SENTECH Instruments

SENTECH Si ALD /  Si ALD LL (ALD/PEALD)

  • Автоматическая установка термического / плазмоактивированного атомно-слоевого осаждения с  ручной / шлюзовой загрузкой для НИОКР и мелкосерийного производства
  • Назначение: термическое ALD Al2O3, ZnO, ZrO2 и пр.; плазмоактивированное ALD  Al2O3, SiO2, TiO2, AlN, Pt и пр.; для создания рекомбинационных слоев в солнечных элементах, диффузионных барьеров в органической электронике, диэлектрических слоев затвора в транзисторах, пассивационных слоев в Li-ионных батареях
  • Может работать как автономным модулем, так и в составе кластера
  • Ручная загрузка либо загрузка через вакуумируемую загрузочную камеру (версия LL)

далее


SENTECH SILAYO (PEALD)

  • Автоматическая установка плазмоактивированного атомно-слоевого осаждения для НИОКР и мелкосерийного производства
  • Назначение: нанесение конформных и однородных слоев Al2O3, SiO2, TiO2, HfO2, TaO2, ZrO, Nb2O5 и пр. для изготовления оптических фильтров и создания антиотражающих покрытий на больших объемных объектах и на партиях небольших подложек
  • Вакуумируемая загрузочная камера.
  • Подложки: до ø330мм (в т.ч. ø2”, ø3”, ø4”, ø6”), толщина подложки до 100мм

далее

Scroll Up