SAMCO

SAMCO AL-1 (ALD)

  • Компактная установка  термического атомно-слоевого осаждения тонких пленок для НИОКР и пилотного производства
  • Назначение: осаждение AlOx и SiO2 – оксидных пленок затвора в полевых транзисторах GaN MOSFET, GaN MOS-HFET, 4H-SiC MOSFET и пассивирующих пленок для силовых устройств; формирование пленок на трехмерных структурах (МЭМС); нанесение пленок на поверхность лазера и пассивирующих пленок углеродных нанотрубок
  • Загрузка: прямая, открытая, ø4″ – 3шт., ø8″ – 1шт.
  • Температура подложкодержателя: до 500°C 

далее


SAMCO AD-230LP (PEALD)

  • Установка  плазмо-активированного атомно-слоевого осаждения тонких пленок для НИОКР и производства
  • Назначение: осаждение нитридов AlN, SiN, низкотемпературное осаждение оксидов AlOx и SiO2; осаждение подзатворных диэлектриков; осаждение пассивирующих слоев для полупроводников, органических электролюминесцентных материалов; создание отражающей поверхности полупроводниковых лазеров; формирование пленок на трехмерных структурах (МЭМС); нанесение пленок на графен; нанесение пассивирующих пленок углеродных нанотрубок
  • Загрузочная шлюзовая камера
  • Система емкостно-связанной плазмы (CCP)

далее

Scroll Up