ООО НПК «ТехМашСервис»

ИЗОПЛАЗ и аналоги

  • Установки химического осаждения из газовой фазы при низком давлении с плазменной активации для промышленного производства
  • Назначение:  для образования тонких пленок (в т.ч.  SiС, SiO2, Si3N4, ФСС и т.д.) методом химического осаждения из газовой фазы с плазменной активации (PECVD), а также для процессов отжига, восстановления, гидролиза и пр.
  • Режимы работы: автоматический и полуавтоматический
  • Подложки: пластины ?100 мм, ?150 мм
  • Автоматическая загрузка
  • Количество реакторов (труб) в установке: 1, 2, 3 или 4
  • Частота генератора: 440 кГц и 13,56 мГц

ИЗОТРОН и аналоги

  • Установки химического осаждения из газовой фазы при пониженном давлении для промышленного производства
  • Назначение:  для образования тонких пленок (в т.ч.  Si, SiС, SiO2, Si3N4, ФСС, Ge, GaN и т.д.) методом химического осаждения из газовой фазы при пониженном давлении в реакционной камере (LPCVD), а также для процессов отжига, восстановления, гидролиза и пр.
  • Режимы работы: автоматический и полуавтоматический
  • Подложки: пластины ?76 мм, ?100 мм, ?150 мм
  • Количество реакторов (труб) в установке: 1, 2, 3 или 4
  • Длина рабочей зоны реактора: (600?900) мм
  • Диапазон рабочих температур: (400?900) °С