Trion Technology Titan Deposition (ALD/ PVD/HDCVD/PECVD)

  • Компактная автоматическая установка атомно-слоевого осаждения / физического осаждения из газовой фазы совместно с химическим осаждением из газовой фазы с высокоплотной плазмой / плазмоактивированного химического осаждения из газовой фазы  для серийного производства
  • Назначение: осаждение SiOх, SiNх, SiOxNу, SiC, a-Si и прочих материалов
  • Загрузка из кассет по одной пластине или группе пластин на носителе через вакуумный шлюз с манипулятором и вакуумным кассетным элеватором.
  • Пластины: от ø3″ до ø300мм, части пластин.Возможна групповая загрузка пластин – 4 х ø3″, 3 х ø4″, 7 х ø2″
  • Подложкодержатель: ø200мм либо ø300мм (зависит от варианта установки) с электростатическим или механическим захватом
  • Оперативное управление температурой подложкодержателя
  • Газовая система: газовые линие с РРГ
  • Вакуумная система
  • Система управления: компьютерная, с сенсорным экраном
  • Габариты: (520x1810x1352) мм
  • Опционно: система измерения и оповещение об окончании процесса по лазерному интерферометру / оптическому эмиссионному спектрометру

к списку

Scroll Up