ООО «РУ-ВЭМ»

CAROLINE IE12

Автоматизированная установка ионно-лучевого травления для серийного производства
Назначение: для травления тонких слоев резистивных пленок из материалов типа РС-3710, РС-5406, РС-1004; пленок титана и тантала, их оксидов и нитридов; металлов, в том числе золота, серебра, платины или меди; двуокиси кремния и нитрида кремния; диэлектрических слоёв; любых материалов распылением ионами аргона на любых плоских (толщина ≤30 мм)
Подложки: пластины до ø150 мм; подложки 60×48 мм (максимальная плоскость обрабатываемых деталей 150×320 мм)
Загрузка: ø100 мм – 42 шт., 60×48 мм – 112 шт.
Вертикальное размещение изделий (подложек) на вращающемся барабане
Количество вертикально установленных протяженных ионных источников с размером ионного луча по вертикали 350 мм: 2 шт.
Ток ионного источника (регулируется расходом газа): до 500 мА
Напряжение блока питания: (1÷3) кВА

Показать больше

Травление может производиться через фоторезистивную или металлическую маску
Допустима работа источников ионов на смеси газов
Количество подаваемых (неагрессивных) газов: 2/(4-опция) шт.
Расход подаваемых в камеру рабочих газов по одному каналу: (0÷9) л/час
Стабилизация заданного расхода технологических газов по двум каналам и контроль расхода газа по каждому каналу
Вакуумная система: криогенный/турбомолекулярный и безмасляный форвакуумный насосы
Допустимое давление в камере при работе ионных источников: до 0,3 Па
Предельное остаточное давление в рабочей камере: 8×10^–4Па
Время подготовки установки к работе с учетом «разгона» крионасоса: ≤120 мин
Автоматическое: выполнение программ «от загрузки до разгрузки»; окончание травления пленок по заданному времени; протоколирование процессов
Габаритные размеры основного блока: 1322×850×1800 мм

Показать меньше

CAROLINE D12A

Автоматизированная установка вакуумного напыления (магнетронного, термического и ионно-лучевого) для серийного производства
Назначение: для группового напыления на керамические, кремниевые, ситаловые и любые плоские (толщина не более 30 мм) подложки
Подложки: пластины до ø100 мм, подложки 60×48 мм
Загрузка: ø100 мм – 12 шт., 60×48 мм – 24 шт. (без переворота)
Возможный набор технологических устройств на пяти рабочих позициях: магнетрон (от 1 до 5-ти шт.), источник ионов (для предварительной очистки и травления подложек), термический испаритель и устройство ионного распыления (занимает две позиции)
Очистка поверхности изделий перед напылением с целью улучшения адгезии напыляемых слоев с помощью ионного источника постоянного тока
Нагрев изделий до заданной температуры, контроль и поддержание температуры в процессе напыления слоев
Рекомендуемая температура нагрева подложек: (50÷250) °С, максимально – 300 °С

Показать больше

Нестабильность температуры подложек: ±5%
Распыляемые материалы: резистивные сплавы, Al, Cu, Ti, Cr, Ni и т.п.
Автономное управление заслонками на позициях напыления
Количество устройств очистки изделий: 1шт.
Количество термических испарителей: до 3-х шт.
Визуальный контроль в позициях термических испарителей
Равномерность напыления пленки: ≤5%
Количество импульсных среднечастотных магнетронов для напыления пленок: до 5 шт.
Рабочий регулируемый ток магнетронов: до 7А
Рабочее напряжение магнетронов: до 650В
Размер мишеней (могут использоваться составные мишени непрямого охлаждения): ø100×(4÷12) мм
Мишени на магнетронах расположены горизонтально. Над ними расположены карусель, вращающаяся в горизонтальной плоскости. На карусели размещены носители с подложками. Обработка – в горизонтальной плоскости, материал распыляется снизу- вверх
Диапазон контроля сопротивления свидетеля: (0,2÷20) кОм
Погрешность измерения сопротивления: ±1%
Количество подаваемых (неагрессивных) газов: до 3-х шт.
Расход подаваемых в камеру рабочих газов по одному каналу: (0÷9) л/час
Стабилизация заданного расхода технологических газов и контроль расхода газа по каждому каналу
Применяемые газы: Ar, N₂, O₂(1,5 атм), сжатый воздух (5 атм)
Водяное охлаждение: 0,6 м³/час, (15±5) °С, (4÷5) кгс/см²
Вакуумная система: криогенный и безмасляный форвакуумный насосы
Допустимое давление в камере при работе магнетронов: (0,07÷0,3) Па
Предельное остаточное давление в рабочей камере: 8×10^–4Па
Время подготовки установки к работе с учетом «разгона» крионасоса: ≤120 мин
Режимы работы: программный, программный режим с редактированием (с заданием) переменных и автономный режим
Электроэнергия: 380/220В, 3ф, 50 Гц, 13 кВт
Габаритные размеры основного блока с открытой крышкой: 1315×1430×2100 мм
Занимаемая площадь (Д×Ш): 3,6×2,2 м
Масса со стойкой питания и управления: ≤1850 кг
Опционно: вариант напыления на охлаждаемую подложку с подачей смещения 100 кГц, мощность генератора смещения до 1кВА; вариант установки кварцевого измерителя толщины в любой позиции напыления

Показать меньше

CAROLINE D12A1

Автоматизированная установка вакуумного напыления (магнетронного, термического и ионно-лучевого) для серийного производства
Назначение: для группового напыления на керамические, кремниевые, ситаловые и любые плоские (толщина не более 30 мм) подложки с возможностью двусторонней обработки резистивных пленок из материалов типа РС-3710; РС-5406; РС-1004 и т.д.; пленок титана, нитрида или окиси титана; нитрида тантала; алюминия толщиной до 15 мкм., меди толщиной до 15 мкм.; двуокиси кремния и нитрида кремния из кремниевой мишени
Подложки: пластины до ø100 мм, подложки 60×48 мм
Загрузка: ø100 мм – 12 шт., 60×48 мм – 24 шт. (без переворота)
Возможный набор технологических устройств на пяти рабочих позициях: магнетрон (от 1 до 4-х шт.), источник ионов (для предварительной очистки и травления подложек), термический испаритель и устройство ионного распыления (занимает две позиции)
Очистка поверхности изделий перед напылением с целью улучшения адгезии напыляемых слоев с помощью ионного источника постоянного тока
Нагрев изделий до заданной температуры, контроль и поддержание температуры в процессе напыления слоев
Рекомендуемая температура нагрева подложек: (50÷250) °С, максимально – 300 °С
Нестабильность температуры подложек: ±5%

Показать больше

Распыляемые материалы: резистивные сплавы, Al, W, V, Cu, Ti, Cr, Ni и т.п.
Автономное управление заслонками на позициях напыления
Количество устройств очистки изделий: 1шт.
Количество термических испарителей: до 3-х шт.
Отпыливание мишени любого из одного — четырех магнетронов на управляемую заслонку
Равномерность напыления пленки: ≤5%
Количество импульсных среднечастотных магнетронов для напыления пленок: до 5 шт.
Рабочий регулируемый ток магнетронов: до 7А
Рабочее напряжение магнетронов: до 650В
Размер мишеней (могут использоваться составные мишени непрямого охлаждения): ø100×(4÷12) мм
Мишени на магнетронах расположены горизонтально. Над ними расположены карусель, вращающаяся в горизонтальной плоскости. На карусели размещены носители с подложками. Обработка — в горизонтальной плоскости, материал распыляется снизу- вверх. При двусторонней обработке во время вращения карусели специальное устройство поочереди поворачивает носитель с закрепленным в нем изделием на 180˚ относительно своей оси.
Диапазон контроля сопротивления свидетеля: (0,2÷20) кОм
Погрешность измерения сопротивления: ±1%
Количество подаваемых (неагрессивных) газов: до 3-х шт.
Расход подаваемых в камеру рабочих газов по одному каналу: (0÷9) л/час
Стабилизация заданного расхода технологических газов и контроль расхода газа по каждому каналу
Применяемые газы: Ar, N₂, O₂(1,5 атм), сжатый воздух (5 атм)
Водяное охлаждение: 0,6 м³/час
Вакуумная система: криогенный и безмасляный форвакуумный насосы
Допустимое давление в камере при работе магнетронов: (0,07÷0,3) Па
Предельное остаточное давление в рабочей камере: 8×10^–4Па
Время подготовки установки к работе с учетом «разгона» крионасоса: ≤120 мин
Автоматическое выполнение цикла откачки рабочей камеры от атмосферы до стартового вакуума
Автоматическое окончание цикла очистки изделий по заданному времени
Контроль и автоматическое окончание напыления резистивных и металлических пленок по заданному времени или по заданному сопротивлению свидетеля, а также по кварцевому измерителю толщины и т.д.
Электроэнергия: 380/220В, 3ф, 50 Гц, 13 кВт
Габаритные размеры основного блока с поднятой камерой: 1450×1650×2689 мм
Занимаемая площадь (Д×Ш): 3,6×2,2 м
Масса со стойкой питания и управления: ≤1850 кг
Опционно: вариант напыления на охлаждаемую подложку с подачей смещения 100 кГц, мощность генератора смещения до 1 кВА; вариант установки кварцевого измерителя толщины в любой позиции напыления

Показать меньше

CAROLINE D12B

Автоматизированная установка вакуумного напыления (магнетронного распыления) для серийного производства
Назначение: для группового напыления на керамические, кремниевые и любые плоские (толщина не более 30 мм) подложки
Подложки: пластины до ø150 мм (максимальная плоскость обрабатываемых изделий 150×350 мм)
Загрузка: ø100 мм – 48 шт., ø150 мм – 28 шт., 60×48 мм – 111 шт.
Очистка поверхности изделий перед напылением с целью улучшения адгезии напыляемых слоев с помощью ионного источника постоянного тока
Нагрев изделий до заданной температуры, контроль и поддержание температуры в процессе напыления слоев
Рекомендуемая температура нагрева подложек: (50÷250) °С, максимально – 300 °С
Нестабильность температуры подложек: ±5%

Показать больше

Вертикальное размещение изделий (подложек) на вращающемся барабане
Распыляемые материалы: резистивные сплавы, Cu, Cr, Ni, Al и т.п.
Автономное управление заслонками на позициях напыления
Количество устройств очистки изделий: 1шт.
Равномерность напыления пленки: ≤5%
Количество импульсных среднечастотных магнетронов (устанавливаются внутри барабана) для напыления пленок: до 4-х шт.
Рабочий регулируемый ток магнетронов: (0,5÷15) А, опционно – до 30 А
Рабочее напряжение магнетронов: до 650 В
Размер мишеней (могут использоваться составные мишени непрямого охлаждения): 440×100×(6÷15) мм
Диапазон контроля сопротивления свидетеля: (0,2÷20) кОм
Погрешность измерения сопротивления: ±1%
Допустима работа источника ионов совместно с магнетроном на смеси газов
Количество подаваемых (неагрессивных) газов: до 3 шт.
Расход подаваемых в камеру рабочих газов по одному каналу: (0÷9) л/час
Стабилизация заданного расхода технологических газов и контроль расхода газа по каждому каналу
Применяемые газы: Ar, N₂, O₂(1,5 атм), сжатый воздух (5 атм)
Водяное охлаждение: 0,6 м³/час, (15±5) °С, (4÷5) кгс/см²
Вакуумная система: диффузионный/турбомолекулярный и безмасляный форвакуумный насосы
Допустимое давление в камере при работе магнетронов: (0,07÷0,3) Па
Предельное остаточное давление в рабочей камере: 8×10^–4Па
Время подготовки установки к работе с учетом «разгона» крионасоса: ≤120 мин
Автоматическое: выполнение программ «от загрузки до разгрузки»; окончание напыления резистивных и металлических пленок по заданному времени или по заданному сопротивлению свидетеля
Электроэнергия: 380/220В, 3ф, 50 Гц, 17 кВт
Габаритные размеры основного блока с поднятой камерой: 1450×1850×2550 мм
Масса со стойкой питания и управления: ≤1700 кг

Показать меньше

CAROLINE D12B1

Автоматизированная установка вакуумного напыления (магнетронного распыления) для серийного производства
Назначение: для группового двустороннего напыления на керамические, кремниевые и любые плоские (толщина не более 30 мм) подложки
Подложки: пластины до ø150 мм (максимальная плоскость обрабатываемых изделий 150×350 мм)
Загрузка: ø100 мм – 48 шт., ø150 мм – 28 шт., 60×48 мм – 111 шт. (односторонняя); 60×48 мм – 70 шт. (двусторонняя)
Очистка поверхности изделий перед напылением с целью улучшения адгезии напыляемых слоев с помощью ионного источника постоянного тока длиной 400 мм
Количество нагревателей мощностью 2,5 кВт каждый для предварительного нагрева изделий: 2 шт.
Рекомендуемая температура нагрева подложек: (50÷250) °С, максимально – 300 °С
Нестабильность температуры подложек: ±5%

Показать больше

Вертикальное размещение изделий (подложек) на вращающемся барабане
Распыляемые материалы: резистивные сплавы, Cu, Cr, Ni, Al и т.п.
Автономное управление заслонками на позициях напыления (одновременно могут быть открыты пары магнетронов в позициях 1 и 3 либо в позициях 2 и 4)
Количество устройств очистки изделий: 2 шт.
Количество импульсных среднечастотных магнетронов для напыления пленок: до 7(8) шт. – 4 шт. устанавливаются внутри барабана и 3(4) шт. устанавливаются снаружи в специальных дверях
Рабочий регулируемый ток магнетронов: (0,5÷15) А, опционно – до 30 А
Рабочее напряжение магнетронов: (300÷650) В
Размер мишеней (могут использоваться составные мишени непрямого охлаждения): 440×100×(6÷15) мм
Диапазон контроля сопротивления свидетеля: (0,2÷20) кОм
Погрешность измерения сопротивления: ±1%
Количество подаваемых (неагрессивных) газов: до 3 шт.
Расход подаваемых в камеру рабочих газов по одному каналу: (0÷9) л/час
Стабилизация заданного расхода технологических газов и контроль расхода газа по каждому каналу
Применяемые газы: Ar, N₂, O₂(1,5 атм), сжатый воздух (5 атм)
Водяное охлаждение: 0,6 м³/час, (15±5) °С, (4÷5) кгс/см²
Вакуумная система: криогенный и безмасляный форвакуумный насосы
Допустимое давление в камере при работе магнетронов: (0,07÷0,3) Па
Предельное остаточное давление в рабочей камере: 8×10^–4Па
Время подготовки установки к работе с учетом «разгона» крионасоса: ≤120 мин
Автоматическое: выполнение программ «от загрузки до разгрузки»; окончание напыления резистивных и металлических пленок по заданному времени или по заданному сопротивлению свидетеля
Электроэнергия: 380/220В, 3ф, 50 Гц, 21 кВт

Показать меньше

CAROLINE D12B3

Автоматизированная установка вакуумного напыления (магнетронного распыления) для серийного производства
Назначение: для группового двустороннего напыления на керамические, кремниевые и любые плоские (толщина не более 30 мм) подложки
Подложки: пластины до ø150 мм (максимальная плоскость обрабатываемых изделий 150×350 мм)
Загрузка: ø100 мм – 48 шт., ø150 мм – 28 шт., 60×48 мм – 111 шт. (односторонняя); 60×48 мм – 70 шт. (двусторонняя)
Рекомендуемая температура нагрева подложек: (50÷250) °С, максимально – 300 °С
Нестабильность температуры подложек: ±5%
Вертикальное размещение изделий (подложек) на вращающемся барабане
Распыляемые материалы: резистивные сплавы, Cu, Cr, Ni, Al и т.п.

Показать больше

Автономное управление заслонками на позициях напыления (одновременно могут быть открыты пары магнетронов в позициях 1 и 3 либо в позициях 2 и 4)
Количество устройств очистки изделий: 2 шт.
Установка оборудована сложной дверью, на которой располагаются два нагревателя и ионные источники
Количество импульсных среднечастотных магнетронов для напыления пленок: 8 шт. – 4 шт. устанавливаются внутри барабана и 4 шт. устанавливаются снаружи в специальных дверях
Рабочий регулируемый ток магнетронов: (0,5÷15)А, опционно – до 30А
Рабочее напряжение магнетронов: до 650В
Размер мишеней (могут использоваться составные мишени непрямого охлаждения): 440×100×(6÷15) мм
Диапазон контроля сопротивления свидетеля: (0,2÷20) кОм
Погрешность измерения сопротивления: ±1%
Допустима работа источника ионов совместно с магнетроном на смеси газов
Количество подаваемых (неагрессивных) газов: до 3 шт.
Расход подаваемых в камеру рабочих газов по одному каналу: (0÷9) л/час
Стабилизация заданного расхода технологических газов и контроль расхода газа по каждому каналу
Применяемые газы: Ar, N₂, O₂(1,5 атм), сжатый воздух (5 атм)
Водяное охлаждение: 0,6 м³/час, (15±5) °С, (4÷5) кгс/см²
Вакуумная система: криогенный и безмасляный форвакуумный насосы
Допустимое давление в камере при работе магнетронов: (0,07÷0,3) Па
Предельное остаточное давление в рабочей камере: 8х10^–4Па
Время подготовки установки к работе с учетом «разгона» крионасоса: ≤120 мин
Автоматическое: выполнение программ «от загрузки до разгрузки»; окончание напыления резистивных и металлических пленок по заданному времени или по заданному сопротивлению свидетеля
Электроэнергия: 380/220В, 3ф, 50 Гц, 21 кВт
Габаритные размеры основного блока с поднятой камерой: 1750×2000×2980 мм
Масса со стойкой питания и управления: ≤2300 кг

Показать меньше

CAROLINE D12C

Автоматизированная установка вакуумного напыления (магнетронного распыления) для серийного производства
Назначение: для группового напыления на любые плоские (толщина не более 30 мм) подложки
Подложки: пластины до ø150 мм (максимальная плоскость обрабатываемых изделий 150×350 мм)
Загрузка: ø100 мм – 96 шт., 60×48 мм – 176 шт.
Рекомендуемая температура нагрева подложек: (50÷250) °С, максимально – 300 °С
Нестабильность температуры подложек: ±5%
Вертикальное размещение изделий (подложек) на вращающемся барабане
Распыляемые материалы: резистивные сплавы, Cu, Cr, Ni, Al и т.п.

Показать больше

Автономное управление заслонками на позициях напыления
Количество устройств ионной очистки изделий: 1шт.
Количество устанавливаемых внутри барабана импульсных среднечастотных магнетронов для напыления пленок: до 4 шт.
Рабочий регулируемый ток магнетронов: (0,5÷15)А, опционно – до 30А
Рабочее напряжение магнетронов: до 650 В
Размер мишеней (могут использоваться составные мишени непрямого охлаждения): 749×100×(6÷15) мм
Диапазон контроля сопротивления свидетеля: (0,2÷20) кОм
Погрешность измерения сопротивления: ±1%
Допустима работа источника ионов совместно с магнетроном на смеси газов
Количество подаваемых (неагрессивных) газов: до 3 шт.
Расход подаваемых в камеру рабочих газов по одному каналу: (0÷9) л/час
Стабилизация заданного расхода технологических газов и контроль расхода газа по каждому каналу
Применяемые газы: Ar, N₂, O₂(1,5 атм), сжатый воздух (5 атм)
Водяное охлаждение: 0,6 м³/час
Вакуумная система: криогенный и безмасляный форвакуумный насосы
Допустимое давление в камере при работе магнетронов: (0,07÷0,3) Па
Предельное остаточное давление в рабочей камере: 8×10^–4Па
Время подготовки установки к работе с учетом «разгона» крионасоса: ≤120 мин
Автоматическое: выполнение программ «от загрузки до разгрузки»; окончание напыления резистивных и металлических пленок по заданному времени или по заданному сопротивлению свидетеля; протоколирование процессов
Электроэнергия: 380/220В, 3ф, 50 Гц, 21 кВт
Габаритные размеры основного блока с поднятой камерой: 1450×1660×3130 мм
Занимаемая площадь (Д×Ш): 3,6×2,2 м
Масса со стойкой питания и управления: ≤1850 кг
Опционно: вариант напыления на охлаждаемую подложку с подачей смещения 100 кГц, мощность генератора смещения до 4 кВА

Показать меньше

IRIDA D21A

Автоматическая установка вакуумного напыления (магнетронного распыления) для серийного производства
Назначение: для нанесения магнетронным распылением электропроводных слоев W, Cr-Au, Cr-Cu, Cr-Cu-Au, Ti-Pt-Au и др., а также диэлектрических слоев в случае использования ВЧ блоков питания
Подложки: пластины до ø200 мм
Вариант исполнения: одиночная с шлюзовым устройством поштучной загрузки подложек или блок в составе кластера с системой загрузки из кассеты в кассету
Загрузка: ø76 мм – 4 шт., ø200 мм – 1шт.
Подложка размещается на вращающемся нагреваемом рабочем столе с вертикальным лифтом
Встроенные лифты для верхней и нижней крышек рабочей камеры
Количество размещаемых на крышке камеры магнетронов: до 4-х (либо 3 магнетрона и источник ионов)

Показать больше

Перемещение магнетронов от стенки камеры к ее центру с помощью электроприводов
Магнетроны в парковочном положении у стенки камеры могут закрываться индивидуальными управляемыми заслонками
Магнетрон, совершающий напыление, двигается от стенки камеры к центру и обратно
Поддерживается режим реактивного распыления
Поочередно в одном технологическом цикле могут использоваться до 4-х магнетронов
Возможные размеры мишеней: 1”, 2” и 3”
Система нагрева подложек: (50÷250) °С, максимально – 300 °С
Неравномерность плёнки по толщине: 3%
Применяемые газы: Ar, O₂(1,5 атм), N₂(2 атм, 25 л/процесс), сжатый воздух (6 атм)
Водяное охлаждение: (3÷4) кг/см², 0,72 м³/час
Чиллер: вода-вода
Вентиляция от газового шкафа: ø80 мм
Выхлоп вакуумной системы: DN 40 KF
Вакуумная система: криогенный и безмасляный форвакуумный насосы
Программное управление, протоколирование процесса
Электроэнергия: 380/220В, 3ф, 50 Гц, ≤10 кВт
Габаритные размеры: 3095×1330×2075 мм
Занимаемая площадь (Д×Ш): 4×2 м

Показать меньше

Обратная связь

ООО «РУ-ВЭМ»

CAROLINE IE12

CAROLINE D12A

CAROLINE D12A1

CAROLINE D12B

CAROLINE D12B1

CAROLINE D12B3

CAROLINE D12C

IRIDA D21A

Презентации

Инженерное оборудование

Технологическое оборудование