CRESTEC

CRESTEC CABL-9000C

  • Система электронно-лучевой литографии
  • Источник электронов / ускоряющее напряжение: TFE (ZrO / W) / 5?50 кВ
  • Минимальный диаметр электронного пучка / минимальная ширина линии: 2 нм / 10 нм гарантированно
  • Метод сканирования: векторное сканирование (x, y)
  • Векторное сканирование (r, ?) ? в базовой комплектации. Растровое сканирование, точечное сканирование ? опционально
  • Расширенные литографические функции (опционально): модуляционная литография по размеру поля, литография с осевой симметрией
  • Размер поля: 30 мкм2, 60 мкм2, 120 мкм2, 300 мкм2, 600 мкм2? в базовой комплектации; 1200 мкм2, 2400 мкм2 ? опционально
  • Количество пикселей: 20,000 ? 20,000 точек; 60,000 ? 60,000 точек ? в базовой комплектации

CRESTEC CABL-UH

  • Система электронно-лучевой литографии со сверхвысоким разрешением
  • Источник электронов / ускоряющее напряжение: TFE (ZrO / W) / 25 ~ 130 kV
  • Минимальный диаметр электронного пучка / минимальный ширина линии: 1,6 нм / 7,0 нм
  • Метод сканирования: векторное сканирование (x, y). Векторное сканирование (r, ?) ? в базовой комплектации. Растровое сканирование, точечное сканирование ? опционально
  • Расширенные литографические функции (опционально): модуляционная литография по размеру поля, литография с осевой симметрией
  • Размер поля: 30 мкм2, 60 мкм2, 120 мкм2, 300 мкм2, 600 мкм2 ? в базовой комплектации; 1200 мкм2, 2400 мкм2 ? опционально
  • Количество пикселей: 20,000 ? 20,000 точек; 60,000 ? 60,000 точек; 96,000 ? 96,000 точек; 240,000 ? 240,000 точек (векторное сканирование) ? в базовой комплектации
  • 10,000 ? 10,000 точек (растровое сканирование) ? опционально