TORR

Torr серия MagSput™


Torr серия CRC


Torr серия Ion Beam Depositon System (IBD)


Torr серия Electron Beam Evaporation System (EBE)


Torr Atomic Layer Deposition (ALD)

  • Установка  атомно-слоевое осаждение для НИОКР
  • Назначение: для осаждения сверхтонких слоёв материалов для усовершенствованных жестких дисков, динамических ОЗУ, накопительных конденсаторов, дисплеев TFEL (фосфоресцентный слой), солнечных элементов, МЭМС, органических светодиодов и пр.
  • Подложки: пластины / образцы до ø8”
  • Загрузка: ручная
  • Загрузочный шлюз – опционно
  • Рабочая камера: из электрополированной нержавеющей стали
  • Смотровое окно в передней части рабочей камеры
  • Газовые линии с РРГ: до 6
  • Источники прекурсоров: до 4
  • Система нагрева подложкодержателя, стенок камеры, газовых линий
  • Система управления: компьютерная / с программируемым логическим контроллером (полуавтоматическая) / ручная
  • Вакуумная система: турбомолекулярные и форвакуумные насосы