АО «НТО» (SemiTEq®)

STE EB71

Автоматизированная установка электронно-лучевого напыления в сверхвысоком вакууме для НИОКР и мелкосерийное производство в составе технологической линии
Назначение: для напыления высококачественных слоев Al , W , Ti, Au, ITO и др.
Подложки: пластины ø2”, ø3”, ø100 мм, ø150 мм, ø200 мм
Загрузка: ø2” – 6 шт., ø3” – 3 шт., ø100 мм – 1шт., ø150 мм – 1шт., ø200 мм – 1шт.
Шлюзовая камера дверного типа
Рабочая камера из нержавеющей стали с интегрированным водяным охлаждением стенок
Нагрев пластин
Размещение подложек на вращающемся подложкодержателе

Показать больше

Электронно-лучевой испаритель: 1 шт.
Мощность катодного блока испарителя: 6 кВт
Ускоряющее напряжение испарителя: до 6 кВ
Рабочие ячейки испарителя: до 8×7см³ /4×15 см³
Регулируемое расстояние от испарителя до пластины для оптимизации расхода материала: (350÷500) мм
Водяной экран для предотвращения запыления камеры распыляемыми материалами, а также для облегчения сбора и утилизации продуктов распыления
Водоохлаждаемый кварцевый толщиномер
Неоднородность толщины наносимого слоя для пластин на держателе до ø180 мм при использовании технологии «маски»: <± 2%
Вакуумная система: ионный / турбомолекулярный и безмасляный форвакуумный спиральный насосы
Предельное остаточное давление в рабочей камере: <5×10^-9мм.рт.ст
Автоматизированный процесс откачки установки и проведения процесса напыления (включая возможность проведения процесса по заранее составленному рецепту); программирование и сохранение технологических рецептов
Опционно: для шлюзовой камеры – терморезистивный испаритель, либо нагреватель для обезгаживания пластин при температуре 400 °С, либо ионная пушка для мягкой очистки поверхности пластины с энергией ионов (20÷300) эВ; манипулятор для установки держателей подложек с вращением и возможностью изменения расстояния подложка-испаритель в пределах (250÷400) мм: квадрупольный масс-спектрометр для контроля остаточной атмосферы в процессе напыления

Показать меньше

STE EB65

Автоматизированная установка группового электронно-лучевого напыления для серийного производства
Подложки: пластины ø2”, ø3”, ø100 мм, ø150 мм, ø200 мм
Загрузка: ø2” – 42 шт., ø3” – 20 шт., ø100 мм – 12шт., ø150 мм – 5шт., ø200 мм – 3шт.
Рабочая камера из нержавеющей стали с интегрированным водяным охлаждением стенок, разделяемая пневматическим высоковакуумным шибером Ду400 для быстрой откачки основного объема и старта технологического процесса после загрузки пластин (блок электронно-лучевого испарения при этом находится в условиях высокого вакуума и готов к немедленному проведению технологических процессов)
Нагрев пластин
Возможность прогрева камеры с целью обезгаживания внутренних стенок в процессе откачки: до 80 °С
Врашающийся алюминиевый держатель пластин купольного типа с системой вращения держателя пластин, рассчитанный на пластины 20×ø3” либо 12×ø4” (возможно изготовление под ø2” либо ø150 мм)
Ионный источник: (20÷300) Эв

Показать больше

Электронно-лучевой испаритель карусельного типа: 1 шт.
Мощность катодного блока испарителя: 10 кВт
Ускоряющее напряжение испарителя: до 10 кВ
Рабочие ячейки испарителя: до 4×30 см³ /6×15 см³
Водяной экран для предотвращения запыления камеры распыляемыми материалами, а также для облегчения сбора и утилизации продуктов распыления
Водоохлаждаемый 12-ти позиционный опорный кварцевый толщиномер револьверного типа
Система слежения за отклонением факела распыления, состоящая из четырех однопозиционных кварцевых толщиномеров
Улучшенная однородность наносимого материала благодаря специально разработанной технологии «маски»
Вакуумная система: ионный, турбомолекулярный, криогенный и безмасляный форвакуумный спиральный насосы
Предельное остаточное давление в рабочей камере: <5×10^-8мм.рт.ст
Полностью автоматизированная система управления установкой с разграничением прав доступа инженер/оператор/наладчик; программирование и сохранение технологических рецептов
Опционно: квадрупольный масс-спектрометр для контроля остаточной атмосферы в процессе напыления

Показать меньше

STE MS150

Универсальная исследовательская установка магнетронного напыления для НИОКР
Назначение: для напыления высококачественных слоев металлов (Cu, Cr, Ni, Ag, Al, Ti, W, V, Ta и др.); резистивных сплавов (РС-3710, NiCr и др.); диэлектриков (SiO₂, SiN_x, TiN, LiNbO₃, Ta₂O₃ и др.); пленок ITO и др.
Подложки: пластины ø100 мм, ø150 мм
Загрузка: ø100 мм – 1шт., ø150 мм – 1шт. (3 шт. при использовании держателя пластин карусельного типа)
Шлюзовая камера с манипулятором для передачи пластины в камеру напыления и индивидуальной системой откачки
Расположение источников на гибком кронштейне с возможностью конфокального напыления
Нагрев пластин
Вращающийся держатель пластин: до 20 об/мин

Показать больше

Варианты подачи видов смещения на пластины: постоянное смещение любой полярности; ВЧ смещение 13,56 МГц с мощностью генератора до 600 Вт; переменное смещение с частотой до 1 МГц и мощностью генератора до 400 Вт
Мощность источников: DC – 2 кВт, RF – 0,75 кВт; испаритель оснащен комплектом электроники
Магнетронные источники с мишенями до ø150 мм: до 3 шт.
Температура: до 900 °С (опционно)
Водоохлаждаемый кварцевый толщиномер
Применяемые газы: Ar, H₂, N₂, O₂, сжатый воздух и др.
Вакуумная система: турбомолекулярный и безмасляный форвакуумный спиральный насосы
Предельное остаточное давление в рабочей камере: <1×10^-7Торр (<1×10^-8Торр в высоковакуумной версии)
Автоматизация технологического процесса; программирование и сохранение технологических рецептов
Опционно: образец-свидетель, держатель пластин карусельного типа, держатель для пластин ø200 мм, источника ионов для очистки подложки, терморезистивный испаритель, установка источника e-Beam и/или терморезистивного испарителя, отдельные затворы для каждого источника магнетрона, возможная модернизация до 7-ми магнетронных источников для поочередного нанесения материалов с карусельным типом крепления пластины

Показать меньше

STE MS900

Установка магнетронного и терморезистивного напыления для НИОКР и мелкосерийного производства
Назначение: для группового двустороннего напыления напыления многокомпонентных тонких пленок: металлов (Cu, Cr, NiCr, Al, Ni и др.); магнитных материалов; RS-сплавов; многокомпонентных оксидов (NdAlO₃); ITO (оксид индия и олова); резистивных (TaN, РС3710, РС5402); диэлектрических (SiO₂) и проводящих пленок в одном цикле (в т. ч. V-Cu-Ni) и др.
Подложки: 60×48 мм; пластины ø150 мм, ø200 мм
Загрузка: 60×48 мм – 30 шт. (одна сторона) или 24 шт. (с переворотом); ø150 мм – 6 шт. (одна сторона) или 5 шт. (с переворотом); ø200 мм – 5 шт.
Энергия ионного источника для предварительной очистки подложек перед нанесением: (20÷300) эВ
Цилиндрическая рабочая камера из нержавеющей стали состоит из неподвижного блока источников и подъемной верхней крышки и встроенным водяным охлаждением стенок
Нагрев пластин
Вращающийся держатель пластин карусельного типа с возможностью варьирования размеров образцов: до 20 об/мин

Показать больше

Реализация процесса двустороннего напыления за счет переворота держателя пластин на 180°
Возможность установки образца-свидетеля для измерения сопротивления на месте
Автоматизированный контроль процесса с помощью QCM, измерение сопротивления на месте и т.д.
Количество портов для магнетронных источников: с мишенями до ∅200 мм – 5 шт. или для мишеней до ∅150 мм – 6 шт., один из портов может использоваться для источника ионного пучка в любой конфигурации системы
Магнетронные источники: с мишенями до ø150 мм – 5 шт. или с мишенями до ø200 мм – 4 шт.
Автоматическое позиционирование подложки на карусели под определенный источник напыления, геометрия распыления – снизу вверх
Температура: до 700 °С
Водоохлаждаемый кварцевый толщиномер (до 5-ти кварцевых мониторов для контроля толщины с определенной головкой резонатора для каждого положения магнетрона)
Количество газовых линий с РРГ, включая коррозионностойкую байпасную линию: 3 шт.
Применяемые газы: Ar, H₂, N₂, O₂, сжатый воздух и др.
Вакуумная система: турбомолекулярный и безмасляный форвакуумный спиральный насосы
Предельное остаточное давление в рабочей камере: <5×10^-7Торр
Однородность с мишенями ø8’’ на диаметре напыления 100 мм: ±2%
Неравномерность напыленной пленки по пластине ø200 мм: ±2,5%
Автоматизированная система управления технологическими процессами с соответствующими блокировками, контролируемыми энергоресурсами (воздух, вода, технологические газы), а также технологическими данными; программирование и сохранение технологических рецептов
Режимы работы: автоматический по рецепту, полуавтоматический, ручной
Возможность инсталляции «через стену» чистого помещения при комплектации шлюзовой камерой
Опционно: образец-свидетель; терморезистивный испаритель; установка источника e-Beam с энергией (20÷300) эВ; шлюзовая камера с накопителем пластин 5шт.×ø200 мм или 6шт.×ø150 мм, манипулятором для передачи пластины в камеру напыления и индивидуальной системой откачки

Показать меньше

STE D700E

Установка электронно-лучевого напыления
Назначение: для напыления тонких пленок металлов, диэлектриков и полупроводниковых материалов и др.
Подложки: пластины ø2”, ø3”, ø100 мм, ø150 мм, ø200 мм
Вариант исполнения: без шлюзовой камеры или с шлюзовой камерой (опционно)
Загрузка: без шлюзовой камеры — ø2” – 42 шт., ø3” – 20 шт., ø100 мм – 12шт., ø150 мм – 6 шт.; с шлюзовой камерой — ø2” – 6 шт., ø3” – 3 шт., ø100 мм – 1шт., ø150 мм – 1шт., ø200 мм – 1шт.
Камера напыления дверного типа с интегрированным водяным охлаждением стенок
Нагрев пластин
Ионная очистка

Показать больше

Размещение подложек на вращающемся держателе пластин: плоская карусель (без шлюзовой камеры) или купольный держатель (с шлюзовой камерой)
Скорость вращения держателя пластин: до 20 об/мин
Рабочие ячейки испарителя: до 4×30 см³ /6×15 см³
Система цифрового сканирования электронного луча для равномерного прогрева мишени
Регулируемое расстояние от испарителя до пластины
Система защитных экранов
Вакуумная система: криогенный / турбомолекулярный и форвакуумный спиральный насосы
Автоматизация технологического процесса. Программирование и сохранение технологических рецептов.
Опционно: возможность оснащения шлюзовой камерой

Показать меньше

STE D700М

Установка магнетронного распыления
Подложки: пластины ø2”, ø3”, ø100 мм, ø150 мм, ø200 мм
Вариант исполнения: без шлюзовой камеры или с шлюзовой камерой (опционно)
Загрузка: без шлюзовой камеры — ø2” – 42 шт., ø3” – 20 шт., ø100 мм – 12 шт., ø150 мм – 6 шт.; с шлюзовой камерой — ø2” – 6 шт., ø3” – 3 шт., ø100 мм – 1шт., ø150 мм – 1шт., ø200 мм – 1шт.
Вариант исполнения установки: карусельное или конфокальное
Камера напыления дверного типа с интегрированным водяным охлаждением стенок
Нагрев пластин
Ионная очистка

Показать больше

Размещение подложек на вращающемся держателе пластин: плоская карусель (без шлюзовой камеры) или купольный держатель (с шлюзовой камерой)
Скорость вращения держателя пластин: до 20 об/мин
Вариант исполнения испарителей: с прямым или косвенным охлаждением мишени
Регулируемое расстояние от испарителя до пластины
Система защитных экранов
Вакуумная система: криогенный / турбомолекулярный и форвакуумный спиральный насосы
Автоматизация технологического процесса. Программирование и сохранение технологических рецептов
Опционно: возможность оснащения шлюзовой камерой

Показать меньше

STE D700T

Установка терморезистивного напыления
Подложки: пластины ø2”, ø3”, ø100 мм, ø150 мм, ø200 мм
Вариант исполнения: без шлюзовой камеры или с шлюзовой камерой (опционно)
Загрузка: без шлюзовой камеры — ø2” – 42 шт., ø3” – 20 шт., ø100 мм – 12 шт., ø150 мм – 6 шт.; с шлюзовой камерой — ø2” – 6 шт., ø3” – 3 шт., ø100 мм – 1шт., ø150 мм – 1шт., ø200 мм – 1шт.
Камера напыления дверного типа с интегрированным водяным охлаждением стенок
Нагрев пластин
Размещение подложек на вращающемся держателе пластин: плоская карусель (без шлюзовой камеры) или купольный держатель (с шлюзовой камерой)
Скорость вращения держателя пластин: до 20 об/мин

Показать больше

Терморезистивные испарители различного типа
Наличие образца-свидетеля с термосопротивлением
Регулируемое расстояние от испарителя до пластины
Система защитных экранов
Вакуумная система: криогенный / турбомолекулярный и форвакуумный спиральный насосы
Автоматизация технологического процесса. Программирование и сохранение технологических рецептов
Опционно: возможность оснащения шлюзовой камерой

Показать меньше

Обратная связь

АО «НТО» (SemiTEq®)

STE EB71

STE EB65

STE MS150

STE MS900

STE D700E

STE D700М

STE D700T

Презентации

Инженерное оборудование

Технологическое оборудование