MTI Corporation

MTI VTC-16-D(PVD)

  • Компактная настольная установка плазменного магнетронного напыления покрытий постоянным током с золотой мишенью для нанесения покрытий благородных металлов
  • Назначение: магнетронное напыление металлических покрытий (Au, Pt, Ag); напыление проводящих золотых слоев на образцах для сканирующей электронной микроскопии
  • Регулируемый по высоте подложкодержатель
  • Напряжение на источнике постоянного тока системы напыления – 500В; сила тока регулируется от 0 до 50 мА (цифровой миллиамперметр); время напыления регулируется от 1 до 120 с

далее


MTI GSL-1100X-SPC12-LD (PVD)

  • Компактная установка плазменного напыления для нанесения покрытий металлов
  • Назначение: напыление металлических покрытий (Au, Pt, In, Ag); нанесение проводящих золотых пленок для сканирующей электронной микроскопии
  • Процессная камера из стекла размерами: ø внутр.100 мм х 130мм, уплотняющий фланец из нержавеющей стали. Ручная загрузка-выгрузка подложек
  • Подложкодержатель ø 40 мм с регулируемой высотой от 15 до 80 мм между образцом и мишенью. Время напыления: от 0 до 110 с

далее


MTI VTC-16-3HD-LD (PVD)

  • Компактная установка магнетронного напыления постоянным током для нанесения покрытий металлов
  • Назначение: магнетронное напыление металлических покрытий (Au, Ag, Cu)
  • Напряжение на источнике постоянного тока системы напыления – 1600В; сила тока – до 40 мА
  • Процессная камера из сверхчистого кварца размерами: ø внутр.150 мм х 150мм, уплотняющий фланец из нержавеющей стали с плоским уплотнительным кольцом

далее


MTI VTC-16-SM (PVD)

  • Настольная установка магнетронного напыления постоянным током высокой мощности с водяным охлаждением 2“ оголовка мишени, водяным чилером и вращающимся держателем образцов
  • Назначение: магнетронное напыление металлических покрытий, включая Zn, Al, Ti и тонкие углеродные слои
  • Подложки: пластины диаметром до 4″
  • Подложкодержатель ø 4″ с регулируемой высотой от 60 до 100 мм между образцом и мишенью

далее


MTI VTC-2RF (PVD)

  • Компактная установка высокочастотного плазменного магнетронного напыления с 2“ оголовком распылителя для НИОКР
  • Назначение: магнетронное напыление неметаллических покрытий, преимущественно – оксидов
  • Подложки: пластины диаметром до 2″
  • Один вращающийся со скоростью от 1 до 10 об/мин 50-мм нагреваемый керамический держатель с оболочкой из нержавеющей стали

далее


MTI VTC-3RF (PVD)

  • Компактная установка высокочастотного плазменного магнетронного напыления с тремя 1“ оголовками распылителя для магнетронного напыления неметаллических покрытий, преимущественно – оксидов
  • Подложки: пластины диаметром до 2″. Ручная загрузка-выгрузка подложек
  • Один вращающийся со скоростью от 1 до 10 об/мин 50-мм нагреваемый керамический держатель с оболочкой из нержавеющей стали; угловой диапазон напыления: 0÷25°
  • Нагреватель держателя до температуры 600°С (не более 5 минут) или 500°С (не более 2 часов) с точностью поддержания температуры ±1°С

далее


MTI VTC-600-2HD-LD (PVD)

  • Компактная высоковакуумная установка плазменного магнетронного напыления с двумя 2“ оголовками (источниками/мишенями) DC/RF-плазмы для нанесения однослойных или многослойных пленок материалов, таких как различные сплавы, сегнетоэлектрики, полупроводники, керамика, диэлектрики, оптические покрытия, PTFE, и т.д.
  • Назначение – магнетронное напыление: металлических покрытий при использовании DC –источника; неметаллических покрытий при использовании RF-источника
  • Подложки: пластины диаметром до 4″. Ручная загрузка-выгрузка подложек
  • Один вращающийся со скоростью от 1 до 20 об/мин 140-мм нагреваемый керамический держатель с оболочкой из нержавеющей стали

далее


MTI VTC-600-3HD-LD (PVD)

  • Комбинированная высоковакуумная установка плазменного магнетронного напыления с тремя 3“ оголовками (источниками/мишенями) DC/RF-плазмы для нанесения однослойных или многослойных пленок материалов, таких как различные сплавы, сегнетоэлектрики, полупроводники, керамика, диэлектрики, оптические покрытия, PTFE…
  • Назначение – магнетронное напыление: металлических покрытий при использовании DC –источника; неметаллических покрытий при использовании RF-источника
  • Подложки: пластины диаметром до 4″. Ручная загрузка-выгрузка подложек
  • Один вращающийся со скоростью от 1 до 20 об/мин 140-мм нагреваемый керамический держатель с оболочкой из нержавеющей стали

далее


MTI GSL-1700X-SPC-2 (PVD)

  • Компактная высоковакуумная установка нанесения металлических или органических пленочных покрытий методом термического испарения
  • Подложки диаметром до 2″. Ручная загрузка-выгрузка подложек
  • Система термического испарения для осаждения пленок с источником, обеспечивающим максимальный ток 40 А (рекомендуемый рабочий ток ) – <30 A
  • Вольфрамовый спиральный нагреватель с алюминиевым тиглем обеспечивают температуру до 1700ºC (стандартный диапазон – 200 ÷1500 ºC, опционно – 1200 ÷1700ºC)

далее


MTI GSL-1800X-SBC2-LD (PVD)

  • Многофункциональная напольная высоковакуумная установка плазменного нанесения покрытий для НИОКР с ручной загрузкой-выгрузкой подложек
  • Объединяет в одной установке процессы  термического испарения, плазменного магнетронного напыления, осаждения углеродных покрытий для нанесения пленок материалов, таких как металлы, полупроводники, диэлектрики и т.д.
  • Источники для осаждения пленок: AC-источник до 10 В, до 100 А для термического испарения – позволяет испарять два материала одновременно, вольфрамовый нагреватель обеспечивает температуру до 1800ºC; источник для осаждения углеродных пленок содержит два угольных стержня; DC-источник до 3 кВ, до 10 мА для плазменного магнетронного напыления
  • Процессная вакуумная камера: вакуумный колпак из боросиликатного стекла размерами ø 250 мм х 340 мм с расположенными внутри него двумя кварцевыми трубками для защиты от излучения (одна – внутр. ø 88 мм х 140 мм – для процесса термического испарения, вторая – внутр. ø 88 мм х 57 мм – для процесса плазменного магнетронного напыления), а также сетчатый экран из нержавеющей стали для защиты от излучения при процессе термического испарения

далее

Scroll Up