не ниже 12-го класса (ГОСТ17433-80), (0,6 ±0,01) МПа, ≥1,2 м3/ч
- Деионизованная вода: марка А (ОСТ 11 029 003-80), (0,25 ±0,05) МПа, ≥1,0 м3/ч
- Вытяжная кислотная вентиляция: ≥ 800 м3/ч
- Электроэнергия: 220В ±10%, 1ф, 50Гц ±2,5%, 0,6 кВт
- Габаритные размеры: 1880 x 1000 x 2050 мм
- Вес: 350 кг
Установка цинкатной обработки тип 2 линии выращивания золото-никелевых контактов
- Установка цинкатной обработки тип 2
- Применение: для групповой кассетной химической обработки полупроводниковых пластин в различных невзрывоопасных реагентах с последующей промывкой в деионизованной воде
- Работает совместно со шкафом для хранения и дозированной подачи кислоты (HNO3) и раствора для цинкатной обработки
- Пластины: до ø200 мм
- Режим работы: автономно или в составе линии выращивания золото-никелевых контактов
- Количество ванн: фторопластовая (с крышкой) для обработки в химреактивах – 1 шт., полипропиленовая душевая стоп-ванна (с крышкой) для отмывки в деионизованной воде – 2 шт.
- Внутренние размеры: фторопластовой ванны – 340 х 325 х 552 мм, объем реагента, заливаемого до рабочего уровня (370) мм – 41л; полипропиленовой душевой стоп-ванны – 260 х 260 х 500 мм, объем деионизованной воды до уровня перелива – 18 л
Показать больше- Производительность ванны: пластины до ø200 мм (в 1-й кассете) – 25 шт.
- Фильтровальная установка МС15-51794 для рециркуляции реагента в ванне для цинкатной обработки с его фильтрацией
- Измеритель-регулятор ТРМ1-Щ2.У.С для контроля температуры в ванне
- Диапазон времени (дискретность регулировки: 1с) операций во фторопластовой ванне: 1с ÷ 99 мин 59 с
- Длительность процесса контролируется таймером ФС-1.1
- Диапазон длительности (дискретность задания: 1с) технологических циклов в «Стоп-ванне»: от 1 до 99 с
- Количество циклов заполнения-слива: 1÷9
- Технологические параметры процесса отмывки (время слива/наполнения ванны, количество циклов слив/наполнение) задаются и контролируются таймером ФС-2
- Комплектуется блоком обеспыливания воздуха с фильтром ФяС
- Сжатый воздух: не ниже 12-го класса (ГОСТ17433-80), (0,6 ±0,01) МПа, ≥1,2 м3/ч
- Деионизованная вода: марка А (ОСТ 11 029 003-80), (0,25 ±0,05) МПа, ≥2,0 м3/ч
- Вытяжная кислотная вентиляция: ≥ 800 м3/ч
- Электроэнергия: 220В ±10%, 1ф, 50Гц ±2,5%, 0,6 кВт
- Габаритные размеры: 1880 x 1000 x 2050 мм
- Вес: 350 кг
Установка химического никелирования линии выращивания золото-никелевых контактов
- Установка химического никелирования
- Применение: для групповой кассетной химической обработки полупроводниковых пластин в различных невзрывоопасных реагентах с последующей промывкой в деионизованной воде
- Работает совместно со шкафом для хранения и дозированной подачи кислоты раствора для химического никелирования
- Пластины: до ø200 мм
- Режим работы: автономно или в составе линии выращивания золото-никелевых контактов
- Количество ванн: фторопластовая (с крышкой) для обработки в химреактивах – 2 шт., полипропиленовая душевая стоп-ванна (с крышкой) для отмывки в деионизованной воде – 2 шт.
- Комплектность ванны химического никелирования: три нагревателя химреактивов мощностью по 1 кВт (от понижающего разделительного трансформатора); датчик контроля температуры реагента
- Измеритель-регулятор ТРМ210-Щ2.КР для контроля и поддержания температуры в ванне с точностью ±1°С
- Максимальная допустимая температура в фторопластовой ванне: 100 °C
- Внутренние размеры: фторопластовой ванны – 340 х 325 х 552 мм, объем реагента, заливаемого до рабочего уровня (370) мм – 41 л; полипропиленовой душевой стоп-ванны – 260 х 260 х 500 мм, объем деионизованной воды до уровня перелива – 18 л
- Производительность ванны: пластины до ø200 мм (в 1-й кассете) – 25 шт.
- Контроль и индикация технологических параметров, система поддержания уровня реагентов индивидуальны для каждой фторопластовой ванны
- Время нагрева реагентов от 20 °C до 90 °C: ≤80 мин
- Фильтровальная установка МС15-52460 для рециркуляции реагента в ванне для химического никелирования с его фильтрацией (1 мкм)
- Мультипараметрический трансмиттер М300 с датчиками pH InPro4501VP для фторопластовых ванн
- Диапазон времени (дискретность регулировки: 1с) операций во фторопластовой ванне: 1с ÷ 9 ч 59 мин 59 с
- Длительность процесса контролируется таймером ФС-1.1М
- Диапазон длительности (дискретность задания: 1с) технологических циклов в «Стоп-ванне»: от 1 до 99 с
- Количество циклов заполнения-слива: 1÷9
- Технологические параметры процесса отмывки (время слива/наполнения ванны, количество циклов слив/наполнение) задаются и контролируются таймером ФС-2
- Комплектуется блоком обеспыливания воздуха с фильтром ФяС
- Сжатый воздух: не ниже 12-го класса (ГОСТ17433-80), (0,6 ±0,01) МПа, ≥1,2 м3/ч
- Деионизованная вода: марка А (ОСТ 11 029 003-80), (0,25 ±0,05) МПа, ≥2,0 м3/ч
- Вытяжная кислотная вентиляция: ≥ 800 м3/ч
- Электроэнергия: 380В ±10%, 3ф, 50Гц ±2,5%, 8 кВт
- Габаритные размеры: 1880 x 1000 x 2050 мм
- Вес: 450 кг
Установка химического золочения линии выращивания золото-никелевых контактов
- Установка химического золочения
- Применение: для групповой кассетной химической обработки полупроводниковых пластин в различных невзрывоопасных реагентах с последующей промывкой в деионизованной воде
- Работает совместно со шкафом для хранения и дозированной подачи кислоты раствора для химического золочения
- Пластины: до ø200 мм
- Режим работы: автономно или в составе линии выращивания золото-никелевых контактов
- Количество ванн: фторопластовая (с крышкой) для обработки в химреактивах – 1 шт., полипропиленовая ванна улавливания (с крышкой) для отмывки в деионизованной воде – 2 шт.
- Комплектность ванны химического золочения: три нагревателя химреактивов мощностью по 1 кВт (от понижающего разделительного трансформатора); датчик контроля температуры реагента
- Измеритель-регулятор ТРМ210-Щ2.КР для контроля и поддержания температуры в ванне с точностью ±1°С
- Максимальная допустимая температура во фторопластовой ванне: 100 °C
- Внутренние размеры: фторопластовой ванны – 340 х 325 х 552 мм, объем реагента, заливаемого до рабочего уровня (370) мм – 41л; полипропиленовой ванны улавливания – 260 х 260 х 500 мм, объем деионизованной воды до уровня перелива – 18 л
- Производительность ванны: пластины до ø200 мм (в 1-й кассете) – 25 шт.
- Время нагрева реагентов от 20 °C до 90 °C: ≤80 мин
- Фильтровальная установка МС15-52460 для рециркуляции реагента в ванне для химического золочения с его фильтрацией (1 мкм)
- Мультипараметрический трансмиттер М300 с датчиками pH InPro4501VP для фторопластовой ванны
- Слив из фторопластовой ванны: в кислотно-щелочную канализацию или в технологическую тару
- Диапазон времени (дискретность регулировки: 1с) операций во фторопластовой ванне: 1с ÷ 9 ч 59 мин 59 с
- Длительность процесса контролируется таймером ФС-1.1М
- Слив из ванн улавливания: в технологическую тару
- Комплектуется блоком обеспыливания воздуха с фильтром ФяС
- Сжатый воздух: не ниже 12-го класса (ГОСТ17433-80), (0,6 ±0,01) МПа, ≥12 м3/ч
- Деионизованная вода: марка А (ОСТ 11 029 003-80), (0,25 ±0,05) МПа, ≥0,5 м3/ч
- Вытяжная кислотная вентиляция: ≥ 800 м3/ч
- Электроэнергия: 380В ±10%, 3ф, 50Гц ±2,5%, 4 кВт
- Габаритные размеры: 1880 x 1000 x 2050 мм
- Вес: 350 кг
Лада-Рельеф
- Установка нанесения, проявления и сушки фоторезиста
- Применение: для нанесения (проявления) фоторезиста методом центрифугирования с последующей сушкой на кондуктивной плите
- Пластины: ø76 мм, ø100 мм, ø125 мм
- Режим работы: автоматический
- Загрузка: кассетная
- Производительность кинематическая: ≥ 200 пл/ч
- Время непрерывной работы в автоматическом режиме: ≥16 ч
- Температура контактных нагревателей: (40÷250) ºC с точностью поддержания в диапазоне (40÷80) °C – ±3 ºC, в диапазоне (81÷250) ºC – ±1 ºC
- Время выхода установки на рабочий режим: ≤30 мин
- Максимальный диапазон задания времени технологических операций: (0,1÷99,9) с
- Диапазон задания времени технологических операций: ( 0,1÷99,9) с
- Частота вращения центрифуги: (500÷9999) мин-1 с дискретностью задания – 1-1
- Точность поддержания вращения центрифуги: в диапазоне (500÷1990) мин-1 – ±20 мин-1; в диапазоне (2000÷9900) мин-1 – ±1 %
- Диапазон задания ускорения: (0÷50000) мин-1/с, дискретность задания ускорения –
1000 мин-1/с и точностью поддержания ускорения ±10 %
- Минимальное время выхода центрифуги на режим 9900 об/мин со столиком ø100 мм: ≤0,25 с
- Комплектуется установкой обеспыливания «Лада-2М М3.387.053»
- Управляющий контроллер с ЖК дисплеем и клавиатурой
- Азот газообразный: 1 сорт (ГОСТ9293-74), точка росы (-60) ºС, (0,2÷0,25) МПа, ≤0,001 м3/с
- Вакуум: ≤2,63×104 Па
- Вытяжная вентиляция: ≥ 0,14 м3/с
- Электроэнергия: 220 В, 1 ф, 50 Гц, 1,5 кВт
- Габаритные размеры на базе установки Лада – 125 с модулем сушки: 1840×630×1200 мм
- Вес: 330 кг
Презентации
Показать
Инженерное оборудование
Показать
Технологическое оборудование
Показать
- Carbolite Gero GmbH
- CRYSTAL Systems
- FCT SYSTEME
- Nabertherm
- SALE
- АО «Монокристалл»
- Гиредмет
- Главная
- ЗАВОД «КРИСТАЛЛ»
- Имплантация
- Лицензии
- О компании
- Оборудование
- Измерения
- Испытания
- ACUTRONIC
- AC105-AVAB
- AC1120S
- AC1125
- AC1180-AB
- AC1190-140
- AC150-AVAB
- AC216, AC217
- AC2246, AC2247, AC2267
- AC2255-RS
- AC2277
- AC2295-VA
- AC3337
- AC3347-140
- AC3347-210
- AC3347-TC
- AC3350-08, AC3350-140
- AC3350-140
- AC3351, AC3351-140
- AC3357, AC3360, AC3351, AC3351-140
- AC3360
- AC3367, AC3367-70, AC3367-TC
- AC3380, AC3380-TC
- AC8800
- GA3397
- HD33H-T45.60, HD33H-S50.77, HD33H-S55.77
- HD55H-S35.70, HD55H-T35-50, HD55H-S50.100, HD55H-T65.60, AC55H-S20.40
- simex®ONE
- АС8827
- Центрифуги
- CVMS Climatic
- CVMS Climatic камеры дождя — испытательные камеры
- CVMS Climatic камеры испытательные тепла-холода-влажности объемом от 100 до 1000 л.
- CVMS Climatic камеры озона — испытательные камеры
- CVMS Climatic настольные климатические камеры
- Камеры песка и пыли CVMS Climatic
- Камеры пониженного давления CVMS Climatic
- Камеры солнечного излучения CVMS Climatic
- Камеры соляного тумана CVMS Climatic
- Климатические камеры термоудара CVMS Climatic
- Sentek Dynamics
- Вибростенды E серии (экстрасильные 200 — 400 кН) с водяным охлаждением
- Вибростенды H серии (высокосильные 65 — 160 кН) с водяным охлаждением
- Вибростенды L серии (малосильные 1 — 10 кН) с воздушным охлаждением
- Вибростенды M серии (средне сильные 15- 65 кН) с воздушным охлаждением
- Вибростенды длинного хода T серии (30 — 54 кН) с воздушным охлаждением
- Высокопроизводительные вибростенды P серии с водяным охлаждением
- Модальные вибростенды MS серии
- Настольные вибростенды VT серии
- Трехосевые вибростенды MA серии с воздушным охлаждением
- Thermotron Industries
- Автоматизированные камеры для коррозионных испытаний ACT
- Камеры для испытаний на воздействие песка и пыли
- Камеры дождя
- Камеры имитации солнечного излучения
- Климатические камеры серии SE
- Климатические камеры экономичных серий S и SM
- Комбинированные климатические камеры серии AGREE
- Настольные климатические камеры серии S/SM
- Панельные и сварные климатические камеры серии WP
- Система тестирования сопротивления защитной изоляции PTS
- Системы непрерывного мониторинга PTS
- Термошоковые климатические камеры серии ATSS
- Электродинамические стенды Thermotron
- TIRA GmbH
- Вибрационные стенды TIRA с выталкивающим усилием от 1 кН до 2,7 кН
- Вибрационные стенды TIRA с выталкивающим усилием от 20 кН до 55 кН
- Вибрационные стенды TIRA с выталкивающим усилием от 4 кН до 15 кН
- Вибрационные стенды TIRA с выталкивающим усилием от 60 кН до 300 кН
- Вибрационные стенды TIRA с выталкивающим усилием т 9 Н до 400 Н
- ACUTRONIC
- Литография
- 4PICO Litho B.V.
- CRESTEC
- ELS System Technology Co., Ltd.
- ELS 106FA
- ELS 106FA-B
- ELS 106SA
- ELS 108FA
- ELS 108SA
- ELS 112SA
- ELS 3604FA, ELS 3606FA
- ELS 3608FA
- ELS 3612FA
- ELS 407FA
- ELS 450FA
- ELS 504FA, ELS 506FA, ELS 508FA
- ELS 504FA, ELS 506FA, ELS 508FA
- ELS 512FA
- ELS 604FA
- ELS 606FA
- ELS 706SA
- ELS 708SA
- ELS 712SA
- ELS 7604FA, ELS 7606FA
- ELS 7608FA
- ELS 7612FA
- ELS 807FA
- ELS 904FA, ELS 906FA
- ELS 908FA
- Heidelberg Instruments Mikrotechnik
- JEOL-LITO
- KLOE
- RAITH
- SMEE
- Ultratech Stepper Inc.
- VISTEC Electron Beam GmbH
- ОАО «КБТЭМ-ОМО»
- Плазмохимия
- Advanced Vacuum System
- APPLIED Materials
- Applied Materials AMAT Centris AdvantEdge Mesa Etch (FE-ICP)
- Applied Materials AMAT Centura (5200 / Ultima Plus) HDP CVD 200mm
- Applied Materials AMAT Centura (AP) Ultima X HDP-CVD
- Applied Materials AMAT Centura 5200 (II) Etch 200mm (ICP/RIE/DCP/MW)
- Applied Materials AMAT Centura AdvantEdge Mesa / G5 Etch (FE-ICP)
- Applied Materials AMAT Producer (Producer S) PECVD 200mm
- Applied Materials AMAT Producer Etch eXT (ICP)
- Applied Materials AMAT Producer GT (Avila TSV) PECVD
- Applied Materials AMAT Producer SE (APF) PECVD 300mm
- CORIAL
- Diener electronic GmbH+Co.KG
- Evatec AG
- FHR Anlagenbau
- FHR ALD 100
- FHR ALD 150
- FHR ALD 300
- FHR ALD 300
- FHR FLA 100
- FHR FLA 100-DL
- FHR FLA 200-A
- FHR MS120-FLA
- FHR-Star300BOX
- FHR.Boxx.400-PVD
- FHR.Flash.50-Module
- FHR.Micro.100-RIE
- FHR.Micro.150-DuoPVD
- FHR.Micro.150-MonoEVA
- FHR.Micro.150-PECVD
- FHR.Micro.160-FLA
- FHR.Micro.160-IBE-RIE
- FHR.Micro.200-ALD
- FHR.Micro.200-PVD
- FHR.Micro.300-Clean
- FHR.Star.300 (PVD)
- GNtech
- LAM Research
- Lam Research LAM 2300 Exelan FLEX / FLEX 45 (RIE/TCP)
- Lam Research LAM 2300 Syndion TSV (RIE/TCP)
- Lam Research LAM 2300 Versys Kiyo (RIE/TCP/MW)
- Lam Research LAM 2300 Versys Kiyo 45 (RIE/TCP/MW)
- Lam Research LAM 2300 Versys Metal (RIE/TCP/MW)
- Lam Research LAM 2300 Versys Poly / Star T (RIE/TCP/MW)
- Lam Research LAM Alliance A4 TCP 9400 DFM (ICP/CCP/MW)
- Lam Research LAM Alliance A6 9400 PTX (RIE/TCP)
- Lam Research LAM Alliance A6 9600 DFM (RIE/TCP/MW)
- Lam Research LAM Alliance A6 9600 PTX (RIE/TCP/MW)
- Lam Research LAM Alliance A6 Exelan HPT (RIE/TCP)
- Lam Research LAM Alliance A6 TCP 9400 DFM (RIE/TCP)
- Lam Research LAM TCP 9400 SE(RIE/TCP)
- Lam Research LAM VECTOR Express / Extreme (PECVD)
- MTI Corporation
- Nordson MARCH
- Oxford Instruments
- Nanofab 700 (800 Agile)
- PlasmaPro 100
- PlasmaPro 100 Cobra
- PlasmaPro 100 Estrelas
- PlasmaPro 100 ICPCVD
- PlasmaPro 100 PECVD
- PlasmaPro 100 Polaris
- PlasmaPro 100 RIE
- PlasmaPro 1000 Astrea
- PlasmaPro 1000 Stratum
- PlasmaPro 80 Cobra65 ICP
- PlasmaPro 80 ICPCVD
- PlasmaPro 80 PECVD
- PlasmaPro 80 RIE
- PlasmaPro 800 plus
- PlasmaPro NGP 80
- Plasma Etch
- PLASMA-THERM
- SAMCO
- SAMCO PC-1100(RIE/PE)
- SAMCO PC-300(RIE/PE)
- SAMCO PC-5000(PE)
- SAMCO PD-100ST (PECVD)
- SAMCO PD-2203L (PECVD)
- SAMCO PD-220LC (PECVD)
- SAMCO PD-220N, NA (PECVD)
- SAMCO PD-220NL (PECVD)
- SAMCO PD-270STL(PECVD)
- SAMCO PD-270STP (PECVD)
- SAMCO PD-330STLC(PECVD)
- SAMCO PD-3800 (PECVD)
- SAMCO PD-3800L (PECVD)
- SAMCO PD-4800 (PECVD)
- SAMCO PD-5400 (PECVD)
- SAMCO RIE-100iPC (ICP)
- SAMCO RIE-101iPH (ICP)
- SAMCO RIE-10iP (ICP)
- SAMCO RIE-10NR
- SAMCO RIE-1C
- SAMCO RIE-200C
- SAMCO RIE-200iP (ICP)
- SAMCO RIE-200LC
- SAMCO RIE-200NL
- SAMCO RIE-212IP (ICP)
- SAMCO RIE-230iPC (ICP)
- SAMCO RIE-300NR
- SAMCO RIE-330iPC (ICP)
- SAMCO RIE-400iP (ICP)
- SAMCO RIE-400iPB (ICP)
- SAMCO RIE-600iP (ICP)
- SAMCO RIE-600iPC (ICP)
- SAMCO RIE-800iPB (ICP)
- SAMCO RIE-800iPBC(ICP)
- SENTECH Instruments
- sidmel
- Tokyo Electron
- Trion Technology
- Trion Technology Apollo (ICP/MW/RIE)
- Trion Technology Gemini (ICP/MW/SST)
- Trion Technology Minilock-Orion III (PECVD)
- Trion Technology Minilock-Phantom III (RIE/RIE+ICP)
- Trion Technology Oracle III (RIE/RIE+ICP/PECVD)
- Trion Technology Orion III (PECVD)
- Trion Technology Phantom III (RIE/RIE+ICP)
- Trion Technology Sirus T2 Table Top (RIE)
- Trion Technology Titan (RIE/RIE+HDICP/PECVD)
- Trymax Semiconductor
- ULVAC Technologies
- Yield Engineering Systems
- АО «НИИТМ»
- ООО НПК «ТехМашСервис»
- СтратНаноТек Инвест
- Рост слитков
- ACCRETECH /TOKYO SEIMITSU CO/
- Carbolite Gero GmbH
- Centorr Vacuum Industries,Inc
- Engis Corporation
- ENGIS AMX Fine Grinder, ENGIS AMX Lapper, ENGIS AMX Polisher
- ENGIS Double Sided Grinding Machines
- ENGIS EHG180, ENGIS EHG250
- ENGIS Hyprez Composite Lapping Plates
- ENGIS Hyprez Diamond and Non-Diamond Lapping Slurries
- ENGIS Hyprez Diamond Compounds and Diamond Paste
- ENGIS Hyprez Electrogrip Diamond Plated & Dia-ForZ Products
- ENGIS Hyprez Family of Lapping Lubricants
- ENGIS Hyprez Micron and CBN Diamond Powders
- ENGIS Hyprez MiniMiser & Autostirrer
- ENGIS Hyprez Planarization & Polishing Pads
- FERROTEC
- Lapmaster Wolters GmbH
- LAPMASTER WOLTERS 3R-600, LAPMASTER WOLTERS 4R-1200 (single wheel machine)
- LAPMASTER WOLTERS AC 1500-P3, LAPMASTER WOLTERS AC 2000-P2
- LAPMASTER WOLTERS AC microLine 1000
- LAPMASTER WOLTERS AC microLine 1200
- LAPMASTER WOLTERS AC microLine 1500
- LAPMASTER WOLTERS AC microLine 2000
- LAPMASTER WOLTERS AC microLine 400
- LAPMASTER WOLTERS AC microLine 535
- LAPMASTER WOLTERS AC microLine 700
- LAPMASTER WOLTERS BD 300-L
- LAPMASTER WOLTERS DDG 450, LAPMASTER WOLTERS DDG 450 Closeup
- LAPMASTER WOLTERS DDG 600, LAPMASTER WOLTERS DDG 600 Closeup
- LAPMASTER WOLTERS MACRO
- LAPMASTER WOLTERS MACRO-I
- LAPMASTER WOLTERS MACRO-L
- LAPMASTER WOLTERS MACRO-S, LAPMASTER WOLTERS MACRO-SI
- LAPMASTER WOLTERS MACRO-SK
- Linton Crystal Technologies
- Meyer Burger Wafertec
- PVA TEPLA
- ООО «НПО «ГКМП»
- Термопроцессы
- AnnealSys
- ATV Technologie
- Centrotherm thermal solutions
- Centrotherm Activator 150-5 (50)
- Centrotherm CAV 150, Centrotherm CAV 200.
- Centrotherm CLV 200
- Centrotherm CMV 200, Centrotherm 300.
- Centrotherm E 1200
- Centrotherm E 1550
- Centrotherm E 2000
- Centrotherm Epicoo 200
- Centrotherm Oxidator 150-5,Centrotherm Oxidator 150-50
- Centrotherm RTP 150
- Centrotherm Single Tube
- FHR Anlagenbau
- gkmp32
- JIPELEC
- Kokusai Electric
- Kokusai Electric Advanced Ace-300
- Kokusai Electric DD-803V
- Kokusai Electric Lambda 300/300N
- Kokusai Electric Lambda Strip 3000 / 3000 II
- Kokusai Electric MARORA
- Kokusai Electric MG 8500R/8500ZS 200mm
- Kokusai Electric QUIXACE (QUIXACE-L/L) DD-1206V-DF 300 mm
- Kokusai Electric QUIXACE DJ-1206VN-DF (Aldinna)
- Kokusai Electric QUIXACE II ALD High-k 300 mm (ALD)
- Kokusai Electric Quixace II DD-1206V-DF NITRIDE 300 mm
- Kokusai Electric Quixace II DJ-1206VN-DF Doped Poly 300 mm
- Kokusai Electric TANDUO
- Kokusai Electric TSURUGI-C²
- Kokusai Electric Vertron III
- Kokusai Electric Vertron III DJ-803V
- Kokusai Electric VERTRON Revolution 200 mm
- Kokusai ElectricVertron DJ-803V
- Kokusai ElectricVertron III DD-803V
- SEMCO
- SVCS Process Innovation
- TEL
- TEMPRESS
- Thermco Systems
- TORR INTERNATIONAL SERVICES LLC
- Tystar
- АО «НИИТМ»
- АО «НТО» (SemiTEq®)
- ООО НПК «ТехМашСервис»
- Физические процессы
- Applied Materials
- ASM International
- EVATEC
- FHR Anlagenbau
- FHR ALD 100 (ALD)
- FHR ALD 150 (PEALD)
- FHR ALD 300 (ALD)
- FHR ALD 300 НИОКР (ALD)
- FHR-Star300BOX (PVD)
- FHR.Boxx.400-PVD (PVD)
- FHR.Micro.150-DuoPVD (PVD)
- FHR.Micro.150-MonoEVA (PVD)
- FHR.Micro.160-IBE-RIE (IBE)
- FHR.Micro.200-ALD
- FHR.Micro.200-PVD (PVD)
- FHR.Star.100-TetraCo (PVD)
- FHR.Star.150-Co (PVD)
- FHR.Star.220 (PVD)
- FHR.Star.300 (PVD/ALD)
- IZOVAC
- Kokusai Electric
- KOREA VAC-TEC CO. LTD
- KOREA VAC-TEC ERIDAN (PVD)
- KOREA VAC-TEC In-Line Low Temperature Sputter System (PVD)
- KOREA VAC-TEC In-Line TCO Sputter System (PVD)
- KOREA VAC-TEC ORION-140T (PVD)
- KOREA VAC-TEC ORION-400 (PVD)
- KOREA VAC-TEC ORION-40T (PVD)
- KOREA VAC-TEC ORION-90T (PVD)
- KOREA VAC-TEC ORION-BE (PVD)
- KOREA VAC-TEC VTC 1000 TO (PVD)
- KOREA VAC-TEC VTC 1100 PO (PVD)
- KOREA VAC-TEC VTC-1200-СP (PVD)
- KOREA VAC-TEC VTC-1350DP (PVD)
- KOREA VAC-TEC VTC-IBE-200-RF (IBE)
- Lam Research
- MTI Corporation
- Oxford Instruments
- Plasma-Therm
- SAMCO
- SENTECH Instruments
- Tokyo Electron
- TORR
- Trion Technology
- ULVAC Technologies
- ULVAC CS-200 (PVD)
- ULVAC CS-L 150мм / 200мм (PVD)
- ULVAC Ei-5 (EB/RH)
- ULVAC ENTRON-EX W-200S / W-200T6 200мм (PVD)
- ULVAC ENTRON-EX W-300 300мм (PVD/ALD/CVD)
- ULVAC ENTRON-EX2 W-300 300мм
- ULVAC MLX-3000N cluster (PVD)
- ULVAC SME-200 cluster (PVD)
- ULVAC SME-200E cluster (PVD)
- ULVAC SME-200J cluster (PVD)
- ULVAC SRH-420/420МС cluster (PVD)
- ULVAC SRH-530 cluster (PVD)
- ULVAC SRH-820 cluster (PVD)
- АО «Кварц»
- АО «НИИТМ»
- АО «НТО» (SemiTEq®)
- ООО «ИОНТЕК-нано»
- ООО «РУ-ВЭМ»
- ООО «СтратНаноТек Инвест»
- Химобработка
- AP&S
- Acetoncarussel
- Chemical Distribution System
- Chemical Waste System
- CMS, Slurry System
- GigaStep
- LOTUS systems — Линия жидкостной химической обработки
- LOTUS systems — Установка жидкостной химической обработки
- LOTUS systems 1
- LOTUS systems 2
- MIXTURA Small
- MultiStep
- NID Dryer
- PURUS DUPLEX
- PURUS MAXIM
- PURUS SIMPLEX
- SIMPLEX & DUPLEX
- TwinStep
- VulCanio
- Wet processor manual
- Вытяжной шкаф
- Очистка лодочек
- Очистка труб
- Установка для очистки сточных вод
- Установка ЖХО
- Установка очистки
- Установка очистки
- Установка РХО
- Установка сушки пластин
- EV Group
- INERT Technology
- Ramgraber
- Автоматическая система очистки поликристаллических кусков кремния CHUNK STAR
- Автоматическая система электролиза PLATING STAR
- Автоматическая система электрохимической металлизации PLATING STAR
- Модель DEGLUE STAR
- Модель TIGER
- Оборудование для IPA сушки
- Полуавтоматическая система EMMA
- Ручная система электролиза PLATER
- Ручная система электрохимической металлизации PLATER
- Система жидкостной химической обработки с установкой ополаскивания и сушки
- Система конвейерной очистки пластин кремния INLINE STAR
- Система ополаскивания и сушки SRD
- Система очистки кварцевых труб QUARTZ TUBE CLEANER
- Система с ручным управлением
- Установка для обработки отдельной пластины SPIN ETCH
- Установка для спрей-обработки в кислоте RAMOS SAT
- Установка для спрей-обработки в растворителе RAMOS SST
- SCREEN Semiconductor Solutions Co.(DAINIPPON SCREEN)
- Singulus Stangl Solar
- STALIS
- STROZA
- STROZA — Установка для подготовки и распределения NH4OH + DIW
- STROZA — Установка для травления полупроводниковых пластин
- STROZA — Установка отмывки кремниевых пластин
- STROZA — Установка отмывки кремниевых пластин в процессе травления
- STROZA — Установка отмывки кремниевых пластин после полировки
- STROZA — Установка смешения и распределения химиката TMAH
- STROZA — Установка травления кремниевых пластин (нержавеющая сталь)
- STROZA — Установка травления кремниевых труб
- STROZA — Химический вытяжной шкаф для промывки деталей
- STROZA — Химический шкаф для мойки канистр и тары
- STROZA — Химический шкаф для травления и отмывки кремниевых пластин
- STROZA — Химический шкаф для травления пластин
- STROZA — Шкаф для струйного травления краев кремниевых пластин
- STROZA — Шкаф подачи неорганических химикатов
- STROZA — Шкаф подачи органических химикатов
- STROZA — Шкаф распределения подачи химикатов
- STROZA — Шкаф хранения перчаток для чистых помещений
- STROZA – Химический шкаф для работы с кислотами
- THERMCO SYSTEM
- T-Clean
- TERMCO SYSTEMS — Установка для травления кремниевых труб
- TERMCO SYSTEMS — Установки формирования пористого кремния
- TERMCO SYSTEMS — Установки химического осаждения металлов
- TERMCO SYSTEMS — Шкафы закачки для хранения, смешения, подачи химикатов
- TERMCO SYSTEMS – Химические шкафы для подачи химикатов
- TSE-SYSTEME GmbH
- Вытяжные химические шкафы
- Камера травления
- Очиститель кварцевых труб и кварцевых деталей (вертикальный/горизонтальный) VTC / HTC
- Система распределения подачи химикатов CDS
- Система сбора отработанных химикатов WCCS
- Системы распределения химикатов POU-Box
- Системы смешивания химикатов
- Универсальная установка очистки и отмывки с фильтрацией воздуха и вытяжкой Digestorium
- Установка отмывки пластин методом распыления WSC
- Установки жидкостной химической обработки с автоматическим управлением AWB
- Установки жидкостной химической обработки с полуавтоматическим управлением SWB
- Установки жидкостной химической обработки с ручным управлением MWB
- Установки отмывки кассет, боксов CBC 200 и Foup+Fosb FFC 300
- АО «НИИТОП»
- АО «НИИПМ»
- ООО «АтомСтрой»
- ООО «Корпорация спецтехнологического оборудования «ВИТРИ»
- AP&S
- Эпитаксия
- Advanced Micro-Fabrication Equipment Inc. China
- AIXTRON
- ASM International
- CDS Epitaxy
- LPE
- NAURA
- RIBER
- SCIENTA OMICRON
- SCIENTA OMICRON Charge & spin transport in graphene layers on 2 inch substrates
- SCIENTA OMICRON EVO-25 MBE
- SCIENTA OMICRON EVO-50 MBE
- SCIENTA OMICRON Hybrid (PLD) Laser-MBE System
- SCIENTA OMICRON III-N MBE system for 3 inch substrates with additional in situ VT SPM
- SCIENTA OMICRON III-V MBE system for film growth on 4 inch wafers
- SCIENTA OMICRON Lab10 MBE
- SCIENTA OMICRON MBE & Catalysis
- SCIENTA OMICRON PRO-100 MBE
- SCIENTA OMICRON PRO-75 MBE
- SCIENTA OMICRON UHV PLD and MULTIPROBE Compact
- SCIENTA OMICRON UHV SPM / XPS / UPS / MBE
- Shenzhen
- TNSC
- VEECO
- Veeco Discovery 180 (D180) LDM MOCVD
- Veeco Discovery 180 (D180) MOCVD
- Veeco E300 GaNzilla II MOCVD
- Veeco E300 LDM MOCVD
- Veeco E450 GaNzilla MOCVD
- Veeco GEN II MBE
- Veeco GEN III MBE
- Veeco GEN10 MBE
- Veeco GEN20 MBE
- Veeco GEN200 Edge MBE
- Veeco GEN2000 Edge MBE
- Veeco GEN930 MBE
- Veeco GENxplor MBE
- Veeco Pioneer P125 MOCVD
- Veeco Propel Power MOCVD
- Veeco TurboDisc E450 LDM MOCVD
- Veeco TurboDisc E450 MOCVD
- Veeco TurboDisc E475 MOCVD
- Veeco TurboDisc EPIK 700 MOCVD
- Veeco TurboDisc K300 MOCVD
- Veeco TurboDisc K465 MOCVD
- Veeco TurboDisc K465i HP MOCVD
- Veeco TurboDisc K465i MOCVD
- Veeco TurboDisc K475 MOCVD
- Veeco TurboDisc K475i MOCVD
- Veeco TurboDisc MaxBright M MOCVD
- Veeco TurboDisc MaxBright MHP MOCVD
- АО «НИИТМ»
- АО «НТО»(SemiTEq®)
- ИФП им. А.В.Ржанова
- ФТИ им. А.Ф. Иоффе
- Мехобработка
- Оборудование
- Партнеры
- Планаризация
- Проектирование промышленных объектов
- Проектирование чистых помещений
- Реализованные объекты. Научные исследования
- Реализованные объекты. Радиоэлектронное приборостроение
- Реализованные объекты. Фотовольтаика, энергетика, материаловедение
- Реализованные объекты. Электронная промышленность
- Рост слитков
- Термобарокамеры (камеры пониженного давления)
- Термострессовые виброкамеры AST
- Термошоковые климатические камеры серии ATS
- Услуги
- ФГУП ЭЗАН
- Эпитаксия
- Контакты
© СКТО Промпроект 2001-2025