Trion Technology

Trion Technology Minilock ALD (ALD/PEALD)

  • Автоматическая установка термического / плазмоактивированного атомно-слоевого осаждения с  шлюзовой загрузкой для НИОКР и мелкосерийного производства
  • Система загрузки через вакуумируемый шлюз
  • Пластины: до ø300мм
  • Температура подложкодержателя: (50÷200)°C   

далее


Trion Technology Titan Deposition (ALD/ PVD/HDCVD/PECVD)

  • Компактная автоматическая установка атомно-слоевого осаждения / физического осаждения из газовой фазы совместно с химическим осаждением из газовой фазы с высокоплотной плазмой / плазмоактивированного химического осаждения из газовой фазы  для серийного производства
  • Назначение: осаждение SiOх, SiNх, SiOxNу, SiC, a-Si и прочих материалов
  • Загрузка из кассет по одной пластине или группе пластин на носителе через вакуумный шлюз с манипулятором и вакуумным кассетным элеватором.
  • Пластины: от ø3″ до ø300мм, части пластин.Возможна групповая загрузка пластин – 4 х ø3″, 3 х ø4″, 7 х ø2″

далее


Trion Technology Minilock PVD (PVD)

  • Установка магнетронного распыления (напыления) в микроэлектронике для НИОКР и мелкосерийного производства
  • Назначение: напыление слоев металлов или диэлектриков
  • Вакуумный загрузочный шлюз
  • Источники рапыления: постоянного тока или ВЧ

далее

Scroll Up