ООО «ИОНТЕК-нано»

Батискаф-1

  • Установка конфокального магнетронного напыления для НИОКР и мелкосерийного производства
  • Назначение: для нанесения тонких слоев электропроводящих материалов (металлы, полупроводники) и их соединений магнетронным распылением на постоянном токе (режим DC, в том числе, DC импульсный, частота 1?100 кГц), диэлектрических материалов ВЧ магнетронным распылением (режим RF, 13,56 МГц), любых материалов по электропроводности и составу (в том числе, многокомпонентных композиционных материалов) ВЧ магнетронным распылением (режим RF, частота 13,56 МГц)
  • Подложки: пластины до ?150 мм
  • Вращающийся подложкодержатель: ?165 мм
  • Скорость вращения подложкодержателя: 60 об/мин
  • Внутренние размеры процессной сферической камеры: ?520 мм с 6-ю портами Ду 290 мм
  • Дроссельная заслонка на два положения: открыто/закрыто
  • Предварительная ионно-плазменная очистка подложки на подложкодержателе

КРАУДИОН-М2-17/2

  • Установка магнетронного напыления для серийного производства
  • Назначение: для группового нанесения тонких слоев металлов, полупроводников и диэлектриков на плоские и другие типы подложек (например:  напыление барьерных слоев Mo и коммутационных слоев Ni на подложках Bi2Te3)
  • Подложки: пластины ?76 мм, 60?48 мм
  • Загрузка: ?76 мм – 28 шт., 60?48 мм – ?42 шт.
  • 14-тигранный вертикальный барабан со съемными держателями подложек и с приводом вращения
  • Количество стандартных держателей подложек на барабане: 14 шт.
  • Размеры стандартных держателей подложек: (210?85) мм
  • Скорость вращения барабана: (10?30) об/мин

КРАУДИОН-М3-08/3

  • Установка магнетронного напыления для серийного производства
  • Назначение: для группового нанесения пленок одного, двух или трех различных резистивных сплавов (или их комбинации) магнетронным распылением, для нанесения пленок РС-3710, РС-4800, РС-5406 на поликоровые подложки при изготовлении микрополосковых плат
  • Подложки: 60?48 мм
  • Загрузка: 60?48 мм – 22 шт.
  • Легкосъемная плоская вращающаяся карусель с кассетами для крепления подложек, с несъемным сектором для крепления «свидетеля» и регулирующей термопары
  • Количество подложек на карусели: 22 шт. + «свидетель»
  • Скорость вращения карусели: (10?60) об/мин
  • Размеры процессной камеры: 650?300 мм

КРАУДИОН-М3-08/4

  • Установка магнетронного напыления для серийного производства
  • Назначение: для группового двухстороннего нанесения пленок проводящих материалов магнетронным распылением: нанесения адгезионного / барьерного слоя Cr, V, Ti и др.;  нанесения одним, двумя или тремя магнетронами одновременно пленочных покрытий Сu, Ni и др. толщиной до 15 мкм и более; для двухсторонней металлизации поликоровых пластин при изготовлении микрополосковых плат
  • Подложки: 60?48 мм
  • Загрузка: 60?48 мм – 12 шт.
  • Вращающаяся карусель с функцией поворота кассет с подложками
  • Скорость осевого вращения карусели: (10?40) об/мин
  • Размеры процессной камеры: ?650?300 мм
  • Предварительный нагрев подложек 3-мя резистивными нагревателями (сверху карусели): до ?350 °С

КРАУДИОН-М3-09/2

  • Установка магнетронного напыления для серийного производства
  • Назначение: для группового нанесения пленок электропроводящих материалов (в том числе ферромагнитных) магнетронным распылением на постоянном токе (DC); нанесение диэлектрических пленок ВЧ магнетронным распылением мишеней из диэлектриков, магнетронным распылением на постоянном токе (режим DC pulsed, ?40 кГц) мишеней из электропроводящих материалов в смеси инертного и реактивного газов (реактивное распыление); чередование процессов DC и высокой частоты (RF, 13,56 МГц) магнетронного распыления; для напыления пьезоэлетрических пленок ZnO в производстве устройств на поверхностных акустических волнах (ПАВ) и объемных акустических волнах (ОАВ)
  • Подложки: пластины ?100 мм; опционно 60?48 мм
  • Загрузка: ?100 мм – 8 шт.
  • Вращающаяся карусель с позициями для размещения пластин
  • Скорость вращения карусели: (10?60) об/мин
  • Размеры процессной камеры: ?600?300 мм
  • Предварительный нагрев подложек 3-мя резистивными нагревателями (снизу карусели): до ?350 °С

КРАУДИОН-М3-12/2RF

  • Установка магнетронного напыления для мелкосерийного производства
  • Назначение: для группового нанесения покрытий резистивныхсплавов РС-3710, РС-5402, К-50С (кермет) и других методами магнетронного распыления напостоянном токе (DC) и высокой частоте (RF, 13,56 МГц)
  • Подложки: 60?48 мм, пластины ?76 мм
  • Легкосъемная плоская вращающаяся карусель с кассетами для крепления подложек, с несъемным сектором для крепления «свидетеля» и регулирующей термопары
  • Количество подложек на карусели: 7шт. + «свидетель»
  • Скорость вращения карусели: (10?60) об/мин
  • Предварительный нагрев подложек 4-мя резистивными нагревателями (два снизу и два сверху карусели) с контрольными термопарами: до ?350 °С
  • Поддержание заданной температуры (контроль по термопаре, закрепленной на вращающейся карусели) во время процессов ионной очистки и напыления

КРАУДИОН-М3-15/2Ф

  • Установка конфокального магнетронного напыления для НИОКР и мелкосерийного производства
  • Назначение: для нанесения покрытий любых материалов (металлы, полупроводники, диэлектрики) методом конфокального магнетронного напыления на постоянном токе (DC, DС pulsed) или ВЧ распылением (RF), покрытий соединений электропроводящих материалов, в том числе диэлектрических, распылением на постоянном токе (DC, DС pulsed) в смеси аргона с реактивным газом, композиционных покрытий, в том числе чередующихся, многослойных или градиентных по составу, совместным распылением из двух или трех конфокальных магнетронов
  • Подложки: пластины до ?125 мм
  • Размеры процессной камеры: ?420?345 мм
  • Вращающийся вокруг своей оси легкосъемный экранированный изолированный подложкодержатель SH-150-RBТW с функцией подачи DC/RF напряжения смещения
  • Скорость вращения подложкодержателя: 30 об/мин
  • Предварительный нагрев для обезгаживания подложки в вакууме при вращении подожкодержателя: до ?300 °С
  • Поддержание заданной температуры, контроль температуры подложки при ее обезгаживании, ионно-плазменной очистке и во времяпроцесса напыления при помощи пирометра