IZOVAC

«ИЗОВАК»

Atis 500

Установка вакуумного магнетронного распыления циклического действия для мелкосерийного производства
Назначение: для группового двустороннего напыления на кварцевые, стеклянные, кремниевые и прочие подложки металлических покрытий с высокой равномерностью (подслоя, основного металлического слоя и т.д.), например, для структуры Сr-Cu-Cr, с предварительной ионно-лучевой очисткой
Подложки: 60х48мм
Загрузка ручная через откидывающуюся верхнюю крышку рабочей камеры: до 23шт
Держатель подложек: 24 позиции (1 – для отпыла магнетронов)
Рабочая камера: ø500мм, высота 330мм
Ионные источники линейного типа апертурой 140 мм для очистки подложек в целях улучшения адгезии: 2 шт
Магнетроны постоянного тока (DC): 4 шт

Показать больше

Мишени: ø150мм, толщина (4÷6) мм
Алгоритм обработки: пошаговый — последовательность обработки задается оператором (например, сначала на все подложки подслой, потом основной слой, либо для каждой подложки подслой и сразу нанесение основного слоя)
Производительность при двустороннем напылении: 120 подложек/смену
Неравномерность покрытий: ±2,5%
Замкнутая система охлаждения дистиллированной водой
Рабочие газы: Ar (ГОСТ 10157-79 99,99%, (0,1±0,01)МПа, ≤0,2 л/мин), O₂ (ГОСТ 5583-78 99,7%, (0,1±0,01)МПа, ≤0,2 л/мин), осушенный сжатый воздух (6…8 кг/см²)
Многофункциональный контроль: кварцевый контроль, контроль по сопротивлению или контроль по времени
Вакуумная система: криогенный / турбомолекулярный и безмасляный форвакуумный насосы
Предельное остаточное давление в рабочей камере: 5х10^-4Па
Автоматизированный процесс напыления по заранее составленному рецепту либо ручное управление
Электроэнергия: 380/220±10%В, 50±2%Гц, 10 кВт
Габаритные размеры: 3800х3400х2000мм
Масса: 1000кг

Показать меньше

Atis 500-V

Установка вакуумного магнетронного распыления с увеличенной загрузкой для серийного производства
Назначение: для группового одностороннего напыления на поликоровые подложки металлических покрытий, например, тантала, с предварительной ионно-лучевой очисткой очисткой и возможностью нагрева обрабатываемых подложек до 400°С
Подложки: 48х60х1,0мм; 48х60х0,5мм; 48х60х0,25мм; 30х24х0,3мм; 30х24х0,2мм
Загрузка ручная на карусель-подложкодержатель: до 65шт 48х60мм
Рабочая камера: ø620мм, высота 550мм
Ионный источник для очистки подложек в целях улучшения адгезии: 1 шт
Магнетроны постоянного тока (DC): 5 шт
Максимальная температура ИК нагрева подложек: 400°С

Показать больше

Разброс температур по карусели: не более ± 2°С
Точность установки температуры: ± 2°С
Толщина наносимого покрытия (тантал): до 0,6мкм
Скорость нанесения покрытия (тантал): ≤0,005мкм/мин
Разброс толщины наносимого покрытия: не более ±2%
Независимая рециркуляционная система охлаждения дистиллированной водой
Рабочие газы: Ar (ГОСТ 10157-79 99,99%, (0,1±0,01)МПа, ≤0,2 л/мин), O₂ (ГОСТ 5583-78 99,7%, (0,1±0,01)МПа, ≤0,2 л/мин), осушенный сжатый воздух (6…8 кг/см²)
Методы контроля толщины покрытия: по кварцевому датчику; по резистивному датчику или контроль по времени
Вакуумная система: криогенный / турбомолекулярный и безмасляный форвакуумный насосы
Предельное остаточное давление в рабочей камере: 5х10^-4Па
Время откачки до давления 2×10^-4Па: ≤30мин
Автоматизированный процесс напыления по заранее составленному рецепту либо ручное управление
Электроэнергия: 380/220±10%В, 50±2%Гц
Габаритные размеры: 2900х2300х2400мм
Масса: 1700кг

Показать меньше

Versus 74

Установка вакуумного напыления методом термического испарения для серийного производства
Назначение: для группового одностороннего либо двухстороннего напыления на поликоровые, ситалловые и прочие подложки покрытий с предварительной ионно-лучевой очисткой очисткой и возможностью нагрева обрабатываемых подложек до 300°С
Подложки: 48х60х1,0мм; 48х60х0,5мм; 48х60х0,25мм; 30х24х0,3мм; 30х24х0,2мм
Загрузка ручная на карусель-подложкодержатель: до 40шт 48х60мм
Регулируемая скорость вращения карусели: (0÷30)об/мин
Ионный источник для очистки подложек в целях улучшения адгезии: 1 шт
Резистивный испаритель мощностью 2кВт: 1 шт
Электронный испаритель с кольцевым катодом мощностью 2,5кВт: 2 шт

Показать больше

Максимальная температура нагрева подложек: 300°С
Разброс температур по карусели: не более ± 5°С
Точность установки температуры: ± 5°С
Разброс толщины запыленной пленки по карусели: не более ±5%
Независимая рециркуляционная система охлаждения
Методы контроля толщины покрытия: по кварцевому датчику; по резистивному образцу
Вакуумная система: турбомолекулярный и форвакуумный насосы
Предельное остаточное давление в рабочей камере: 8х10^-5Па
Время откачки до давления 2×10^-4Па: ≤30мин
Опционально: установка магнетронного распыления

Показать меньше

Elato 350

Установка вакуумного напыления периодического действия для НИОКР и мелкосерийного производства
Назначение: для группового нанесения на различные типы подложек металлических покрытий, например, для напыления драгоценных металлов, методом электронно-лучевого или термического испарения, магнетронного распыления с предварительной ионно-лучевой очисткой
Загрузка ручная на карусель-подложкодержатель планетарного или купольного типа
Регулируемая скорость вращения карусели: (0÷30)об/мин
Рабочая камера D-образной формы: ø350мм
Технологические устройства монтируются на фланце дна камеры
Ионный источник для очистки подложек в целях улучшения адгезии: 1 шт
Мощность источника ионного ассистирования: ≤1кВт

Показать больше

Электронно-лучевой источник: 1шт
Мощность ЭЛИ: ≤10кВт
Магнетрон: 1 шт
Резистивный испаритель: 1шт
На верхнем фланце камеры: механизм вращения подложкодержателя, системы нагрева и кварцевого контроля
Нагреватели: ИК, ТЭН
Контролируемый диапазон температуры прогрева рабочего объема камеры в зоне подколпачной арматуры: (0÷750)°С
Комплект внутрикамерных съемных листовых экранов для защиты от запыления
Электронно-лучевые источники с заслонками и защитнымкуполом
Неравномерность покрытий по толщине: не более ±2%
Независимая рециркуляционная система охлаждения дистиллированной водой
Рабочие газы: Ar (ГОСТ 10157-79 99,99%, (0,1±0,01)МПа, ≤0,2 л/мин), O₂ (ГОСТ 5583-78 99,7%, (0,1±0,01)МПа, ≤0,2 л/мин), осушенный сжатый воздух (6…8 кг/см²)
Система кварцевого контроля: для измерения физической толщины наносимых пленок во время распыления, автоматического управления и поддержания заданной скорости нанесения материала
Вакуумная система: криогенный / турбомолекулярный и безмасляный форвакуумный насосы
Предельное остаточное давление в рабочей камере: 1х10^-4Па
Время откачки (без прогрева) до давления 8×10^-4Па: ≤15мин
Натекание в камеру в течение 10 часов: ≤1х10²лПа/с
Контролируемый диапазон рабочего давления в камере при напуске технологического газа: (1х10^-2÷4х10^-2)Па
Автоматизированный процесс напыления по заранее составленному рецепту либо ручное управление (ПК с сенсорной панелью управления, два пульта управления электронно-лучевыми испарителями)
Электроэнергия: 380/220±10%В, 50±2%Гц, ≤35кВт
Габаритные размеры: 1500х1500х2000мм
Масса: 1800кг
Опционально: загрузочный шлюз; система оптического контроля; система контроля по времени

Показать меньше

Elato 600

Установка вакуумного напыления для НИОКР и мелкосерийного производства
Назначение: для группового нанесения на различные типы подложек металлических покрытий, например, для напыления драгоценных металлов, методом электронно-лучевого или термического испарения, магнетронного распыления с предварительной ионно-лучевой очисткой
Загрузка ручная на карусель-подложкодержатель планетарного типа
Рабочая камера D-образной формы: ø600мм
Ионный источник для очистки подложек в целях улучшения адгезии (опция): 1 шт
Электронно-лучевой источник: 1шт
Резистивный испаритель: 1шт
Нагреватели: ИК, ТЭН

Показать больше

Максимальная температура нагрева подложек: 400°С
Независимая рециркуляционная система охлаждения дистиллированной водой
Рабочие газы: Ar (ГОСТ 10157-79 99,99%, (0,1±0,01)МПа, ≤0,2 л/мин), O₂ (ГОСТ 5583-78 99,7%, (0,1±0,01)МПа, ≤0,2 л/мин), осушенный сжатый воздух (6…8 кг/см²)
Система кварцевого контроля: для измерения физической толщины наносимых пленок во время распыления, автоматического управления и поддержания заданной скорости нанесения материала
Вакуумная система: турбомолекулярный и безмасляный форвакуумный насосы
Предельное остаточное давление в рабочей камере: 1х10^-5Па
Автоматизированный процесс напыления по заранее составленному рецепту либо ручное управление
Электроэнергия: 380/220±10%В, 50±2%Гц
Габаритные размеры: 1573х2000х1996мм
Масса: 1200кг
Опционально: загрузочный шлюз; система оптического контроля; система контроля по времени; магнетрон

Показать меньше

Elato-Ш

Универсальная компактная установка вакуумного напыления для НИОКР и мелкосерийного производства
Назначение: для группового нанесения на различные типы подложек покрытий
Состав: моноблок — пост вакуумный (камера вакуумная технологическая с внутрикамерной оснасткой, затвор высоковакуумный, камера шлюзовая с установленной на ней системой вращения подложек), установленный на металлическом каркасе, шкаф электротехнический
Загрузка ручная на карусель-подложкодержатель
Объем камеры вакуумной технологической: 0,065м³
Резистивный испаритель: 1шт
Диапазон регулировки расстояния от испарителя до образца: (250÷350)мм
Нагреватели

Показать больше

Температура прогрева шлюзовой камеры: ≤400°С
Точность поддержания температуры на подложке: ±10°С
Неравномерность по толщине напыляемого слоя на подложку ø76мм (при регулировке расстояния от испарителя до образца): не более ±(1,5÷5)%
Вакуумная система: турбомолекулярный и безмасляный форвакуумный насосы
Предельное остаточное давление в в чистой рабочей камере без оснастки: 5х10^-4Па
Время откачки до давления 5х10^-4Па: ≤30мин
Автоматизированный процесс напыления по заранее составленному рецепту либо ручное управление
Электроэнергия: 380/220±10%В, 50±2%Гц, ≤30кВт
Габаритные размеры: 2350х2090х2400мм
Масса: 1200кг

Показать меньше

Обратная связь

«ИЗОВАК»

Atis 500

Atis 500-V

Versus 74

Elato 350

Elato 600

Elato-Ш

Презентации

Инженерное оборудование

Технологическое оборудование