TORR

Torr серия MagSput™

Установка магнетронного распыления для НИОКР и небольших опытных производств
Назначение: для осаждения тонких слоёв металлов, полупроводников, диэлектриков, многосоставных материалов для получения многослойных оптических покрытий; изготовления сенсорных устройств, солнечных элементов, топливных элементов; для исследования тонких пленок, сверхпроводников; изготовления специализированных микросхем, МЭМС, магнитных устройств; для биомедицинских исследований и пр.
Варианты модификаций установок: MagSput-2G3-PC, MagSput-2G2, MagSput-3G-2, MagSput-PC-3G3-RF1-DC1, MagSput-4G2-RF-DC, MagSput-4G2-RF-DC-HT и пр.
Подложки: пластины / образцы до ø300 мм
Загрузка: ручная
Рабочая D-образная камера: из электрополированной нержавеющей стали
Смотровое окно ø4” в передней дверце рабочей камеры
Варианты напыления: постоянным током/радиочастотным напылением

Показать больше

Магнетронные пушки с источниками: одиночные / групповые
Мощность магнетронов: до 1,5 кВт
Осаждаемые материалы: металлы и сплавы — Ag, Al, Al-1%Si, Au, Co, Co/Fe/B 72/18/10 вес.%, Cr, Cu, Fe, Gd, Mo, Nb, Ni/Fe 81/19 вес.%, Pd, Permalloy (Ni/Fe/Mo/Mn 79/16.7/4/0.3 вес.%), Pt, Ta, Ti, V, W, W/Ti 90/10 вес.%; полупроводники — Ge (нелегированный), Si-n, Si-p, Si (нелегированный); оксиды, нитриды, карбиды — Al₂O₃, ITO, Li₃PO₄, LiCoO₂, MgO, Si₃N₄, SiC, SiO₂, Ta₂O₅, TiN, TiO2, WC, ZnO, ZrO₂ (с 12 вес.% Y₂O₃), HfO₂, WO₃, V₂O₅ и пр.
Ручные затворы для всех источников
Газовые линии с РРГ
Применяемые газы: Ar, N₂, O₂ и пр.
Рабочее давление: до 10^-8 торр
Кварцевый датчик толщины с контроллером осаждения
Полнодиапазонный вакуумметр с цифровым дисплеем
Система управления: компьютерная (полуавтоматическая) / ручная
Вакуумная система: турбомолекулярные и форвакуумные насосы
Габариты: 61х 61х 153 см с внешним роторным насосом (вариант модификации)
Вес: 227 кг
Опции: чиллер, система предварительной очистки подложек, загрузочный шлюз с системой транспортировки, система многоосевого вращения подложкодержателя, кварцевые лампы для нагрева до (300÷800)°С, планетарный подложкодержатель, система водяного охлаждения подложкодержателя, компьютерная / с программируемым логическим контроллером система управления, устройство контроля толщины плёнки SQC 310 и контроллер осаждения, моторизованный затвор в сборе, безмасляный форвакуумный насос, датчик ионизации с холодным или горячим катодом, крионасос и т.д.

Показать меньше

Torr серия CRC

Компактная установка планарного магнетронного распыления для НИОКР в области нанотехнологий
Назначение: для разработки процессов осаждения материалов, включая алюминий, углерод, хром, золото, тефлон, диоксид кремния, тантал, вольфрам, титан и прочие на такие подложки, как как ПЭТ (полиэтилентерефталат) с покрытием ITO, стекло с покрытием ITO, стекло, кварц, кремний, полистирол и т.д.
Несколько модификаций установок, например – CRC300, CRC622
Подложки: пластины / образцы до ø100 мм (CRC300), до ø150 мм (CRC622)
Загрузка: ручная
Рабочая из электрополированной нержавеющей стали: D-образная камера (CRC622); шкафная (CRC300)
Смотровое окно ø4” в передней дверце рабочей камеры
Водоохлаждаемый подложкодержатель: ø6”

Показать больше

Температура подложкодержателя: до 600°С
Варианты напыления (CRC300): постоянным током (350Вт)/ ВЧ-напылением (13,56 МГц, 300Вт)
Магнетронные пушки с источниками: одиночные / групповые
Мишени: ø2”
Планарный магнетронный источник с водяным охлаждением
Режимы травления для предварительной очистки: постоянным током / ВЧ-травление
Осаждаемые материалы: металлы и их сплавы — Ag, Al, Au, Co, Cr, Cu, Ta, Ti, W и пр.; неметаллы – углерод, тефлон и пр.; оксиды и другие соединения – AgO, NiO, PdO, PdO/SnO₂/Fe₂O₃, SiO₂, SnO₂, TiO₂, V₂O₅ и пр.
Ручные затворы для всех источников
Газовые линии с РРГ
Применяемые газы: Ar, NO₂, H₂, CO, N₂, O₂ и пр.
Рабочее давление: до 10^-7 торр
Кварцевый датчик толщины с контроллером осаждения
Полнодиапазонный вакуумметр с цифровым дисплеем
Система управления: компьютерная (полуавтоматическая)
Вакуумная система: турбомолекулярные и форвакуумные насосы
Габариты основания: 20” x 24” (CRC622)
Габариты: 21” x 21” x 28” (CRC300)
Вес: 227 кг
Опции: чиллер, система предварительной очистки подложек, система многоосевого вращения подложкодержателя, кварцевые лампы для нагрева до (300÷800)°С, регулируемые высота и положение подложкодержателя, система управления с программируемым логическим контроллером, моторизованный затвор в сборе, безмасляный форвакуумный насос, датчик ионизации с холодным или горячим катодом и т.д.

Показать меньше

Torr серия Ion Beam Depositon System (IBD)

Установка ионно-лучевого осаждения для НИОКР и небольших опытных производств
Назначение: для ионного осаждения тонких слоёв различных материалов
Загрузка: ручная
Рабочая D-образная камера: водоохлаждаемая, из электрополированной нержавеющей стали, с верхней крышкой
Смотровые окна ø4” в передней и боковой части рабочей камеры
Вращающийся подложкодержатель: ø6,5”
Варианты IBD: с помощью источника ионов со сходящимся лучом и источника питания с узлом Easy Target Mounting / с помощью комбинации источника ионов с расходящимся пучком Veeco и блока питания Ion Tech MPS-3000 FC
Водоохлаждаемый держатель для одного источника: оснащен вращающимся столиком с 4-мя мишенями (стандартный размер мишени – 3”)

Показать больше

Газовые линии с РРГ
Предельное давление: 8 · 10^-7 торр
Кварцевый датчик толщины с контроллером осаждения
Полнодиапазонный вакуумметр с цифровым дисплеем
Система управления: с программируемым логическим контроллером (полуавтоматическая)
Вакуумная система: турбомолекулярные и форвакуумные насосы
Электроэнергия: (208÷230)В, 1ф
Опции: чиллер, система предварительной ВЧ-очистки подложек, загрузочный шлюз с системой транспортировки, система многоосевого вращения подложкодержателя, кварцевые лампы для нагрева до (300÷800)°С, планетарный подложкодержатель, система водяного охлаждения подложкодержателя, компьютерная система управления, устройство контроля толщины плёнки SQC 310 и контроллер осаждения, моторизованный затвор в сборе, безмасляный форвакуумный насос, датчик ионизации с холодным или горячим катодом, крионасос, встроенное устройство смены маски и т.д.

Показать меньше

Torr серия Electron Beam Evaporation System (EBE)

Установка электронно-лучевого напыления для НИОКР, опытных и мелкосерийных производств
Назначение: для электронно-лучевого напыления тонких слоёв металлов, оксидов, магнитных материалов и диэлектриков в областях, как нанотехнологии, оптика, микроскопия, МЛЭ, функциональные и декоративные покрытия
Несколько модификаций установок, например — EB-4P (4 карманных тигля разного объема и различные источники питания)
Загрузка: ручная
Рабочая D-образная камера: из электрополированной нержавеющей стали
Смотровое окно ø4” с ручной заслонкой в передней части дверцы рабочей камеры
Варианты напыления: постоянным током / высокочастотным напылением
Одно-/многокарманные источники электронного луча с тиглем с водяным охлаждением: (4÷75) см³

Показать больше

Источник питания высокого напряжения с контроллером развертки по осям X-Y: (3÷15) кВт
Режимы травления для предварительной очистки: постоянным током / ВЧ-травление
Газовые линии с РРГ
Кварцевый датчик толщины с контроллером осаждения
Полнодиапазонный вакуумметр с цифровым дисплеем
Система управления: полуавтоматическая
Вакуумная система: турбомолекулярные и форвакуумные насосы
Опции: чиллер, система предварительной ВЧ-очистки подложек, загрузочный шлюз с системой транспортировки, система многоосевого вращения подложкодержателя, кварцевые лампы для нагрева до (300÷800)°С, планетарный подложкодержатель, система водяного охлаждения подложкодержателя, компьютерная / с программируемым логическим контроллером система управления, устройство контроля толщины плёнки SQC 310 и контроллер осаждения, моторизованный затвор в сборе, безмасляный форвакуумный насос, датчик ионизации с холодным или горячим катодом, тигли большой емкости и блок питания, крионасос, встроенное устройство смены маски и т.д.

Показать меньше

Torr Atomic Layer Deposition (ALD)

Установка атомно-слоевое осаждение для НИОКР
Назначение: для осаждения сверхтонких слоёв материалов для усовершенствованных жестких дисков, динамических ОЗУ, накопительных конденсаторов, дисплеев TFEL (фосфоресцентный слой), солнечных элементов, МЭМС, органических светодиодов и пр.
Подложки: пластины / образцы до ø8”
Загрузка: ручная
Загрузочный шлюз – опционно
Рабочая камера: из электрополированной нержавеющей стали
Смотровое окно в передней части рабочей камеры
Газовые линии с РРГ: до 6
Источники прекурсоров: до 4
Система нагрева подложкодержателя, стенок камеры, газовых линий
Система управления: компьютерная / с программируемым логическим контроллером (полуавтоматическая) / ручная
Вакуумная система: турбомолекулярные и форвакуумные насосы

Обратная связь

TORR

Torr серия MagSput™

Torr серия CRC

Torr серия Ion Beam Depositon System (IBD)

Torr серия Electron Beam Evaporation System (EBE)

Torr Atomic Layer Deposition (ALD)

Презентации

Инженерное оборудование

Технологическое оборудование