АО «НИИТМ»

МАГНА ТМ 5

ЭЛИМ ТМ 5

МАГНА ТМ 22

МАГНА ТМ 29

  • Автоматическая установка вакуумного напыления (магнетронного распыления) для серийного производства
  • Назначение: для группового нанесения многокомпонентных и многослойных металлических или диэлектрических тонких пленок на подложки (пластины)
  • Подложки: пластины ø76 мм, ø100 мм, ø150 мм
  • Шлюзовые камеры для загрузки-выгрузки подложек из кассеты в кассету: 2 шт.
  • Конвейерная система непрерывного транспортирования подложек
  • Предварительный нагрев подложек ламповым нагревателем и их очистка источником ионов
  • Вакуумная система: криогенный/турбомолекулярный и безмасляный форвакуумный насосы
  • Микропроцессорная система управления
  • Электроэнергия: 380/220В, 3ф, 50 Гц, ≤30 кВт
  • Занимаемая площадь: ~10м2

МАГНА ТМ 200-01

МАГНА ТМ 200-04

МАГНА ТМ 300

МВУ ТМ МАГНА 04

  • Малогабаритная установка вакуумного напыления (магнетронного распыления) для НИОКР и мелкосерийного производства
  • Назначение: для нанесения пленок металлов и резистивных материалов на подложки (пластины) методом магнетронного распыления
  • Подложки: 60×48 мм; пластины ø100 мм, ø150 мм
  • Групповая обработка подложек в одном технологическом цикле: при односторонней обработке ø100 мм – 4 шт., ø150 мм – 2 шт.; при двусторонней обработке 60×48мм – 6 шт.
  • Ионная очистка в плазме разряда
  • Магнетронное распылительное устройство (МРУ) постоянного тока: 2 шт.
  • Вакуумная система: турбомолекулярный (ТМН300) и безмасляный форвакуумный насосы
  • Микропроцессорная система управления
  • Ламповый нагрев
  • Электроэнергия: 50 Гц, ≤4,5 кВт
  • Занимаемая площадь: ~2,5м2

МВУ ТМ МАГНА 06

  • Малогабаритная установка вакуумного напыления (магнетронного распыления) для НИОКР и мелкосерийного производства
  • Назначение: для нанесения пленок металлов и резистивных материалов на подложки (пластины) методом магнетронного распыления
  • Подложки: 60×48 мм; пластины ø100 мм, ø150 мм
  • Групповая обработка подложек в одном технологическом цикле: при односторонней обработке ø100 мм – 4 шт., ø150 мм – 2 шт.; при двусторонней обработке 60×48 мм – 6 шт.
  • Периодический поворот подложкодержателя на 90°
  • Ионная очистка в плазме разряда
  • Тип и количество МРУ в установке: 1 шт. постоянного тока или 1 шт. ВЧ
  • Вакуумная система: турбомолекулярный (ТМН300) и безмасляный форвакуумный насосы
  • Микропроцессорная система управления
  • Ламповый нагрев
  • Электроэнергия: 50 Гц, ≤4,5 кВт
  • Занимаемая площадь: ~2,5м2

МВУ ТМ МАГНА 07, 08

  • НИОКР и мелкосерийного производства
  • Назначение: для нанесения пленок металлов и резистивных материалов на подложки (пластины) методом магнетронного распыления
  • Подложки: 60×48 мм; пластины ø100 мм, ø150 мм
  • Групповая обработка подложек в одном технологическом цикле: при односторонней обработке ø100 мм – 4 шт., ø150 мм – 2 шт.; при двусторонней обработке 60×48 мм – 6 шт.
  • Ионная очистка в плазме разряда
  • Тип и количество МРУ в установке: постоянного тока – 3 шт. (Магна 07);  постоянного тока – 2 шт., ВЧ – 1 шт. (Магна 08)
  • Вакуумная система: турбомолекулярный (ТМН300) и безмасляный форвакуумный насосы
  • Микропроцессорная система управления
  • Ламповый нагрев
  • Электроэнергия: 50 Гц, ≤4,5 кВт
  • Занимаемая площадь: ~2,5м2

МВУ ТМ МАГНА 09

МВУ ТМ МАГНА 10

МВУ ТМ МАГНА 11, 12

  • Малогабаритная установка вакуумного напыления (магнетронного распыления) для НИОКР и мелкосерийного производства
  • Назначение: для нанесения металлов, резистивных материалов и диэлектриков на подложки (пластины) методом магнетронного распыления
  • Подложки: 60х48мм; пластины ø100 мм, ø150 мм
  • Обработка подложек в одном технологическом цикле: при односторонней обработке  ø100 мм – 4 шт., ø150 мм – 2 шт. (на другом держателе) или при двухсторонней обработке 60×48 мм – 6 шт.
  • Периодический поворот подложкодержателя на 90°
  • Ламповый нагрев
  • Тип и количество МРУ в установке: постоянного тока – 2 шт. (Магна 11);  постоянного тока – 1шт., ВЧ – 1 шт. (Магна 12)
  • Количество ионных источников – 1 шт.
  • Применяемые газы: Ar, O2, сжатый воздух и др.
  • Вакуумная система: турбомолекулярный (ТМН300) и безмасляный форвакуумный насосы
  • Микропроцессорная система управления
  • Электроэнергия: 50 Гц, ≤4,5 кВт
  • Занимаемая площадь: ~2,5м2

МВУ ТМ МАГНА ТИС 02

МВУ ТМ ТИС 02