Недорогая
полностью автоматизированная компактная настольная установка плазменной очистки
базового уровня для НИОКР, мелкосерийного производства, университетов; подложки
до (4″x 5,5″)
Один
горизонтальный электрод – 4,5″ x 6″; зазор – 2,5″
Генератор:
400Вт, 50кГц с плавным регулированием мощности
Регулировка
газового потока: два ротаметра (0÷25) см3/мин с прецезионными
игольчатыми клапанами, возможность использования двух газов одновременно
Недорогая
компактная базового уровня настольная установка очистки плазмой низкого
давления с увеличенным объемом рабочей камеры для НИОКР, мелкосерийного
производства, университетов; подложки до (6″x 7″)
Один
горизонтальный электрод – 7″ x 8″; зазор – 2,5″
Генератор:
400Вт, 50кГц с плавным регулированием мощности
Регулировка
газового потока: два ротаметра (0÷25) см3/мин с прецезионными
игольчатыми клапанами, возможность использования двух газов одновременно
Недорогая
полностью автоматизированная компактная настольная установка плазменной очистки
в вакуумной среде базового уровня для НИОКР, мелкосерийного производства,
университетов; подложки до (6″x 7″)
Один
горизонтальный электрод – 7″ x 8″; зазор – 2,5″
Генератор:
400Вт, 50кГц с плавным регулированием мощности
Регулировка
газового потока: два ротаметра (0÷25) см3/мин с прецезионными
игольчатыми клапанами, возможность использования двух газов одновременно
Недорогая базового уровня установка для плазменного озоления, удаления фоторезаста с протравленных пластин для НИОКР, мелкосерийного производства, университетов
Подложки до (8″x 9″)
Обработка подложек фторсодержащей или кислородсодержащей плазмой
Один горизонтальный электрод – 9″ x 10″; зазор – 5,5″
Недорогая
полностью автоматизированная базового уровня установка для плазменного
озоления, удаления фоторезаста с протравленных пластин для НИОКР, мелкосерийного производства,
университетов
Подложки
до (8″x 9″)
Обработка
подложек фторсодержащей или кислородсодержащей плазмой
Один
горизонтальный электрод – 9″ x 10″; зазор – 5,5″
Полностью
автоматизированная настольная плазменная установка для НИОКР, медучереждений,
производства, университетов
Стандартные
конфигурации: 1 – для плазменной очистки/плазменного травления; 2 – для
реактивно-ионного травления; 3 – трансформируемая конфигурация – обеспечивает изотропные
и анизотропные плазменные процессы в одной системе
Подложки
до (8″x 12″)
Три
горизонтальных электрода (3 уровня) –
9″ x 13″; зазор – 3″
Полностью
автоматизированная настольная промышленная плазменная установка
Возможные
конфигурации: 1 – для плазменной очистки/плазменного травления; 2 – для
реактивно-ионного травления; 3 – трансформируемая конфигурация – обеспечивает
изотропные и анизотропные плазменные процессы в одной системе
Подложки
до (12″x 15″)
Три
горизонтальных электрода (3 уровня) –
13″ x 16″; зазор – 3″
Промышленная
плазменная установка для плазменной очистки, плазменного травления, для
реактивно-ионного травления и прочих плазменных процессов в полупроводниковом
производства, микроэлектронике, при производстве солнечных элементов, печатных монтажных
плат и пр.
Пять
горизонтальных электрода (5 уровней) –
20″ x 21″; зазор – 3″
Генератор:
600Вт, 13,56МГц с плавным регулированием мощности и системой автоматического
регулирования
Регулировка
газового потока: один РРГ (0÷200) см3/мин
