АО «Кварц»

Оратория 29М

  • Автоматизированная установка вакуумного напыления (магнетронного распыления) для серийного производства
  • Назначение: для нанесения металлических пленок алюминия, титана, никеля, молибдена при производстве изделий электронной техники и пр.
  • Подложки: пластины ?76 мм, ?100 мм
  • Загрузка: автоматическая загрузка пластин на конвейер из кассеты и выгрузку пластин в кассету, счет загружаемых и выгружаемых пластин, световую и звуковую сигнализацию об окончании загрузки и выгрузки пластин
  • Производительность: ? 100 пластин в час
  • Регулируемая скорость конвейера: (120?400) мм/мин
  • Ручное управление скоростью конвейера, током нагревателя пластин
  • Возможность корректировки параметров режима во время процесса без его останова («ручной режим»)
  • Возможность создавать любые новые техпроцессы самостоятельно

Оратория 5-1 / 5М

  • Автоматизированная установка вакуумного напыления (магнетронного распыления) для серийного производства
  • Назначение: для нанесения металлических пленок алюминия, титана, никеля, молибдена при производстве изделий электронной техники и пр.
  • Подложки: пластины ?76 мм, ?100 мм, ?150 мм, 60х48 мм
  • Одновременная загрузка подложек: 60х48 мм – до 15 шт., ?76 мм – до 15 шт.
  • Загрузка: шлюзовая камера для загрузки-выгрузки пластин
  • Производительность: ? 150 пластин в час для пластин ?76 мм
  • Температура нагрева подложек: (100?500)°С
  • Нагрев подложек: кварцевыми галогеновыми лампами

Оратория 9-1 / 9М

  • Автоматизированная установка вакуумного напыления (методом термического испарения) для серийного производства
  • Назначение: для осаждения многослойных тонких пленок из металлов, сплавов и диэлектриков методом термического испарения материала электроннолучевыми испарителями на кремниевые подложки
  • Подложки: пластины до ?100 мм
  • Количество подложек на сферической карусели: 40шт.
  • Цилиндрическая рабочая камера
  • Температура нагрева подложек: (100?350)°С
  • Нагрев подложек: блок ИК- нагрева
  • Роторно-планетарное подколпачное устройство

УВН-74П-3М-(1/2/3)

  • Автоматизированная установка вакуумного напыления (термического или магнетронного) для НИОКР и серийного производства
  • Назначение: для двухстороннего нанесения проводящих слоев различных материалов методом термического, или магнетронного напыления пленочных элементов и схем на ситалловых и поликоровых подложках
  • Подложки: 30х24х0,6 мм (1), 60х48 мм ( 1 / 2 / 3 )
  • Одновременная загрузка подложек: 30х24х0,6мм – до 160шт. (1), 60х48мм – до 40шт. (1/2) / до 60 шт. (3)
  • Размеры рабочей камеры: ?700х550 мм
  • Температура нагрева подложек: (100?350)°С ( 1 / 2 / 3 )
  • Безшестереночный барабан вращения подложек
  • Скорость вращения: (10?60) об/мин ( 1 / 2 / 3

УВН-71П-3М-1

  • Автоматизированная установка вакуумного напыления (термического испарения) для серийного производства
  • Назначение: для одностороннего нанесения резистивных и металлических слоев в высоком вакууме методом термического испарения на керамические, кремниевые и другие плоские подложки
  • Подложки: пластины до ?100 мм, 60х48 мм
  • Одновременная загрузка подложек: 60х48мм – до 19шт.
  • Размеры рабочей камеры: ?500х640 мм
  • Температура нагрева подложек: (100?350)°С
  • Скорость вращения карусели: (10?60) об/мин
  • Ионная очистка подложек