ООО «РУ-ВЭМ»

CAROLINE IE12

  • Автоматизированная установка ионно-лучевого травления для серийного производства
  • Назначение: для травления тонких слоев резистивных пленок из материалов типа РС-3710, РС-5406, РС-1004; пленок титана и тантала, их оксидов и нитридов; металлов, в том числе золота, серебра, платины или меди; двуокиси кремния и нитрида кремния; диэлектрических слоёв; любых материалов распылением ионами аргона на любых плоских (толщина ?30 мм)
  • Подложки: пластины до ?150 мм; подложки 60?48 мм (максимальная плоскость обрабатываемых деталей 150?320 мм)
  • Загрузка: ?100 мм – 42 шт., 60?48 мм – 112 шт.
  • Вертикальное размещение изделий (подложек) на вращающемся барабане
  • Количество вертикально установленных протяженных ионных источников с размером ионного луча по вертикали 350 мм: 2 шт.
  • Ток ионного источника (регулируется расходом газа): до 500 мА
  • Напряжение блока питания: (1?3) кВА

CAROLINE D12A

  • Автоматизированная установка вакуумного напыления (магнетронного, термического и ионно-лучевого) для серийного производства
  • Назначение: для группового напыления на керамические, кремниевые, ситаловые и любые плоские (толщина не более 30 мм) подложки
  • Подложки: пластины до ?100 мм, подложки 60?48 мм
  • Загрузка: ?100 мм – 12 шт., 60?48 мм – 24 шт. (без переворота)
  • Возможный набор технологических устройств на пяти рабочих позициях: магнетрон (от 1 до 5-ти шт.), источник ионов (для предварительной очистки и травления подложек), термический испаритель и устройство ионного распыления (занимает две позиции)
  • Очистка поверхности изделий перед напылением с целью улучшения адгезии напыляемых слоев с помощью ионного источника постоянного тока
  • Нагрев изделий до заданной температуры, контроль и поддержание температуры в процессе напыления слоев
  • Рекомендуемая температура нагрева подложек: (50?250) °С, максимально – 300 °С

CAROLINE D12A1

  • Автоматизированная установка вакуумного напыления (магнетронного, термического и ионно-лучевого) для серийного производства
  • Назначение: для группового напыления на керамические, кремниевые, ситаловые и любые плоские (толщина не более 30 мм) подложки с возможностью двусторонней обработки резистивных пленок из материалов типа РС-3710; РС-5406; РС-1004 и т.д.; пленок титана, нитрида или окиси титана; нитрида тантала; алюминия толщиной до 15 мкм., меди толщиной до 15 мкм.; двуокиси кремния и нитрида кремния из кремниевой мишени
  • Подложки: пластины до ?100 мм, подложки 60?48 мм
  • Загрузка: ?100 мм – 12 шт., 60?48 мм – 24 шт. (без переворота)
  • Возможный набор технологических устройств на пяти рабочих позициях: магнетрон (от 1 до 4-х шт.), источник ионов (для предварительной очистки и травления подложек), термический испаритель и устройство ионного распыления (занимает две позиции)
  • Очистка поверхности изделий перед напылением с целью улучшения адгезии напыляемых слоев с помощью ионного источника постоянного тока
  • Нагрев изделий до заданной температуры, контроль и поддержание температуры в процессе напыления слоев
  • Рекомендуемая температура нагрева подложек: (50?250) °С, максимально – 300 °С
  • Нестабильность температуры подложек: ±5%

CAROLINE D12B

  • Автоматизированная установка вакуумного напыления (магнетронного распыления) для серийного производства
  • Назначение: для группового напыления на керамические, кремниевые и любые плоские (толщина не более 30 мм) подложки
  • Подложки: пластины до ?150 мм (максимальная плоскость обрабатываемых изделий 150?350 мм)
  • Загрузка: ?100 мм – 48 шт., ?150 мм – 28 шт., 60?48 мм – 111 шт.
  • Очистка поверхности изделий перед напылением с целью улучшения адгезии напыляемых слоев с помощью ионного источника постоянного тока
  • Нагрев изделий до заданной температуры, контроль и поддержание температуры в процессе напыления слоев
  • Рекомендуемая температура нагрева подложек: (50?250) °С, максимально – 300 °С
  • Нестабильность температуры подложек: ±5%

CAROLINE D12B1

  • Автоматизированная установка вакуумного напыления (магнетронного распыления) для серийного производства
  • Назначение: для группового двустороннего напыления на керамические, кремниевые и любые плоские (толщина не более 30 мм) подложки
  • Подложки: пластины до ?150 мм (максимальная плоскость обрабатываемых изделий 150?350 мм)
  • Загрузка: ?100 мм – 48 шт., ?150 мм – 28 шт., 60?48 мм – 111 шт. (односторонняя); 60?48 мм – 70 шт. (двусторонняя)
  • Очистка поверхности изделий перед напылением с целью улучшения адгезии напыляемых слоев с помощью ионного источника постоянного тока длиной 400 мм
  • Количество нагревателей мощностью 2,5 кВт каждый для предварительного нагрева изделий: 2 шт.
  • Рекомендуемая температура нагрева подложек: (50?250) °С, максимально – 300 °С
  • Нестабильность температуры подложек: ±5%

CAROLINE D12B3

  • Автоматизированная установка вакуумного напыления (магнетронного распыления) для серийного производства
  • Назначение: для группового двустороннего напыления на керамические, кремниевые и любые плоские (толщина не более 30 мм) подложки
  • Подложки: пластины до ?150 мм (максимальная плоскость обрабатываемых изделий 150?350 мм)
  • Загрузка: ?100 мм – 48 шт., ?150 мм – 28 шт., 60?48 мм – 111 шт. (односторонняя); 60?48 мм – 70 шт. (двусторонняя)
  • Рекомендуемая температура нагрева подложек: (50?250) °С, максимально – 300 °С
  • Нестабильность температуры подложек: ±5%
  • Вертикальное размещение изделий (подложек) на вращающемся барабане
  • Распыляемые материалы: резистивные сплавы, Cu, Cr, Ni, Al и т.п.

CAROLINE D12C

  • Автоматизированная установка вакуумного напыления (магнетронного распыления) для серийного производства
  • Назначение: для группового напыления на любые плоские (толщина не более 30 мм) подложки
  • Подложки: пластины до ?150 мм (максимальная плоскость обрабатываемых изделий 150?350 мм)
  • Загрузка: ?100 мм – 96 шт., 60?48 мм – 176 шт.
  • Рекомендуемая температура нагрева подложек: (50?250) °С, максимально – 300 °С
  • Нестабильность температуры подложек: ±5%
  • Вертикальное размещение изделий (подложек) на вращающемся барабане
  • Распыляемые материалы: резистивные сплавы, Cu, Cr, Ni, Al и т.п.

IRIDA D21A

  • Автоматическая установка вакуумного напыления (магнетронного распыления) для серийного производства
  • Назначение: для нанесения магнетронным распылением электропроводных слоев W, Cr-Au, Cr-Cu, Cr-Cu-Au, Ti-Pt-Au и др., а также диэлектрических слоев в случае использования ВЧ блоков питания
  • Подложки: пластины до ?200 мм
  • Вариант исполнения: одиночная с шлюзовым устройством поштучной загрузки подложек или блок в составе кластера с системой загрузки из кассеты в кассету
  • Загрузка: ?76 мм – 4 шт., ?200 мм – 1шт.
  • Подложка размещается на вращающемся нагреваемом рабочем столе с вертикальным лифтом
  • Встроенные лифты для верхней и нижней крышек рабочей камеры
  • Количество размещаемых на крышке камеры магнетронов: до 4-х (либо 3 магнетрона и источник ионов)