Trion Technology Minilock ALD (ALD/PEALD)

  • Автоматическая установка термического / плазмоактивированного атомно-слоевого осаждения с  шлюзовой загрузкой для НИОКР и мелкосерийного производства
  • Система загрузки через вакуумируемый шлюз
  • Пластины: до ø300мм
  • Температура подложкодержателя: (50÷200)°C   
  • Источник плазмы: ICP
  • Смещение напряжения на подложке
  • Газовая система: газовые линии с РРГ
  • Применяемые газы: O2, N2, очищенный сжатый воздухи прочие
  • Прекурсоры: 4 точки ввода
  • Вакуумная система: турбомолекулярный насос Maglev производительностью 400 л/с и безмасляный форвакуумный насос
  • Система управления: компьютерная, с сенсорным монитором
  • Охлаждающая вода
  • Вытяжная вентиляция
  •  Опционно: источник микроволновой плазмы; возможность проведения процессов PECVD; кластерный вариант установки;  нагреваемый до 600°C электрод из нержавеющей стали.

к списку

Scroll Up