«ИЗОВАК»

Atis 500

  • Установка вакуумного магнетронного распыления циклического действия для мелкосерийного производства
  • Назначение: для группового двустороннего напыления на кварцевые, стеклянные, кремниевые и прочие подложки металлических покрытий с высокой равномерностью (подслоя, основного металлического слоя и т.д.), например, для структуры Сr-Cu-Cr, с предварительной ионно-лучевой очисткой
  • Подложки: 60х48мм
  • Загрузка ручная через откидывающуюся верхнюю крышку рабочей камеры: до 23шт
  • Держатель подложек: 24 позиции (1 – для отпыла магнетронов)
  • Рабочая камера: ?500мм, высота 330мм
  • Ионные источники линейного типа апертурой 140 мм для очистки подложек в целях улучшения адгезии: 2 шт
  • Магнетроны постоянного тока (DC): 4 шт

Atis 500-V

  • Установка вакуумного магнетронного распыления с увеличенной загрузкой для серийного производства
  • Назначение: для группового одностороннего напыления на поликоровые подложки металлических покрытий, например, тантала, с предварительной ионно-лучевой очисткой очисткой и возможностью нагрева обрабатываемых подложек до 400°С
  • Подложки: 48х60х1,0мм; 48х60х0,5мм; 48х60х0,25мм; 30х24х0,3мм; 30х24х0,2мм
  • Загрузка ручная на карусель-подложкодержатель: до 65шт 48х60мм
  • Рабочая камера: ?620мм, высота 550мм
  • Ионный источник для очистки подложек в целях улучшения адгезии: 1 шт
  • Магнетроны постоянного тока (DC): 5 шт
  • Максимальная температура ИК нагрева подложек: 400°С

Versus 74

  • Установка вакуумного напыления методом термического испарения для серийного производства
  • Назначение: для группового одностороннего либо двухстороннего напыления на поликоровые, ситалловые и прочие подложки покрытий с предварительной ионно-лучевой очисткой очисткой и возможностью нагрева обрабатываемых подложек до 300°С
  • Подложки: 48х60х1,0мм; 48х60х0,5мм; 48х60х0,25мм; 30х24х0,3мм; 30х24х0,2мм
  • Загрузка ручная на карусель-подложкодержатель: до 40шт 48х60мм
  • Регулируемая скорость вращения карусели: (0?30)об/мин
  • Ионный источник для очистки подложек в целях улучшения адгезии: 1 шт
  • Резистивный испаритель мощностью 2кВт: 1 шт
  • Электронный испаритель с кольцевым катодом мощностью 2,5кВт: 2 шт

Elato 350

  • Установка вакуумного напыления периодического действия для НИОКР и мелкосерийного производства
  • Назначение: для группового нанесения на различные типы подложек металлических покрытий, например, для напыления драгоценных металлов, методом электронно-лучевого или термического испарения,  магнетронного распыления с предварительной ионно-лучевой очисткой
  • Загрузка ручная на карусель-подложкодержатель планетарного или купольного типа
  • Регулируемая скорость вращения карусели: (0?30)об/мин
  • Рабочая камера D-образной формы: ?350мм
  • Технологические устройства монтируются на фланце дна камеры
  • Ионный источник для очистки подложек в целях улучшения адгезии: 1 шт
  • Мощность источника ионного ассистирования: ?1кВт

Elato 600

  • Установка вакуумного напыления для НИОКР и мелкосерийного производства
  • Назначение: для группового нанесения на различные типы подложек металлических покрытий, например, для напыления драгоценных металлов, методом электронно-лучевого или термического испарения,  магнетронного распыления с предварительной ионно-лучевой очисткой
  • Загрузка ручная на карусель-подложкодержатель планетарного типа
  • Рабочая камера D-образной формы: ?600мм
  • Ионный источник для очистки подложек в целях улучшения адгезии (опция): 1 шт
  • Электронно-лучевой источник: 1шт
  • Резистивный испаритель: 1шт
  • Нагреватели: ИК, ТЭН

Elato-Ш

  • Универсальная компактная установка вакуумного напыления для НИОКР и мелкосерийного производства
  • Назначение: для группового нанесения на различные типы подложек покрытий
  • Состав: моноблок — пост вакуумный (камера вакуумная технологическая с внутрикамерной оснасткой, затвор высоковакуумный, камера шлюзовая  с установленной на ней системой вращения подложек), установленный на металлическом каркасе, шкаф электротехнический
  • Загрузка ручная на карусель-подложкодержатель
  • Объем камеры вакуумной технологической: 0,065м3
  • Резистивный испаритель: 1шт
  • Диапазон регулировки расстояния от испарителя до образца: (250?350)мм
  • Нагреватели